Cтраница 2
На кварцевую пластину ( прозрачную для ультрафиолетового света) наносят пленку титана, затем методом обычной фотолитографии из пленки титана создают требуемый рисунок элементов и окисляют титан до двуокиси титана. Ее специфическим свойством является сильное поглощение ультрафиолетового света. Затем напыляют сплошной слой палладия, который обладает специфическим свойством чувствительного к ультрафиолетовому свету фотозмиттера, устойчивого на воздухе. Получившийся трафаретный фотокатод представляет собой электронно-оптический эквивалент маски, используемой в фотооптическом процессе. Проекционная система исключает возможность механического износа маски или механического повреждения кремниевой подложки. Поэтому фотокатод-маска имеет большой срок службы и ее необходимо лишь обновить, когда палладиевая пленка снизит свою эмиссию. [16]
Благодаря наличию катодного экрана в виде кольца предотвращается возможность образования на поверхности расплава сплошной ( от катода до анода) пленки титана, что могло бы привести к короткому замыканию и вызвать загрязнение рафинированного металла. [17]
На поверхность микроструктуры со вскрытыми в двуокиси кремния отверстиями к областям затворного поликремния и исток / стока монокремния МОП транзисторов наносится пленка титана, обычно методом ФОГФ. [18]
Затем проводится удаление ( селективное жидкостное стравливание) в растворе Н2О2: NH4OH: Н2О 1: 1: 5 не прореагировшей пленки титана с поверхности микроструктуры. [19]
Так же, как и в предыдущей конструкции ионно-гет-терного насоса, откачка активных газов орбитронным ионно-геттерным насосом идет путем поглощения их пленкой титана, непрерывно наносимой на внутреннюю поверхность корпуса насоса. [20]
Откачка инертных газов и углеводородов осуществляется в результате их ионизации и улавливания положительных ионов отрицательно заряженными элементами насоса, на которые также напыляется пленка титана. [21]
Было исследовано большое число окислов других металлов, особенно тугоплавких. Фуллер [104] анодировал пленки титана, полученные химическим осаждением на керамические подложки. Этот метод был использован для изготовления конденсаторов и резисторов на одной подложке. [22]
Осаждение возможно только в виде тонких вок 1 мкм или в виде сплавов ругими металлами, причем образуйся пленки в большинстве своем вставляют смесь окислов. Аз неводных сред пленки титана 02 мкм) могут быть получены из створов TiCl4 в диметилсульфоксиде и его смеси с этиловым спиртом. [23]
Взаимное расположение элементов насоса обеспечивает осаждение паров титана на внутреннюю поверхность водоохлаждаемого корпуса, исключая попадание титана в рабочий объем установки. Поглощение остаточных газов свеженапыленными пленками титана осуществляется через зазоры между крышкой, дном, экраном и обечайкой. При токе нагревателя 40 а и мощности 1 100 вт расход титана составляет 0 15 г / ч, а скорость откачки при давлении 1 10 - 5 мм рт. ст. равна 400 л / сек. [24]
Иногда при работе насосов наблюдают короткое замыкание между электродами насоса, сопровождающееся сильным шумом. Замыкание обычно вызывается отслаивающимися пленками титана, и его можно устранить, пропуская значительный ( порядка нескольких ампер) электрический ток при низком напряжении, для чего используют дополнительный источник питания, например низковольтный трансформатор. [25]
Принцип действия испарительных геттерных насосов основан на физическом и химическом связывании газов на поверхности и в объеме активных веществ - геттеров. В качестве геттеров могут быть использованы пленки титана, бария, циркония и других химически активных металлов. Обновление пленок производят путем термического испарения соответствующего металла и последующего осаждения его на охлаждаемой поверхности стенок корпуса насоса или на специальные металлические листы, поме щенные в вакуумной камере. [26]
В результате бомбардировки катода ионизированными молекулами газа титан распыляется, захватывает ионизированные молекулы газа и покрывает тончайшим слоем стенки насоса и цилиндрического анода. Ионы внедряются в поверхность напыленного металла и замуровываются вновь образующимися слоями пленки титана. [27]
После достижения рабочей температуры источника выделение из него газа постепенно уменьшается, а вакуум в системе соответственно улучшается. Этот процесс ускоряется, если напыляемая пленка обладает хорошими генерирующими свойствами, например, пленка титана. [28]
Последние под воздействием электрического поля, создаваемого системой сеток, вынуждены направляться к стенкам, где они задерживаются и поглощаются пленкой титана. [29]
Титан может применяться также для получения защитного покрытия основных металлов. При электролизе расплавленных фторида титана, фторида калия и галоидных солей щелочных или щелочно-земельных металлов в атмосфере инертного газа толщина слоя титанового покрытия получается равной 0 127 мм. Под пленкой титана находится тонкий слой сплава титана с основным металлом. Слой титана более 0 127 мм может быть получен повторным электроосаждением. [30]