Поверхность - тантал
Cтраница 3
Пленка окиси тантала не может считаться совершенно идеальной в отношении отсутствия в ней сквозных пор, хотя качество ее в этом отношении значительно лучше, чем пленки окиси алюминия. Наличие подобных пор может быть обусловлено как присутствием инородных загрязнений на поверхности тантала, так и несовершенством решетки окиси тантала в отдельных участках. [31]
Причина увеличения концентрации примеси при очень малых смещениях в настоящее время не совсем ясна. Однако считают, что крутой спад концентрации примеси справа от максимума, наблюдаемого приблизительно при 20 В, свидетельствует о начале распыления примесей с поверхности тантала. Увеличение удельного сопротивления при высоких смещающих напряжениях объясняют ростом концентрации захваченных пленкой атомов аргона. Этот вопрос будет рассмотрен в следующем разделе. [33]
Вообще говоря, электродный потенциал, невидимому, не очень сильно зависит от материала электрода. Однако иногда наблюдались и различия, в частности с электродами из тантала и платины [7, 21], но эти исключения, возможно, вызваны вторичными явлениями: образованием препятствующего осаждению слоя окиси на поверхности тантала или образованием сплава с платиной, который, наоборот, способствует осаждению. Это значит, что сцепление осаждающихся атсАюв с различными поверхностями одинаково сильно. Эта гипотеза основана на некоторых результатах [49], относящихся к адсорбции паров цезия на вольфраме. [34]
Матирование поверхности тантала достигается пескоструйной обработкой стальными опилками. [36]
Приведены результаты исследования кинетических закономерностей роста и природы интерметаллидных слоев, образующихся при насыщении тугоплавких металлов ( Mo, W, Nb, Та) бериллием из паровой фазы при 1000 - 1200 С в течение 1 - 6 часов. При бериллировании металлов в указанном интервале температур образуются все возможные по диаграмме состояния интерметаллидные фазы, за исключением Мо3Ве и ТаВе2, которые не наблюдаются в исследованной области температур. Бириллидные фазы возникают в виде отдельных слоев в последовательности от низших к высшим. Наиболее быстро процесс фазообразования протекает на поверхности тантала, наиболее медленно - на вольфраме. Предполагается, что имеет место преимущественная диффузия бериллия через реакционный слой. [37]
Приведены результаты исследования кинетических закономерностей роста и природы интерметаллидных слоев, образующихся при насыщении тугоплавких металлов ( Mo, W, Nb, Та) бериллием из паровой фазы при 1000 - 1200 С в течение 1 - 6 часов. При бериллированиы металлов в указанном интервале температур образуются все возможные по диаграмме состояния шггерметаллидные фазы, за исключением Мо3Ве и ТаВе2, которые не наблюдаются в исследованной области температур. Бирнллидные фазы возникают в виде отдельных слоев в последовательности от низших к высшим. Наиболее быстро процесс фазообразования протекает на поверхности тантала, наиболее медленно - на вольфраме. Предполагается, что пмеет место преимущественная диффузия бериллия через реакционный слой. [38]
 |
Схема моста для [ измерения емкости и сопротивления электрода переменным.| Зависимость дифференциальной емкости от. [39] |
Кривые емкости нержавеющих сталей аналогичны кривым емкости платины, у которой отсутствуют фазовые окислы даже при потенциалах выделения кислорода. На основании этого делается заключение о том, что на поверхности нержавеющей стали также нет фазовых окислов. Рассчитанная авторами толщина двойного слоя для емкости в 20 мкф равна 5 А. Для заключения о наличии фазовой пленки на поверхности тантала и алюминия существенным представляется гистерезис на кривых потенциал - емкость при прямом и обратном ходе кривой. [40]
 |
Влияние контакта тантала с серебром на взаимодействие с серебром паров иода. [41] |
Электрохимическая природа процесса окисления при повышенных температурах дает основание предполагать, что контакт различных металлов влияет на скорость процесса. Например, реакция серебра с газообразным иодом при 174 С ускоряется при контакте серебра с танталом, платиной или графитом. Скорость образования на серебре пленки Agl ( который обладает в основном ионной проводимостью) определяется скоростью перемещения электронов сквозь эту пленку. При контакте серебра с танталом ионы Ag диффундируют по поверхности тантала, который снабжает их электронами, ускоряющими превращение серебра в Agl. [42]
При температурах выше 300 С тантал и все его известные сплавы взаимодействуют с водородом, азотом и кислородом. Охрупчивающее действие водорода используется для получения порошка, применяемого при производстве танталовых электрических конденсаторов. Азот также вызывает охрупчивание тантала. Взаимодействие с азотом происходит при температурах выше 400 С [7], но иногда окисная пленка может препятствовать этой реакции до достижения более высоких температур. Наряду с другими фазами на поверхности тантала при этом возникают нитриды. [43]
 |
Проволочные испарители. [44] |
Проволочные испарители ( рис. 8), Их изготавливают из вольфрама, тантала, молибдена, ниобия, платины, железа, никеля, нихрома. Вольфрам и тантал имеют высокую температуру плавления ( 3650 и 3270 С соответственно) и малую упругость паров при рабочей температуре. С их помощью можно испарять многие материалы, в том числе относительно тугоплавкие. Однако при температурах выше 1000 С испарители рекристаллизуются, становясь хрупкими. Для испарения никеля и кремния на поверхности тантала предварительно создают пленку из его карбида. [45]
Страницы: 1 2 3 4