Плазмообразование

Cтраница 2

Для подачи материала в сопло применяют инертные но отношению к наносимым и обрабатываемым материалам газы. При использовании смеси газов для плазмообразования транспортировка материала производится наиболее дешевым и безопасным газом. Например, при использовании в качестве плазмообразующих газов и смеси азота и водорода для подачи материала применяется азот. [16]

При необходимости вывода пучка в вакуум чаще используют бесфольговые диоды с магнитной изоляцией. В этом случае не возникает проблем, связанных с испарением и плазмообразованием на аноде, его ресурсом и увеличением поперечной температуры пучка после прохождения анода. В [13] приведены типичные конфигурации бесфольговых диодов и теоретические модели генерации мощных электронных пучков. [17]

Цельнометаллический микроволновый плазмотрон, работающий на принципе трансформации электромагнитной волны HQI в волну Нц при стыковке прямоугольного и круглого волноводов под углом 90 ( плазмотрон с поперечным возбуждением микроволнового разряда. W - поток электромагнитной энергии. Q - поток плазмообразующего газа. [18]

Тем не менее сохраняется необходимость иметь диэлектрическую вставку между магнетроном и зоной плазмообразования. Дело в том, что плазмообразующий газ, вводимый в круглый волновод, не должен распространяться по прямоугольному волноводу. Это относится к любому газу, тем более к технологическим газам, обладающим высокой химической активностью. Следовательно, в каком-то месте прямоугольного волновода необходимо герметично вмонтировать вставку из диэлектрического материала, прозрачную к потоку электромагнитной энергии, но непроницаемую для газа. [19]

В работе [63] метод ВЧИСП использован для определения 21 элемента в работавших маслах и нефтях. СФМ фирмы ARL модель QA-137 работал при следующих параметрах: рабочая частота 27.12 МГц, входная мощность 1700 Вт, расход аргона на плазмообразование 10 5 л / мин, расход аргона-носителя 0 7 л / мин, расход образца 1 8 мл / мин, время интегрирования 10 с, тзысота наблюдения над индукционной катушкой 18 5 мм. Установлено, что при 30-кратном избытке молибдена и кальция наблюдается значительное усиление сигнала алюминия. Поправки с учетом этих помех - включены в программу анализа. [20]

Несколько первых экспериментов были выполнены на установке, представленной на рис. IV.6, в которой плазменная струя входила в медную ловушку, охлаждаемую жидким азотом. В таком аппарате могла быть достигнута большая скорость охлаждения продуктов реакции, но в нем, к сожалению, происходил разряд между ловушкой и зоной плазмообразования, даже если ловушка была под плавающим потенциалом. На рис. IV.7 приведена фотография, на которой показано то же явление, когда рядом с разрядной трубкой помещали металлический стержень. В результате плазма очень часто перемещалась к стенке трубки и разрушала ее; в некоторых случаях полностью прекращался разряд. [21]

В обзоре [82] представлены результаты по экспериментальному исследованию режимов горения оптических разрядов вблизи поверхности металлов. В частности, отмечается, что при воздействии непрерывного излучения ССЬ-лазера мощностью 1 кВт и радиусом фокусировки 0 3 - 0 4 мм на вольфрам процесс плазмообразования в воздухе сопровождался вытягиванием оптического пульсирующего во времени разряда, причем следует подчеркнуть, что вывод мишени из зоны воздействия луча приводил к исчезновению факела паров и оптического разряда. В [82] приведены данные по изменению электрических полей и токов, протекающих по мишени, при эволюции лазерной плазмы. Динамика электрического тока мишени различается для распространения оптического разряда в режиме световой детонации и для безотрывного от мишени существования лазерной плазмы. В случае безотрывного существования приповерхностной плазмы токовый сигнал приобретает принципиально иной ( пульсирующий) характер. [22]

Схема устройства проволоч - [ IMAGE ] Схема устройства порошковой ной газопламенной распылительной го - газопламенной распылительной головки. [23]

Сущность этого процесса заключается в том, что металл, расплавленный плазменной струей, распыляется и наносится на восстанавливаемую поверхность теми же газами, которые применяют для плазмообразования и защиты. [24]

Плазмотрон установки Монокристалл ПД-3. [25]

В этом случае не применим тангенциальный способ подачи плазмообразующего газа, так как в плазмотроне образуются восходящие потоки газа, препятствующие транспорту порошка в зону кристаллизации. Плазмообра-зующий газ подается вдоль стенки разрядной камеры через кольцевое пространство толщиной около 1 5 мм, образованное наружной и промежуточной кварцевыми трубками 3 плазмотрона, причем промежуточная трубка не доходит до зоны плазмообразования. [26]

Диаграмма состоит из четырех областей. Область / отвечает интервалу скоростей, при которых реализуются пластические свойства материала ( дислокационная пластичность), область текучести / / связана с преобладанием ротационной моды деформации, область III отвечает взрывному испарению, область IV - плазмообразованию. [27]

Если желательно вводить реагенты в твердой или газовой фазе в центральную зону плазмы, следует отказаться от тангенциального ввода плазмообразующего газа, так как в этом случае в плазматроне образуются восходящие потоки газа. Тогда плазмообразующий газ подается вдоль кварцевой трубки через кольцо толщиной - 1 5 мм, образованное кварцевыми трубками плазматрона, наружной и промежуточной, причем, как показано на рис. II 1.3, промежуточная трубка не доходит до зоны плазмообразования. Эта трубка должна быть точно отцентрирована, так как ее положение определяет симметрию плазмы и удерживает плазму от соприкосновения со стенками внешней трубки плазматрона. [28]

С помощью плазменной струи, имеющей высокую температуру, практически можно наносить любые тугоплавкие материалы ( вольфрам, диоксид циркония, оксид алюминия), а также карбиды, бориды, нитриды и другие тугоплавкие соединения с высокой скоростью и равномерностью. Применение для плазмообразования и защиты нейтральных газов - аргона, азота и их смесей способствует минимальному выгоранию легирующих элементов и окислению частиц. Поэтому покрытия, полученные плазменной металлизацией, характеризуются более высокими механическими свойствами по сравнению с покрытиями, полученными электрической металлизацией. [29]

Схематический рисунок плазменной головки с газовой стабилизацией. [30]

Страницы: 1 2 3