Поверхность - тантал - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Первым здоровается тот, у кого слабее нервы. Законы Мерфи (еще...)

Поверхность - тантал

Cтраница 1


Поверхность тантала обрабатывали механически. Травление проводили при 70 - 80 С в течение 1 - 2 мин.  [1]

2 Электрические параметры единичной нити тантала. [2]

Матирование поверхности тантала достигается пескоструйной обработкой стальными опилками.  [3]

Очистка поверхности тантала и ниобия путем нагревания их в водороде недопустима, так как металлы становятся хрупкими.  [4]

Окклюдированные на поверхности тантала газы быстро выделяются при температурах ниже 1 100 С. От 1 100 до 1 600 С газоотделение мало или вообще не наблюдается. В интервале 1 600 - 1 800 С наблюдается небольшое выделение газа, которое, если не повысить температуру, может длиться чрезвычайно1 долго. При 1 800 скорость газовыделения увеличивается, но вследствие неравномерного нагрева электродов нельзя ожидать при этом полного обезгаживания. Окислы и другие загрязнения имеют склонность к миграции в более холодные участки детали, и обработка при этой температуре не дает полного обезгаживания.  [5]

Для очистки поверхности тантала и ниобия используют промывку горячей соляной кислотой.  [6]

Для облегчения пайки поверхность тантала покрывают металлом, хорошо паяемым с другим металлом, например серебром или никелем.  [7]

Цель работы - синтез на поверхности тантала методом молекулярного наслаивания сверхтонких слоев оксида кремния с использованием в качестве активатора триэтиламина, опреде-ление толщины слоев.  [8]

Образование прочной окисной пленки из Ta2Os на поверхности тантала объясняет его высокую коррозионную устойчивость.  [9]

На рис. 14.4 показана адсорбция водорода на поверхности тантала.  [10]

Образование прочной окисной пленки из Та2О5 на поверхности тантала объясняет его высокую коррозионную устойчивость.  [11]

Осуществляют синтез слоя двуокиси кремния требуемой толщины на поверхности тантала.  [12]

13 Зависимость образования и последующего развития зародышей при катодном выделении Hg по реакции Hg e - - Hgna поверхности Pt ( кристалл из раствора 2 7 н. HgN03 0 3 н. HNOg при 30 С от перенапряжения. продолжительность импульса 0 070 сек ( по Каишеву и Мутафчиеву 63. [13]

Проведенные Шоттки гальваностатические исследования катодного образования зародышей серебра на поверхности тантала и других металлов согласуются с теорией Вагнера.  [14]

15 Ячейка-кювета для проведения облучения и последующих. [15]



Страницы:      1    2    3    4