Cтраница 1
Поверхность тантала обрабатывали механически. Травление проводили при 70 - 80 С в течение 1 - 2 мин. [1]
Электрические параметры единичной нити тантала. [2] |
Матирование поверхности тантала достигается пескоструйной обработкой стальными опилками. [3]
Очистка поверхности тантала и ниобия путем нагревания их в водороде недопустима, так как металлы становятся хрупкими. [4]
Окклюдированные на поверхности тантала газы быстро выделяются при температурах ниже 1 100 С. От 1 100 до 1 600 С газоотделение мало или вообще не наблюдается. В интервале 1 600 - 1 800 С наблюдается небольшое выделение газа, которое, если не повысить температуру, может длиться чрезвычайно1 долго. При 1 800 скорость газовыделения увеличивается, но вследствие неравномерного нагрева электродов нельзя ожидать при этом полного обезгаживания. Окислы и другие загрязнения имеют склонность к миграции в более холодные участки детали, и обработка при этой температуре не дает полного обезгаживания. [5]
Для очистки поверхности тантала и ниобия используют промывку горячей соляной кислотой. [6]
Для облегчения пайки поверхность тантала покрывают металлом, хорошо паяемым с другим металлом, например серебром или никелем. [7]
Цель работы - синтез на поверхности тантала методом молекулярного наслаивания сверхтонких слоев оксида кремния с использованием в качестве активатора триэтиламина, опреде-ление толщины слоев. [8]
Образование прочной окисной пленки из Ta2Os на поверхности тантала объясняет его высокую коррозионную устойчивость. [9]
На рис. 14.4 показана адсорбция водорода на поверхности тантала. [10]
Образование прочной окисной пленки из Та2О5 на поверхности тантала объясняет его высокую коррозионную устойчивость. [11]
Осуществляют синтез слоя двуокиси кремния требуемой толщины на поверхности тантала. [12]
Проведенные Шоттки гальваностатические исследования катодного образования зародышей серебра на поверхности тантала и других металлов согласуются с теорией Вагнера. [14]
Ячейка-кювета для проведения облучения и последующих. [15] |