Cтраница 2
Возможная конфигурация пленочного резистора. / - металлические электроды. 2 - резистивная пленка. 3. [16] |
После осаждения пленки нихрома на диэлектрическую подложку производят термообработку путем отжига пленки на воздухе. При этом нихромовая пленка покрывается слоем оксида, который значительно улучшает стабильность пленочного резистора. [17]
После осаждения пленки нихрома на диэлектрическую подложку производят термообработку путем отжига пленки на воздухе. При этом нихромовая пленка покрывается слоем окисла, который значительно улучшает стабильность пленочного резистора. [18]
Поглощающую пластину делают либо из материала, поглощающего СВЧ мощность ( например, из ферроэпокси-да, описанного в § 5.3), либо из диэлектрика ( гетинакса, стеклотекстолита, слюды, керамики), покрытого с одной или двух сторон поглощающим слоем. Необходимо отметить, что нихромовая пленка отличается высокой стабильностью электрического сопротивления ( вносимого затухания в тракт СВЧ) на протяжении длительного времени и при изменении tm ( V в широких пределах. Эти свойства поглощающего покрытия особенно важны для аттенюаторов регулировки мощности накачки ППУ, нестабильность которой, указывалось ( § 3.2), а следовательно, и нестабильность аттенюатора сильно влияют на нестабильность параметров ППУ. [19]
Величина сопротивления при этом может выдерживаться с точностью 0 5 % и выше. Как видно из таблицы, нихромовые пленки характеризуются медленным старением, а также малыми и воспроизводимыми температурными коэффициентами. [20]
Зависимость ТКС нескольких нихромовых пленок разного состава от их поверхностного сопротивления. [21] |
Нихромовая проволока использовалась как электрод, испаряемый, благодаря бомбардировке его электронами. Поскольку весь кусок испаряется до момента продвижения проволоки, состав пленки получается аналогичным составу проволоки. Проблема контроля за составом нихромовой пленки может быть также решена с помощью метода катодного распыления. Сравнивая пленки нихрома, полученные этим методом и методом напыления в вакууме, Пратт [24] установил, что пленки, полученные методом катодного распыления, с поверхностным сопротивлением выше некоторой определенной величины получаются почти постоянного состава. [22]
Критическая величина толщины пленки составляет 10 нм и зависит от температуры и материала подложки и скорости напыления. Состав пленки практически не влияет на критическую толщину. Более тонкие пленки отличаются крайней нестабильностью. Электронно-микроскопические исследования нихромовых пленок, изготовленных в самых разных условиях, показывают, что пленки представляют структуру, в которой изолированные зерна никеля распределены внутри кристаллической решетки окиси хрома. [23]
Имеются данные по осаждению из паровой фазы нпхромовых пленок. Нихромо-вые пленки получались также термическим разложением смеси органических соединений никеля п хрома [115] и использовались для изготовления ие-проводочпых резисторов среднего номинала. Наиболее пригодной является смесь компонентов: 70 % хроморгапического и 30 % ипкель-оргал ического соединений. При анализе пленок оказалось, что при указанном составе исходной смеси состав пленки несколько отличается от него, а именно содержит 60 % хрома к 40 % никеля. Оптимальная температура возгонки исходных веществ составляла 140J С, а оптимальный интервал температуры разложения - 480 - 500 С при вакууме 10 1 - 10 - 2 мм рт.ст. ТКС пленки, полученной в оптимальных условиях, лежит в пределах 2 5 10 - 4 град 1 в области положительных температур и 3 - 10 - 4 град 1 в области отрицательных температур. Отмечается, что стабильность нихромовых пленок удовлетворяет предъявляемым требованиям. [24]