Высококачественная пленка

Cтраница 3

Накопленный к настоящему времени опыт оценки технологических свойств термопластов по способности расплавов к растяжению, позволяет приступить к стандартизации метода растяжения расплавов с целью разработки дополнительных технических требований к марочному ассортименту материалов, пригодных для изготовления высококачественных пленок и пленочных нитей, а также критериев аттестации различных марок ( партий) сырья и решения других технологических задач. [31]

Для получения достаточно высокого КПД у тонкопленочных солнечных элементов на основе InP, GaAs, Zn3P2, CdSe и Cu2 - o Se потребуются новые разработки и исследования приборов, связанные с оптимизацией конструкции, совершенствованием технологического процесса ( с целью создания высококачественных пленок с воспроизводимыми оптоэлектронными свойствами), анализом причин потерь энергии и устранением или ослаблением влияния факторов, вызывающих потери излучения и носителей заряда. [32]

Степень перетира пигментов влияет на качество получаемой пленки и определяет склонность к желатинированию. В высококачественной пленке размер частиц пигмента не должен превышать толщины высохшей пленки, в противном случае частицы, которые не могут полностью погрузиться в связующее вещество, при механическом воздействии легко могут быть вырваны из пленки. На месте вырванных частиц остаются полости, которые являются путями проникновения агрессивных сред и в дальнейшем становятся центрами коррозии. [33]

Степень перетира пигментов влияет на качество лакокрасочной пленки и определяет склонность ее к жела-тированию. В высококачественной пленке размер частиц пигмента не должен превышать толщины высохшей пленки. Частицы пигмента, которые полностью не погружаются в связующее вещество, при механическом воздействии могут быть легко вырваны из пленки. На месте вырванных частиц пигмента остаются очень мелкие, не замечаемые невооруженным глазом полости, которые являются путями проникновения агрессивных сред к грунту и в дальнейшем становятся центрами коррозии. При достаточно тонком перетире пигмента все его частицы полностью погружаются в красочную пленку, благодаря чему пленка имеет ровную гладкую поверхность и лучше противостоит воздействию внешней среды. [34]

Повышенная температура способствует также получению более прочной и плотной лакокрасочной пленки, очевидно, вследствие более полного удаления растворителей и активного протекания процессов оксидации и полимеризации. Ряд эмалей на основе синтетических смол образует высококачественную пленку только при повышенных температурах. [35]

Установлено [139], что качество осаждаемых окисных пленок, определяемое по их электрической стабильности и низким диэлектрическим потерям, зависит от скорости осаждения. При скоростях менее 200 А / час получали в основном высококачественные пленки, а при скоростях выше 3000 А / час - пленки, менее стабильные электрически и имевшие более высокие диэлектрические потери. [36]

Эпоксидные смолы хорошо реагируют с жирными кислотами масел, образуя при высыхании высококачественные пленки. [37]

Схема получения ориентированной пленки из полипропилена методом раздува рукава. [38]

Необходимость трубопровода расплава ( длиной около 5 м) связана с тем, что требуется отделить экструдер от чистой зоны производства - узлов формования пленки. Следует отметить, что чистота производственного помещения - одно из важнейших требований для получения высококачественной пленки. [39]

Известно, что фторсодержащие эластомеры имеют уникальные свойства: они сочетают высокую термостойкость и негорючесть со стойкостью к действию разнообразных растворителей, масел и топлива. Применение фторкаучуков СКФ-32 и СКФ-26 для модификации стабилизированных полимеров представляет особый интерес при получении негорючих высококачественных пленок. Проведенные динамические механические исследования показали [18], что в области температур 70 - - 90 С наблюдается основной максимум механических потерь, обусловленный увеличением сегментальной подвижности исследуемого полимера-поливинилхлорида. Этот максимум проявляется при более низкой температуре, чем для немодифицированного полимера, благодаря пластифицирующему эффекту фторкаучука. При совмещении ПВХ с фторкаучуками наблюдается существенное повышение ( в 6 - 7 раз) удельной ударной вязкости в области концентраций 5 - 15 вес. [40]

