Положение - максимум - интенсивность
Cтраница 3
В оптически плотной плазме спектры излучения уже не несут столь обширной информации. Определение локального контура становится невозможным. Полезность усредненного контура основана на том, что он оказывается самообращенным; значение и положение максимума интенсивности на крыльях такого контура зависят от темп-ры на оси плазмы. [31]
 |
Положения максимумов интенсивности для аморфного Ni, Ge, I256 ]. [32] |
Исследование ближнего порядка методом Э в аморфных пленка FesGe3, Co5Ge3 и NisGe3 [256] для получения информации о структуре и выяснения, в какой степени состав аморфных пленок связан с кристаллической структурой твердой фазы, было предпринято в 1975 г. Препараты тонких пленок германидов осаждались на свежий скол каменной соли: 1) электронной бомбардировкой компонент сплава в вакууме, 2) ионной бомбардировкой сплава в атмосфере аргона, 3) нагреванием в вакууме. Температура иеследова - - ний - от комнатной до 800 С. Как видно, положения максимумов интенсивности совпадают при разных способах учета фона. [33]
Рассмотрим образцы исходного и закристаллизованного стекол, содержащие одинаковое число упомянутых групп атомов. Чтобы исключить рассуждения, связанные с возможностью случаев вырождения, условимся далее говорить, что образцы содержат одинаковое количество вибраторов. Здесь v - частота, соответствующая максимуму интенсивности. Учитывая, что упорядоченные области в стекле ориентированы в пространстве случайным образом, а закристаллизованное стекло является поликристаллическим со случайно ориентированными кристалликами, можно принять, что распределение интенсивности, вносимой в спектр одним вибратором, около частоты, соответствующей максимуму, является одинаковым как в стекле, так и в кристалле. Однако в то время как положения максимумов интенсивностей вибраторов в кристалле совпадают друг с другом и с положением максимума v суммарной интенсивности, в случае идеального стекла с полностью беспорядочной сеткой Захариасена положения максимумов интенсивностей вибраторов v будут распределены около v0 по закону Гуасса. [34]
Рассмотрим образцы исходного и закристаллизованного стекол, содержащие одинаковое число упомянутых групп атомов. Чтобы исключить рассуждения, связанные с возможностью случаев вырождения, условимся далее говорить, что образцы содержат одинаковое количество вибраторов. Здесь v - частота, соответствующая максимуму интенсивности. Учитывая, что упорядоченные области в стекле ориентированы в пространстве случайным образом, а закристаллизованное стекло является поликристаллическим со случайно ориентированными кристалликами, можно принять, что распределение интенсивности, вносимой в спектр одним вибратором, около частоты, соответствующей максимуму, является одинаковым как в стекле, так и в кристалле. Однако в то время как положения максимумов интенсивностей вибраторов в кристалле совпадают друг с другом и с положением максимума v суммарной интенсивности, в случае идеального стекла с полностью беспорядочной сеткой Захариасена положения максимумов интенсивностей вибраторов v будут распределены около v0 по закону Гуасса. [35]
Все используемые в оптической спектроскопии источники излучения являются излучателями непрерывного спектра. Для инфракрасной спектроскопии, а также для спектроскопии в видимой области, используют раскаленные излучатели; для ультрафиолетовой спектроскопии - специальные газоразрядные лампы. Распределение интенсивности излучения по спектру для идеального термического излучателя описывается законом Планка для излучения энергии абсолютно черным телом. В широком диапазоне частот интенсивность излучения различна. Особенно мала она в самом конце длинноволновой области; после прохождения максимума, ближе к концу коротковолновой области, интенсивность излучения быстро падает. Радиационные свойства излучателя и положение максимума интенсивности определяются температурой, химическим составом и состоянием поверхности этого излучателя. [36]
Страницы: 1 2 3