Относительно низкая плотность

Cтраница 3

Помимо материала катода, величина перенапряжения кислорода зависит от состава и температуры электролита и от плотности тока. В отличие от водородного перенапряжения кривая перенапряжения катодной ионизации кислорода характеризует скорость протекания катодного процесса в зависимости от приложенного потенциала лишь при относительно низких плотностях тока. С дальнейшим повышением плотности тока все больше затрудняется доставка кислорода к катоду. [31]

Зависимость стрелы прогиба катода от плотности тока. [32]

Зависимость внутренних напряжений от плотности тока при электроосаждении никеля, так же как и в случае хрома, разная для разных толщин. На рис. 48 приведены кривые изменения величины внутренних напряжений с толщиной осадка никеля; как видно из рисунка, внутренние напряжения линейно меняются с толщиной для осадков, полученных при относительно низких плотностях тока. [33]

Индукционные нейтрализаторы с иглами работают эффективно только при больших плотностях зарядов в потоках. Например, нейтрализатор диаметром 300 мм и длиной 0 5 м обеспечивает нейтра. При относительно низкой плотности зарядов ( около 30 - 50 мкКл / м -) нейтрализаторы с иглами не эффективны. [34]

Этот фактор уменьшает эффективность работы коррозионных пар и тем самым способствует снижению скорости коррозионно-усталостного разрушения алюминиевого сплава. Второй фактор - локальное подщелачивание приэлектродного слоя электролита, повышая эффективность работы коррозионных пар, увеличивает скорость коррозионно-усталостного разрушения. При относительно низких плотностях катодного тока преобладает влияние первого фактора, а при относительно высоких - влияние второго. [35]

Простой альтернативный способ решения этой проблемы следует из того факта, что ионы МпС4 и МпО - отличаются на один электрон и, следовательно, они могли бы, вероятно, обмениваться электроном, если для них возможны столкновения при которых орбитали этих ионов становятся равноценными. Вероятность уравнивания орбиталей довольно высока, поскольку оба иона обладают одинаковой ( тетраэдрической) симметрией и длины их связей весьма близки. Возможность столкновения значительна также вследствие относительно низкой плотности зарядов. [36]

Простой альтернативный способ решения этой проблемы следует из того факта, что ионы МпО7 и МпО - отличаются на один электрон и, следовательно, они могли бы, вероятно, обмениваться электроном, если для них возможны столкновения при которых орбитали этих ионов становятся равноценными. Вероятность уравнивания орбиталей довольно высока, поскольку оба иона обладают одинаковой ( тетраэдрической) симметрией и длины их связей весьма близки. Возможность столкновения значительна также вследствие относительно низкой плотности зарядов. [37]

Ротаметры менее удобны, поскольку они недостаточно чувствительны. Во избежание увлажнения газа-носителя реометр, установленный перед колонкой, нельзя заполнять водой. Реометры лучше заполнять вазелиновым маслом, которое малолетуче и имеет относительно низкую плотность, в связи с чем достигается большая чувствительность к изменениям скорости потока. [38]

Вычисления проводились самосогласованным образом при условии перехода электронов из одного Спиновополяризованного ансамбля в другой с таким расчетом, чтобы при достижении сходящихся результатов выполнялась статистика Ферми. Почти равные значения п и га j делают Vis практически немагнитным. К такому же заключению приводит и рассчитанная диаграмма электронных энергетических уровней, показывающая относительно низкую плотность состояний вблизи уровня Ферми по сравнению с более высокой плотностью состояний в области энергий на 0 5 эВ выше и ниже энергии Ферми. [39]

Рост зерен р-фазы ( 1 и. [40]

Когда металл подвергается пластической деформации, плотность дислокаций в нем возрастает. Это явление известно под названием деформационного упрочнения. Однако плотность дислокаций не достигает максимально возможного значения, допускаемого кристаллической решеткой, а уже при относительно низких плотностях дислокаций начинают идти процессы разупрочнения, компенсирующие упрочнение, так что величина плотности дислокаций выходит на насыщение и достигается установившееся состояние. Плотность дислокаций в таком состоянии увеличивается с пониже - нием температуры и ростом скорости деформации. [41]

