Пленка - окись - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Глупые женятся, а умные выходят замуж. Законы Мерфи (еще...)

Пленка - окись

Cтраница 2


Толщина пленок окиси тантала, выращенных при плотности тока 1 - 2 мА / см2 и напряжениях смещения от 75 до 250 В, линейно зависит от напряжения. Эта зависимость выполняется в широком диапазоне толщин - от нескольких сотен до более чем трех тысяч ангстрем.  [16]

17 График изменения величины у в окисле Fei O, образовавшемся на железе при 900 С, в зависимости от расстояния. [17]

В пленках окиси цинка Z nO участок около поверхности раздела металл - окисел обогащен меж-доузельными ионами цинка и электронами. В пленках же закиси меди атионных: вакансий и ионов двухвалентной меди у поверхности металла содержится мало, тогда как на поверхности раздела окисел - газ концентрации и тех и других больше. В обоих случаях концентрация неметаллического компонента убывает, разумеется, от поверхности раздела газ - окисел к поверхности раздела окисел - металл, а концентрация металла в том же направлении возрастает.  [18]

Очищенный от пленки окиси маленький кусочек калия ( величиной с булавочную головку) бросить в кристаллизатор с водой. Калий тотчас загорается, горит фиолетовым пламенем и двигается по поверхности воды. В конце реакции всегда происходит легкое разбрызгивание, так что не следует стоять очень близко или наклоняться над кристаллизатором.  [19]

При пайке пленка окиси с детали может быть также удалена механическим путем. Для этого расплавленным припоем заполняют свариваемый шов и шабером или стальной щеткой под слоем расплавленного припоя механически удаляют оксидную пленку. Удалять пленки можно также палочкой припоя, в которую введен абразив.  [20]

При пайке пленка окиси с деталей может быть также удалена механическим путем. Для этого расплавленным припоем заполняют свариваемый шов и шабером или стальной щеткой под слоем расплавленного припоя механически удаляют оксидную пленку. Удалять пленки можно палочкой припоя, в которую введен абразив.  [21]

Так как пленка окиси тантала обладает большей диэлектрической проницаемостью и меньшей толщиной при тех же рабочих напряжениях, объем конденсатора с танталовым анодом ( его сокращенно называют танталовым конденсатором) на единицу емкости может быть меньше, чем объем конденсатора с алюминиевым анодом. Кроме того, тантало-вые конденсаторы могут работать при температурах до 100 С ( в то время как рабочая температура конденсаторов с алюминиевыми анодами обычно не превышает 60 - 70 С), их емкость при изменении температуры изменяется в меньших пределах, токи утечки у них меньше.  [22]

Получающаяся черная бархатистая пленка окиси меди имеет толщину около 1 мкм.  [23]

Интересной особенностью пленок окиси олова является их высокая прозрачность.  [24]

Непрерывное снятие пленки окиси кальция приводит к изменению внешнего теплоподвода и внутреннего теплопереноса.  [25]

26 Параллелизм изменения томновой проводимости а - и яркости свечения - о в прогретых пленках ZnO.| Изменения положения края основного поглощения ZnO в зависимости от температуры. а - при - 140 С, 6 -при 20 С и с - при 100 C.| Изменение положения длинноволнового края поглощения пленок ZnO. [26]

Спектр поглощения пленок окиси цинка лежит в ультрафиолетовой области, причем полоса основного поглощения резко обрывается при - 380 Mi.  [27]

28 Эквивалентные схемы электродов. [28]

При утолщении пленки окиси меди ( с ростом количества пропущенного электричества от 0 7 до 14 7 к / см2), а также при понижении температуры ( от 82 до 58) и концентрации щелочи ( от 6 25 до 1 25 N) происходит постепенное уменьшение углового коэффициента.  [29]

С утолщением пленки окиси меди или при понижении температуры и концентрации щелочи процесс на некоторых участках поверхности электрода начинает лимитироваться третьей стадией, так как сопротивление пленки возрастает. Поэтому угловой коэффициент поляризационных кривых в указанных условиях постепенно уменьшается.  [30]



Страницы:      1    2    3    4