Блестящее никелевое покрытие

Cтраница 2

Для повышения коррозионной стойкости блестящих никелевых покрытий разработаны системы двух - и трехслойных никелевых покрытий, а также покрытие никель-сил. [16]

Их целесообразно применять вместо однослойных матовых и блестящих никелевых покрытий. Блестящий слой является анодом по отношению к основному слою [ А. [17]

Микрофотография шлифа попореч - Т Д М электронной дифракции. ного среза блестящего цинка, х 870 Электронографическое исследование, проведенное в Лаборатории структуры поверхностных слоев.| Микрофотография поверхности блестящего осадка никеля, х 1100. [18]

Металломикроскопическое исследование шлифа поперечного среза блестящего никелевого покрытия ( рис. 12) обнаруживает периодическое включение в осадок посторонних слоев. [19]

Особенное значение они приобретают в случае определения толщины блестящих никелевых покрытий с большим содержанием кобальта, имеющего значительно большую магнитную проницаемость, чем никель. [20]

Электронографически установлено, что предпочтительная ориентация кристаллографических плоскостей блестящего никелевого покрытия, полученного при реверсировании тока, выражена менее определенно, чем у матового покрытия, полученного на постоянном токе. Реверсирование тока во многих случаях позволяет получать покрытия без значительных внутренних напряжений. [21]

Электроиографически установлено, что предпочтительная ориентация кристаллографических плоскостей блестящего никелевого покрытия, полученного при реверсировании тока, выражена менее определенно, чем у матового покрытия, полученного на постоянном токе. Реверсирование тока во многих случаях позволяет получать покрытия без значительных внутренних напряжений. [22]

Как указывалось, устойчивые и надежные результаты получения блестящих никелевых покрытий обеспечивает свежеприготовленная дисульфонафталиновая кислота, в связи с чем ряд предприятий готовит ее в заводской лаборатории своими силами. [23]

Изменение пористости микропористого слоя хрома в зависимости от толщины покрытия. [24]

На практике при осаждении обычным методом для получения блестящего никелевого покрытия применяют специальные растворы, содержащие суспензию частиц. [25]

В настоящее время разработаны составы электролитов, которые позволяют получать непосредственно блестящие никелевые покрытия. Это позволяет сократить затраты, связанные с механической полировкой. [26]

Необходимость нанесения слоя меди вызывается еще и тем, что ока служит буфером между пластмассой и блестящим никелевым покрытием при резком изменении температуры, Хотя медь и имеет значительно меньший коэффициент линейного теплового расширения, чем пластмасса, но нагрев и расширение ее происходят быстрее. Это приводит к тому, что расширение или сжатие для пластмассы и осаждаемого подслоя становятся почти одинаковыми. В качестве буферного подслоя используют и эластичные ссадки матового или полублестящего никеля. Толщина буферного подслоя составляет 50 - 75 oj общей толщины покрытия. [27]

Необходимость нанесения слоя меди вызывается еще и тем, что ока служит буферам между пластмассой и блестящим никелевым покрытием при резком изменении температуры, Хотя медь и имеет значительно меньший коэффициент линейного теплового расширения, чем пластмасса, но нагрев и расширение te происходят быстрее. Это приводит к тому, что расширение или сжатие для пластмассы и осаждаемого подслоя становятся ночти одинаковыми. В качестве буферного подслоя используют и эластичные осадки матового или полублестящего никеля, Толщина буферного подслоя составляет 50 - 75 % общей толщины покрытия. [28]

Необходимость нанесения слоя меди вызывается еще и тем, что она служит буфером между пластмассой и блестящим никелевым покрытием при резком изменении температуры. Хотя медь и имеет значительно меньший коэффициент линейного теплового расширения, чем пластмасса, но нагрев и расширение ее происходят быстрее. Это приводит к тому, что расширение или сжатие для пластмассы и осаждаемого подслоя становятся почти одинаковыми. В качестве буферного подслоя используют и эластичные осадки матового или полублестящего никеля. Толщина буферного подслоя составляет 50 - 75 % общей толщины покрытия. [29]

Исследовано влияние вторичных добавок на структуру, внутренние напряжения и прочность сцепления блестящих осадков меди с основой и последующим блестящим никелевым покрытием. [30]

Страницы: 1 2 3 4