Было установлено, что, в отличие от упомянутых выше соединений тантала или титана, для получения высококачественных пленок нитрида кремния необходимы низкие давления распыляющих газов. Следовательно, в этом случае необходимо использовать либо тлеющий разряд, поддерживаемый термоэлектронной эмиссией [109], либо высокочастотное распыление [ НО ], По-видимому, для распыления будет достаточным давление ниже ( 5 - 10) - 10 - 3 мм рт. ст. Для получения хороших результатов, в противоположность случаю системы кремний - кислород, распыление нужно проводить в атмосфере чистого азота. Вероятно, это объясняется тем, что для образования нитрида кремния необходимо присутствие атомарного азота, поскольку хемосорбции молекул N2 на кремнии не происходит. Ионы N образуются главным образом в темном пространстве [111] или путем диссоциации N2 при ударе о поверхность катода. Следовательно, атомы азота могут попасть на подложку только тогда, когда они либо распыляются с поверхности мишени, возможно, из слоя нитрида кремния на поверхности мишени [109], либо отражаются от мишени после прохождения темного пространства. В обоих случаях атомы азота, падающие на подложку, должны испытать относительно небольшое число столкновений на пути от катода к подложке. [41]

Свойства лаковой пленки, а также правильный выбор режима сушки лака определяются составом лака. По режиму сушки практически различают: лаки горячей ( печной) сушки, которые при низкой температуре сохли бы весьма медленно и не давали бы высококачественной пленки, и потому требуют для сушки высокой температуры ( выдержка в сушильной печи, облучение инфракрасными лучами, прогрев током обмотки пропитанной машины, и лаки холодной ( воздушной) сушки, которые достаточно быстро и хорошо сохнут на воздухе при нормальной комнатной температуре. Горячая сушка необходима для тех лаков, основа которых для получения высококачественной пленки должна претерпеть необратимые химические изменения, требующие нагрева ( запекание пленки), иными славами, для лаков, основа которых содержит термореактивные вещества, а также независимо от характера основы для всех лаков с высококипящими растворителями, слишком медленно испаряющимися при нормальной температуре. [42]

Свойства лаковой пленки, а также правильный выбор режима сушки лака определяются составом лака. По режиму сушки практически различают: лаки горячей ( печной) сушки, которые при низкой температуре сохли бы весьма медленно и не давали бы высококачественную пленку, и потому требуют для сушки высокой температуры ( выдержка в сушильной печи, облучение инфракрасными лучами, прогрев током обмотки пропитанной машины), и лаки холодной ( воздушной) сушки, которые достаточно быстро и хорошо сохнут на воздухе при нормальной комнатной температуре. Горячая сушка необходима для тех лаков, основа которых для получения высококачественной пленки должна претерпеть необратимые химические изменения, требующие нагрева ( запекание пленки), иными словами, для всех лаков, основа которых содержит тврмореактивньте вещества, а также независимо от характера основы для всех лаков с высококипящими растворителями, слишком медленно испаряющимися при нормальной температуре. Лаками холодной сушки являются лаки с легко летучими растворителями, основа которых термопластична и не требует запекания при сушке. [43]

РАН ( г. Санкт-Петербург) состоялось 4 - е Всероссийское Совещание Нитриды галлия, индия и алюминия: структуры и приборы, на котором с успехом были представлены работы по выращиванию высококачественных пленок GaN, выполненные физиками из Уфы. Вследствие значительных технологических трудностей в получении объемных кристаллов GaN, его, как правило, выращивают в виде тонких эпитаксиальных пленок, но и в этом случае возникают проблемы, связанные с выбором подходящей подложки ( ионный радиус - 0 7 А, и параметр решетки GaN значительно меньше, чем у других полупроводниковых соединений III-V), так что прогресс в этом направлении определяется успехами в осуществлении контролируемого гетероэпи-таксиального роста. Научные подходы, развитые учеными из Уфы, основаны на применении методов сканирующей зондовой микроскопии, что позволило наилучшим образом подобрать оптимальную подложку ( SiC) и непосредственно наблюдать на атомном уровне самые начальные стадии зарождения эпитаксиальной пленки GaN и понять, как можно вырастить кристалл с минимальной концентрацией дефектов. [44]

Изменение плотности гидрогенизированного аморфного. [45]

Страницы: 1 2 3 4