Может показаться неоправданным то особое внимание, которое уделяется вириальному уравнению состояния. В самом деле, если подходить к нему только как к эмпирическому уравнению состояния, то оно не заслуживает такого внимания, так как в этом отношении имеет ряд недостатков. Например, сходимость ряда, как это следует из его формы, не очень хорошая, за исключением области относительно низкой плотности. Часто тот же набор экспериментальных р - и - Г - дан-ных можно описать с помощью других эмпирических уравнений с меньшим числом параметров. [42]

Основное требование к коду в цифровой системе передачи состоит в том, чтобы он обеспечивал получение достаточной хронирующей информации для установления и поддержания колебаний тактовой частоты в приемнике на конце линии. Если уровень хронирующей информации зависит от цифрового сигнала, то фазовые дрожания в восстановленных колебаниях тактовой частоты увеличиваются в течение периодов времени с относительно низкими плотностями импульсов, от которых зависит хронирование. [43]

Они приписывают их частичному механическому разрыву пленки при регулярном возрастании ее толщины. Было показано, что перед наблюдением этого явления необходимо прерывать формирующий ток и что флуктуации не происходят, если толщина пленки перед прерыванием тока уже превышает 20 мк. Причины этих эффектов не очень понятны, но они, очевидно, связаны с механической релаксацией пленки в процессе и непосредственно после ее образования. Согласно Лалу, Тереку и Уинн-Джонсу, пленки хлористого серебра, образованные при относительно низких плотностях тока ( около 1 - 2 ма / см2), прочно связаны с поверхностью серебра ( это не относится к бромистому и йодистому серебру), обладают пурпурной окраской и, возможно, поликристаллической структурой. Однако Еникке, Тишер и Геришер [184] показали, что при плотностях тока, превышающих 20 ма / см2, образуются белые пленки со значительно меньшим кажущимся удельным сопротивлением. Судя по цвету пленок, возникающих при низких плотностях тока, в этом случае образуется, главным образом за счет переноса через решетку, вещество нестехиометрического состава, в то время как при высокой плотности тока путем осаждения Agmns образуется хлорид серебра почти в стехиометрических количествах. Возможно, что акво-ионы образуются по механизму просачивания аналогично тому, как это предположено Боултом и Терском [180] для каломельных пленок в растворах, частично обедненных по ионам хлора; затем ионы хлора осаждают акво-ионы в виде очень пористого хлорида серебра с низким кажущимся удельным сопротивлением. Однако Л ал, Терек и Уинн-Джонс показали, что при очень высоких плотностях тока наступает пассивация с выделением кислорода; пассивирующей пленкой здесь предположительно является электронопроводящий окисел. [44]

Они приписывают их частичному механическому разрыву пленки при регулярном возрастании ее толщины. Было показано, что перед наблюдением этого явления необходимо прерывать формирующий ток и что флуктуации не происходят, если толщина пленки перед прерыванием тока уже превышает 20 мк. Причины этих эффектов не очень понятны, но они, очевидно, связаны с механической релаксацией пленки в процессе и непосредственно после ее образования. Согласно Лалу, Тереку и Уинн-Джонсу, пленки хлористого серебра, образованные при относительно низких плотностях тока ( около 1 - 2 ма / см2), прочно связаны с поверхностью серебра ( это не относится к бромистому и йодистому серебру), обладают пурпурной окраской и, возможно, поликристаллической структурой. Однако Еникке, Тишер и Геришер [184] показали, что при плотностях тока, превышающих 20 ма / см2, образуются белые пленки со значительно меньшим кажущимся удельным сопротивлением. Судя по цвету пленок, возникающих при низких плотностях тока, в этом случае образуется, главным образом за счет переноса через решетку, вещество нестехиометрического состава, в то время как при высокой плотности тока путем осаждения Ag H образуется хлорид серебра почти в стехиометрических количествах. Возможно, что акво-ионы образуются по механизму просачивания аналогично тому, как это предположено Боултом и Терском [180] для каломельных пленок в растворах, частично обедненных по ионам хлора; затем ионы хлора осаждают акво-ионы в виде очень пористого хлорида серебра с низким кажущимся удельным сопротивлением. Однако Л ал, Терек и Уинн-Джонс показали, что при очень высоких плотностях тока наступает пассивация с выделением кислорода; пассивирующей пленкой здесь предположительно является электронопроводящий окисел. [45]

Страницы: 1 2 3 4