Никелевая пленка

Cтраница 3

Из табл. 10 - 26 видно, что по величине коэрцитивной силы никелевые пленки, полученные карбонильным методом, могут быть использованы для записи магнитных сигналов на лепту. Рекомендуется следующий оптимальный режим получения магнитножестких никелевых пленок: температура подложки 150 С, давление в камере 1 - 2 мм рт. ст., продолжительность нанесения 0 5 - 1 0 мин. При этом образуются пленки никеля толщиной 250 - 750 А. [31]

Кювета для получения напыленных пленок, используемых при снятии ИК-спектров пропускания. Hay ward D. О. ( 1963, частное. [32]

Пиккеринг и Экстрой ( 1959) в исследованиях отражения применяли полученные испарением полностью спеченные никелевые пленки. [33]

Эта величина близка к полученной Коищзуми и Ниномия в их дислокационной модели аморфной никелевой пленки, изготовленной напылением. [34]

Описанный Пикерингом и Экстромом [30] ИК-спектр окиси углерода на напыленной в вакууме никелевой пленке показывает наличие трех полос поглощения. Это широкие полосы дублетов при 2170 и 2122 см-1 газообразной окиси углерода и узкая полоса около 2058 см-1, приписанная хемосорбированной окиси углерода. Согласно Плайлеру, Блайну и Коннору [33], частота колебания газообразной окиси углерода - недостающая выше ( - ветвь - находится при 2143 27 см-1. [35]

Возможные к-адсорбированные промежуточные соединения при гидрогенизации бензольного кольца. [37]

Подтверждение структуры ( В) получено на основании наблюдений, что потенциал поверхности никелевой пленки с адсорбированным этиленом составляет 0 83 в [24] и не является отрицательной величиной, как можно было бы ожидать для структуры ( А) при учете значения электроотрицательности. [38]

Результаты, в некоторых отношениях сходные с данными Эй-кена, получил Бик [28] на никелевых пленках, подвергшихся спеканию при 400 С. По Бику, наблюдаемые явления обусловлены дополнительным спеканием пленок при этой температуре, которое сопровождается одновременно образованием новой фазы - плотно упакованной гексагональной решетки никеля. В отношении количества адсорбированного водорода данные Бика сильно отличаются от данных Эйкена; согласно Бику, при давлении водорода 0 1 мм рт. ст. и температуре - 195 С почти вся поверхность никелевой пленки заполняется в начальный промежуток времени, когда скорость адсорбции велика. Тем не менее с повышением температуры количество адсорбированного водорода увеличивается и значительно превышает соответствующее мономолекулярному покрытию поверхности. [39]

Для выяснения тормозящего действия продуктов реакции были поставлены опыты по разложению муравьиной кислоты на высоковакуумных никелевых пленках в присутствии заранее добавленных продуктов реакции. [40]

Зурман с сотрудниками [227], применив дифференциальный изотопный метод для выяснения вопроса о неоднородности поверхности никелевых пленок, показали наличие неоднородности при низких температурах, но отсутствие ее при комнатных температурах. Последнее авторы связывают с возникающей поверхностной подвижностью. [41]

Изменение фотоэлектрического выхода при адсорбции водорода на не подвергавшейся спеканию поверхности никеля. [42]

Как видно из рис. 16, при впуске Н при 90 К работа выхода не подвергавшейся спеканию никелевой пленки вначале увеличивалась, но при больших заполнениях каждая порция газа вызывала положительный сдвиг потенциала. [43]

На рис. 7 изображены восходящая и нисходящая ветви изобары водорода при давлении 0 1 мм рт. ст. на никелевой пленке, подвергнутой предварительному спеканию при 200 С. [44]

Изменение сопротивления прозрачной никелевой пленки при адсорбции паров муравьиной кислоты. Пленка охлаждена до - 183. [45]

Страницы: 1 2 3 4 5