Поверхность - матрица
Cтраница 2
 |
Последовательность процесса пробивки малых отверстий.| Схема развития очага деформации при вдавливании пуансона в толстую заготовку ( по Д. П. Кузнецову и А. В. Лясникову. [16] |
Деформации не достигают поверхности матрицы. При заглублении пуансона примерно на величину диаметра ( рис. 34, б) очаг деформации расширяется и опускается вниз. На нижней поверхности заготовки остается след от матричного отверстия. [17]
ПММА растекается по всей поверхности матрицы и заполняет весь свободный объем. При происходит процесс перехода из вязкого состояния в твердое с сохранением оптических свойств ПММА, Однако следует учесть, что при остывании происходит усадка, и преломляющие поверхности получаются с большим радиусом кривизны для линз и с меньшей глубиной модуляции фазового рельефа для дифракционного элемента. [19]
По окончании доводочных работ поверхность матрицы подвергают хромированию. [20]
Пуансон не доходит до поверхности матрицы на 0 2 - 0 3 мм, и окончательно деталь проталкивается через матрицу следующей деталью. При этом методе зачистки исключается образование шероховатого пояска или вырыва у верхней плоскости детали. [22]
 |
Фиксирующие детали штампа. [23] |
Фиксаторы и трафареты устанавливают на поверхности матрицы, применяют для точной ориентир ровки штучных заготовок относительно пуансона и матрицы в двух направлениях. [24]
Ам - исполнительный размер высоты поверхности матрицы ( оформляющей), мм; / zmin - соответствующий минимально допустимый размер изделия. [25]
 |
Типичные изотермы насыщения электрокристаллизуемой матрицы гетерофазными частицами в зависимости от их концентрации в суспензиях. [26] |
В случае недостаточного сродства между поверхностью матрицы и дисперсной фазой для образования КЭП с более высокой концентрацией II фазы необходимо изменить условия процесса и ионно-молекулярный состав дисперсной среды. [27]
Эти прижимы надеваются на укрепленные на поверхности матрицы болты и укрепляются н лазах поворотом вокруг своей оси. [28]
Отштампованная деталь выбрасывается толкателем 3 на поверхность матрицы, а с последней удаляется либо вручную, либо автоматически-воздушным съемником. [29]
Важность пространственного удаления низкомолекулярного ингибитора от поверхности жесткой матрицы для осуществления аффинной хроматографии показана Куатреказасом и др. [5] в одной из первых работ по успешному применению этого метода при выделении ферментов. В первом случае ( рис. 5.4, а) связанный ингибитор имеет высокое сродство к а-химотрипсину и фермент можно освободить из комплекса, только если понизить рН элюирующего буфера. При использовании 0 1 М уксусной кислоты ( рН 3 0) фракция химотрипсина элюи-руется в виде острого пика и объем элюируемого химотрипсина не зависит от объема образца, нанесенного на колонку. Во втором случае ( рис. 5.4 6), ингибитор, присоединенный непосредственно к сефарозе, имеет значительно более низкое сродство к выделяемому а-химотрипсину из-за стерических препятствий, поэтому для элюирования фермента не надо заменять буферный раствор, и, как можно видеть из рисунка, фермент элюируется в значительно большем объеме сразу после неактивного материала. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5