Плазма - разряд
Cтраница 1
Плазма разряда находится в квазиравновесном состоянии, поэтому можно применять уравнение Саха-Эггерта. [1]
Плазма разряда может быть изотермичной и неизотермичной. При изотермичной плазме температуры электронного и молекулярного газов раины и роль электрического поля состоит лишь в сообщении плазме, конечно, через электронный газ, энергии, достаточной для поддержания высокой температуры. В такой горячей изотермической плазме концентрации различных частиц определяются термодинамическим равновесием и могут быть подсчитаны, если известны соответствующие константы равновесия и температуры, по обычным формулам термодинамики. Механизм химических реакций внутри изотермической плазмы не отличается от механизма реакций, протекающих при высокой температуре, созданной в системе любым другим способом. В этом случае говорят о термической активации реакций в разряде, которая должна изучаться в общем плане теории термических реакций. [2]
Плазмой разряда называется область, в которой концентрация положительных ионов Л / 1 и электронов Ne равны между собой; предполагается, что отрицательные ионы отсутствуют. [3]
 |
Электрическая схема питания и поджига разряда ( а, стабилизированного двумя капиллярами ( б и аксиально-вихревым потоком ( в. [4] |
Температура плазмы разряда существенно зависит от амплитудного значения тока в импульсе. Однако в сильноточных разрядах в открытом объеме усиливается влияние электродных факелов на структуру разрядного облака. Состав плазмы такого разряда определяется как окружающей атмосферой, так и материалом электродов и трудно поддается контролю. [5]
Число атомов в плазме разряда пропорционально концентрации С определяемого элемента в пробе: N0: p ( Cm) C, где Р ( Ст) - коэффициент, зависящий от качественного состава пробы и концентраций всех компонентов в ней. [6]
Концентрация атомов в плазме разряда определяется скоростью как поступления их из пробы, так и удаления атомов из зоны разряда, зависящей от диффузии и уноса конвекционными потоками. Положительное действие носителя заключается, вероятно, и в том, что в стабильно горящей дуге, в плазме которой содержится значительное количество атомов и ионов носителя, поддерживающего разряд, процесс диффузионного и конвекционного уноса замедлен. В таком случае концентрация примесей в плазме и, соответственно, интенсивности их линий должны возрастать. [7]
Концентрация атомов в плазме разряда, как было показано выше, определяется как скоростью поступления пробы из кратера электрода, так и скоростью удаления атомов из зоны разряда, зависящей от диффузии и уноса их конвекционными потоками. Положительное действие носителя заключается в том, что он изменяет электрические и термические параметры плазмы дуги, а также увеличивает эффективное время пребывания возбужденных атомов в зоне разряда, уменьшая скорости диффузии и конвекционного переноса. [8]
Число атомов в плазме разряда пропорционально концентрации С определяемого элемента в пробе: Nop ( Cm) C, где р ( Ст) - коэффициент, зависящий от качественного состава пробы и концентраций всех компонентов в ней. [9]
Число атомов в плазме разряда пропорционально концентрации С определяемого элемента в пробе: No p ( Cm) C, где р ( Ст) - коэффициент, зависящий от качественного состава пробы и концентраций всех компонентов в ней. [10]
В результате теплового контакта плазмы разряда с жидкостью происходит ее разогрев и испарение с образованием газового пузыря. Давление газа в пузыре достигает ( 10 - 100) - 105 Па, по окончании импульса разряда оно резко падает до значений ниже атмосферного. Резкое падение давления над расплавленным перегретым металлом ведет к выбросу его из лунки в виде капель жидкой фазы при температурах ниже температуры кипения металла. Жидкие микропорции металла в виде капель выбрасываются во внутреннюю полость схлопывающегося пузыря на его стенки. В результате соприкосновения с рабочей жидкостью продукты эрозии застывают в виде гранул шарообразной формы. При схлопывании пузыря продукты эрозии выталкиваются из межэлектродного зазора ударными волнами вместе с окружающей их жидкостью. Этот процесс происходит во время пауз между электрическими импульсами. В этот момент межэлектродный зазор должен полностью очиститься от продуктов эрозии электродов, а рабочая жидкость - полностью восстановить электрическую прочность, обеспечивающую постоянство напряжения пробоя и зазора при обработке. [11]
Элемент D, попадая в плазму разряда, меняет условия возбуждения спектра, например, снижая температуру плазмы. [12]
Несколько слов о внутренней энергии w плазмы разряда и ее зависимости от температуры. [13]
Следует иметь в виду, что плазма разряда может быть изотермической и неизотермической. В изотермической плазме температуры электронного и молекулярного газа одинаковы и роль электрического поля состоит лишь в сообщении плазме, конечно через электронный газ, энергии, достаточной для поддержания высокой температуры. В такой горячей изотермической плазме концентрации различных частиц определяются термодинамическим равновесием и могут быть подсчитаны, если известны соответствующие константы равновесия и температуры, по обычным термодинамическим уравнениям. Механизм химических реакций в изотермической плазме не отличается от механизма реакций, протекающих при высокой температуре, созданной в системе любым другим способом. [14]
 |
Штатив ПС-162.| Штатив для анализа готовых изделий. [15] |
Страницы: 1 2 3 4