Полоса - наложение
Cтраница 2
Для сравнения длин эталонов применяется схема для наблюдения полос наложения. При больших и неравных расстояниях между зеркалами эталонов С и С2 наблюдается интерференционная картина полос наложения порядков интерференции. На рис. 3.8.2 изображены два эталона длиной С и С2, выполненные в виде кварцевых цилиндров. Торцы цилиндров находятся в оптическом контакте с плоскими полупрозрачными пластинами. [16]
В практике применяются трех - и четырехлучевые интерференционные системы, а также системы двух - и многозеркальных многолучевых интерферометров. В многозеркальных интерференционных системах возможно наблюдение своеобразных интерференционных явлений, связанных с появлением так называемых полос наложения. [17]
Для сравнения эталонов длин применяется схема для наблюдения полос наложения. Как было показано ранее в § 19, при больших и неравных расстояниях между зеркалами эталонов Ci и С2 наблюдается интерференционная картина полос наложения малых порядков интерференции. На рис. 24.2 изображены два эталона длины Ci и С2, выполненные в виде кварцевых цилиндров. [18]
Различие в скорости реакции в двух отчасти налагающихся полосах при одной и той же длине волны должно зависеть от того, что электроны, совершающие колебания, принадлежат различным колеблющимся системам в молекуле краски. Возможен такой особый случай, что для одной полосы выталкивание электрона из молекулы сопровождается процессом окисления, для другой - процессом восстановления краски, и тогда на границах сложной полосы мы получим почти чистые процессы окисления и восстановления по середине полосы наложения обоих процессов ( Ср. [19]
А - малая положительная величина, определяемая основной разностью хода. Эталоны Сх и С2 устанавливаются строго параллельно друг другу и освещаются параллельным пучком света, падающим нормально к зеркалам. За эталонами установлен клиновой компенсатор К - На поверхности одной из пластин, составляющих компенсатор, нанесена миллиметровая шкала М, проградуирован-ная в толщинах клина. После прохождения лучом 2 компенсатора К интерферирующие лучи / и 2 составят угол со и образуют интерференционную картину полос наложения, локализованную на клине. [20]
 |
Схема использования полос наложения для сравнения длин. [21] |
Эталоны С и С2 устанавливают строго параллельно друг другу и освещают параллельным пучком белого света, падающим почти нормально к поверхности зеркала. За эталонами установлен клиновой компенсатор К. На поверхности одной из пластин, составляющих компенсатор, нанесена миллиметровая шкала М, проградуированная в толщинах клина. Луч / испытывает четыре отражения в первом эталоне, а луч 2 - два отражения во втором эталоне. После прохождения клинового компенсатора К интерферирующие лучи 1 и 2 составят угол со. Они образуют интерференционную картину полос наложения, локализованную на одной из поверхностей клина. [22]
Страницы: 1 2