Основная пленка
Cтраница 1
Основная пленка предназначена для облицовывания наружных и внутренних поверхностей изделий и не имеет текстуры. После напрессования ее на древесностружечные плиты их отделывают лаками и эмалями. [1]
Кроме того, между зернами различаются лоскуты основной пленки толщиной несколько десятков ангстремов, продолжающие существовать после отделения от металла. Увеличение зерен идет, по-видимому, за счет целостности основной пленки, благодаря чрезвычайно активной поверхностной диффузии. [2]
Иногда стеклянный конец преобразователя делают конусообразным, и на нем располагают помимо основной пленки еще вторую для температурной компенсации. [3]
Резистивный метод основан на измерении сопротивления контрольного образца ( свидетеля), напыляемого одновременно с основной пленкой. Этот метод применим только к проводящим пленкам. Он не пригоден для измерения пленок с малым сопротивлением ( 1 Ом / кв), так как переходные сопротивления соизмеримы с сопротивлением пленки. [4]
С этой точки зрения следует сказать, что построение источников и вихрей в слое Р связано с нахождением первых фундаментальных решений для ф в основной пленке и ей сопряженной. [5]
 |
Последовательные этапы роста поликристалличсской пленки золота на угольной подложке при 20 С. [6] |
Дырка содержит много вторичных зародышей, которые срастаются друг с другом и образуют вторичные островки, а они уже достигают краев дырки и срастаются с основной пленкой, так что дырка становится чистой. В ней снова образуются вторичные зародыши, и процесс повторяется до тех пор, пока вся дырка не заполнится. До тех пор, пока не образуется сплошная пленка, поведение конденсата остается аналогичным поведению жидкости. На стадии роста, характеризующейся образованием каналов и дырок, вторичные зародыши ( островки) объединяются с более массивными областями пленки менее, чем за 0 1 с. Можно также наблюдать за процессом заполнения канала, когда поперек канала образуется мостик конденсата, и конденсирующаяся фаза растекается вдоль канала со скоростями порядка 1 - 300 А / с. Оказывается, что канал при этом заполняется не полностью и вначале двигается только очень тонкий слой, а утолщение его происходит за гораздо большее время. Каналы обычно бывают очень нерегулярными, а граничные области имеют кристаллическую огранку. Ясно, что процессы срастания зародышей с основной пленкой и быстрого исчезновения каналов аналогичны процессам, происходящим в жидкости и являются проявлением одного и того же физического эффекта, а именно, минимизации полной поверхностной энергии нарастающего материала путем ликвидации областей с высокой кривизной поверхности. [7]
При этом существенной с точки зрения прорыва может оказаться и следующая стадия после наступления первичного равновесия по натяжению пленки - стадия адсорбции поверхностно-активного компонента на обедненную этим компонентом в результате растяжения нижнюю поверхность основной пленки под линзой. Неравновесная упругость рассматриваемой нами двухслойной пленки равна половине упругости исходной пленки, равновесная же гиббсовская упругость такой системы несколько превышает половину равновесной упругости исходной пленки, но она обычно значительно меньше упругости Маран-гони. [8]
В результате электрического пробоя ( разрыхления) этой пленки происходит некоторое понижение напряжения, которое затем в течение всего процесса остается почти постоянным, так как растущая пористая пленка оказывает незначительное сопротивление проходящему току по сравнению с основной пленкой, толщина которой не изменяется. [9]
Электронно-лучевые трубки с электростатическими отклоняющими системами имеют много преимуществ по сравнению с обычными т р убками - а именно: меньшая длина отклоняющей системы, равная чувствительность для обеих осей, точность и легкость воспроизведения ( при применении методов фотопечатания с основной пленки), отсутствие микрофонных эффектов и широкий угол раскрыва. Последнее возможно благодаря тому, что краевые поля между электродами ограничив-аются стенкой электрода, тогда как в обычной системе они частично совпадают с траекторией луча. [10]
Ниже рассматривается этот анализ для основных пленок. [11]
Кроме того, между зернами различаются лоскуты основной пленки толщиной несколько десятков ангстремов, продолжающие существовать после отделения от металла. Увеличение зерен идет, по-видимому, за счет целостности основной пленки, благодаря чрезвычайно активной поверхностной диффузии. [12]
Схематически процесс роста пленки показан на фиг. Таким образом, пленка, получаемая из этих электролитов, всегда состоит из тонкой диэлектрической основной пленки, прилегающей непо-средственно к металлу ( см. Л на фиг. [13]
Механизм коррозии нержавеющей стали в этом отношении пока остается недостаточно определенным, не имеется также работ по высоконикелевым сплавам инконель-600 и инколой-800. Мур и Джонс [56] нашли, что на углеродистой стали при рН 11 ( LiOH) основная пленка достигает определенной толщины и ее наружная поверхность имеет галькообразную структуру. Они интерпретировали этот результат как указание на то, что основная пленка одновременно генерируется на поверхности раздела металл - окись и растворяется на поверхности окись - раствор. Вначале контролирующей скорость стадией является реакция на поверхности раздела металл - окись, но окончательно контролирующей стадией становится процесс на поверхности окись - раствор. [14]
При осаждении второго слоя из магнитного высококоэрцитивного материала неоднородность магнитной структуры в двухслойной пленке усредняется по толщине и повышается Нс основного слоя. Выбор материала определяется следующими требованиями: максимальной коэрцитивной силой Нс, минимальным значением поля анизотропии Hh, малой магнитострикцией, отношением кристаллографической анизотропии к одноосной, близким тому же отношению основной пленки. С увеличением толщины второго слоя в пределах 0 - 600 А возрастают значения Нс, Hh и бос двухслойных пленок. [15]
Страницы: 1 2