Никелевая пленка

Cтраница 2

ЗН. Зависимость толщины фторпд - iioii пленки, образующейся ла ппкеленых покрытиях различного тина и среде фтора при 100 С, от длительности. кспо, ищш1. [16]

Другой причиной повышенной стойкости карбонильных никелевых пленок может быть их повышенная химическая чистота. [17]

Рассмотрим в качестве примера приготовление никелевой пленки. [18]

Другим примером является напряжение в никелевых пленках, которое может вызывать заметное сжатие в пленке после ее удаления С катода. [19]

Электронномикроскопи-ческий снимок ( 1 X 7400 поверхности карбонильной никелевой пленки толщиной 20 мкм, полученной при температуре подложки 200 С. [20]

Это объясняется отсутствием пор в карбонильных никелевых пленках и подтверждается с помощью электронного микроскопа ( рис. 85) и железороданидным методом. [21]

Электронно-микроскопический снимок оттененной реплики поверхности поликристаллической пленки никеля, напыленной на стекло при 273 К. [22]

Как указывалось выше, работа выхода для никелевых пленок, напыленных при 77 и 273 К, составляет 4 5 - 4 6 и - 5 0 эВ соответственно; после их отжига она увеличивается и достигает значений, характерных для низкоиндексных граней. [23]

Различные плоскости решетки кристалла никеля. [24]

Ими было найдено, что каталитическая активность никелевой пленки при гидрогенизации этилена в том случае, когда плоскости ( ПО) всех кристалликов расположены параллельно материалу носителя, в пять раз больше, чем в случае беспорядочного расположения кристалликов. [25]

Опыты Бика [35] и Трэпнела [36] на вольфрамовых и никелевых пленках ( а также недавние работы в лаборатории Ридиэла) показали, что, когда этилен приводится в контакт с чистой металлической поверхностью, в газовой фазе появляется зтан. В этих случаях должен быть эффективен механизм самогидрирования и диссоциации этилена на катализаторе. Расчет этого процесса, по-видимому, усложняется вследствие деформации связей при адсорбции молекулы этилена на кристаллической решетке с заданной геометрией. [26]

Наоборот, реакция водорода из газовой фазы на никелевой пленке, насыщенной этиленом, протекает медленно и дает примерно 10 % С2Н6 и 90 % более сложных углеводородов. [27]

Электронное взаимодействие при xe - мосорбции водорода на никелевых пленках, полученных испарением. [28]

Как видно на рис. 7 - 36, скорость роста никелевой пленки экспоненциально возрастает с температурой подложки до 200 С. [29]

Такая закономерность очень близка к наблюдавшейся Биком с сотрудниками [6] для никелевых пленок, однако найденные ими величины примерно на 5 ккал / моль превышают полученные нами. [30]

Страницы: 1 2 3 4 5