Танталовая пленка

Cтраница 1

Танталовые пленки, наносимые катодным распылением, во многом отвечают перечисленным выше требованиям. [1]

Зависимость точности воспроизведения удельного поверхностного сопротивления Ар / р монометаллических систем от удельного поверхностного сопротивления р. [2]

Танталовые пленки малой плотности имеют нестабильные характеристики. [3]

Технология изготовления танталовых пленок сложна. В связи с тем что температура плавления тантала очень высока, его можно испарять только методом катодного распыления или электронной бомбардировки. Для улучшения повторяемости характеристик в производстве танталовых сопротивлений используют добавки небольших количеств азота в атмосферу аргона, применяемую при катодном распылении. [4]

Влияние парциального давления / азота. [5]

Рассмотрим основные параметры танталовых пленок: удельное сопротивление, ТКС и толщину в зависимости от режимов распыления. [6]

Зависимость электрических свойств танталовых пленок, получаемых реактивным катодным распылением, различна для разных систем. Причина этого заключается в том, что количество реактивного газа, вступающего в реакцию с танталом, зависит не только от парциального давления газа, но также и от скорости катодного распыления тантала, скорости откачки вакуумного объема и наличия других газов в системе. Благодаря различиям между системами катодного распыления трудно дать точные рекомендации по осаждению танталовых пленок с заданными свойствами. [7]

Зависимость удельного сопротивления пленок, полученных катодным распылением тантала в аргоне, от парциального давления кислорода, азота, окиси углерода и метана. [8]

Температурный коэффициент сопротивления чистой танталовой пленки первоначально имеет положительную величину. По мере образования нитридов он уменьшается. [9]

Они обнаружили, что танталовые пленки, полученные при низких катодных напряжениях, имели высокое удельное сопротивление, губчатую структуру и очень низкую плотность. [10]

Влияние содержания хрома на поверхностное сопротивление ннхромовых пленок, полученных напылением в вакууме и катодным распылением. [11]

Описанное явление наблюдается и в танталовых пленках ( см. следующий параграф) и связано с окислением границ зерен. [12]

Зависимости. - нок вольфрама от удельного сопротивления. - - - - - - - - удельного сопротивления от толщины пленки. [13]

Вследствие высокой тугоплавкости предпочтительным методом получения танталовых пленок является катодное распыление, а не напыление в вакууме, хотя последний метод является наиболее предпочтительным для получения особо чистых пленок, в частности сверхпроводящих. [14]

Последняя работа Стюарта [178] по исследованию напряжений реактивно распыленных танталовых пленок показала, что в таких пленках может обнаруживаться либо сжатие, либо растяжение. Низкие парциальные давления кислорода приводят к появлению в пленке напряжения сжатия, в то время как более высокое парциальное давление обусловит напряжение растяжения. Майссела [269] показала, что при определенных условиях, внедрение распыленного газа в растущую пленку приведет к возникновению внутреннего напряжения сжатия. [15]

Страницы: 1 2 3 4