Подслой

Cтраница 2

Подслои Л / j и 71 / jj содержат по два электрона, и Л / jy - по 4 электрона и Л / у - 6 электронов. Среднее расстояние Л / - электронов от ядра прибл. Релятивистские эффекты приводят к энергетич. Энергии связи / - электронов, найденные экспериментально по минимальному значению энергии рентгеновских лучей, способных выбить АУ-электроны из атома ( край поглощения), можно найти в таблицах ( см., напр. Менделеева от Na до Аг соответствует заполнению Л / 1; Л / ] ( и А / щ - подслоев оболочки атома. [16]

Подслой связывает плотный слой отложений с экранными трубами. Он образуется в результате химического взаимодействия золы и шлака с металлом поверхности нагрева под влиянием топочной среды. Подслой имеет темно-коричневый цвет, и его толщина колеблется в пределах 0 2 - 0 5 мм. [17]

Подслой должен иметь высокую адгезию к поверхности двуокиси кремния и не приводить к деградации пленок меди по морфологии, проводимости и чистоте при последующих термических обработках. [18]

Подслои ( первые слои) могут применяться и для исключения образования прослоек хрупких интерметаллидов. [19]

Распределения химических компонентов в золе, талаке и в отложениях. [20]

Подслой и плотный слой обогащены щелочными соединениями, а рыхлый слой отложений содержит щелочные металлы в таком же количестве, как и летущая зола. [21]

Октаэдрический подслой в структуре брусита. [22]

Подслои связаны между собой общими атомами кислорода. Тетраэдры обращены внутрь и имеют в вершине общий с октаэдрическим подслоем атом кислорода, который вытесняет два из трех первоначально присутствовавших гидрооксилов. [23]

Расположение атомов в элементарной ячейке двухслойного минерала ( площадь поверхности элементарной ячейки 0 515 X Х0. 89 мм2. формула элементарной ячейки [ А12 ( ОН4 ( 512О5 ] 2. молекулярная масса элементарной ячейки 516.| Трехслойная разбухающая решетка глины. / - обменные катионы и кристаллизационная вода. 2 - единичный слой. 3 - тетраэдрический подслой. 4 - ок-таэдрический подслой. 5 -переменное е-расстояние. 6 - ребро кристалла. 7 - базальная поверхность. [24]

Подслои в единичном слое объединены между собой кова-лентными связями, благодаря чему единичный слой устойчив. В кристаллической решетке слои удерживаются вместе только силами Ван-дер - Ваальса и побочными связями между расположенными рядом атомами. Поэтому кристаллическая решетка легко расщепляется вдоль базальных поверхностей с образованием мельчайших чешуек, напоминающих слюду. [25]

Подслой для фото - и кинопленок содержит коллоидный р-р желатины в воде, орг. [26]

Подслой под наплавку электродами ЦН-12 ( ЦН-12М) допустимо наносить без предварительного подогрева, после чего деталь подогревают до необходимой температуры. [27]

Защита штуцера полимерными материалами. [28]

Подслой корпуса необходимо заводить на фартук до патрубка, обращая особое внимание на качество разделки узла примыкания. [29]

Футеровка аппарата кислотоупорной фасонной керамической плиткой. [30]

Страницы: 1 2 3 4