Cтраница 2
Разделив это выражение на поток налетающих атомов Nva, получим формулу ( 1) для сечения ионизации возбужденного атома. [16]
Этот нижний предел интенсивности потока вылетающих атомов достаточен для того, чтобы можно было надеяться сфотографировать траектории этих атомов в газе камеры Вильсона. [17]
Для соответствия потока вакансий потоку атомов в обратном направлении нужно, чтобы при образовании вакансии на поверхности атом ( объема Ь3) покидал поверхность. [18]
По широкой трубке 1 протягивается поток атомов, сильно разбавленных гелием, через тонкий капилляр 2 в поток подаются молекулы, также сильно разбавленные гелием. Молекулы В увлекаются потоком, диффундируют в него и вступают в реакцию с атомами А. Таким образом, у кончика капилляра образуется диффузионное облако реагирующих веществ. [19]
В АВЛИС-установках с эффузионным формированием потока атомов давление выбирается невысокое р - 10 - 2 - - 10 - 3 мм рт. ст., поэтому вклад Ai / yflap в формирование спектров поглощения незначителен. [20]
В Q-машине плазма создается при направлении потока атомов щелочных металлов на горячую вольфрамовую пластину, где происходит поверхностная ионизация и возникает обратный поток электронов и ионов. [21]
Особый интерес представляет воздействие на поверхность потоком атомов или молекул, нарушающим исходное состояние поверхностного слоя. Взаимодействие адсорбента с приповерхностным слоем может привести к образованию атом-вакансионного состояния с характерными для него свойствами. По сути дела, атомы адсорбента играют роль легирующей малорастворимой примеси. При этом меняются как свойства самой системы, так и характер взаимодействия между атомами адсорбента. Это может привести к протеканию между ними химических реакций, которые без поверхности идти бы не могли, что и лежит в основе катализа. [22]
В таком состоянии невозможен результирующий перенос или поток атомов или энергии. Следовательно, равновесная система является со всех точек зрения и во всех отношениях изолированной системой. Равновесная система должна быть ограничена поверхностями, через которые не происходит результирующего переноса ни энергии, ни атомов. Если возникает такой результирующий поток, состояние равновесия изменяется. [23]
Здесь q - приходящийся на единицу площади поток атомов водорода через, поверхность металла вблизи точки О за единицу времени. [24]
Кристаллы избыточной фазы растут вследствие обычной нисходящей диффузии: поток атомов ( см. стрелки на рис. 170, б) направлен в сторону понижения концентрации, и коэффициент диффузии D положителен. [25]
![]() |
Схема зарастания пор между зернами при твердофазовом спекании.| Схема зарастания замкнутых пор в зерне при твердофазовом спекании. [26] |
Поскольку коэффициент поверхностной диффузии больше, чем объемной, поток атомов направлен в значительной степени по поверхности спекающихся частиц, однако диффузионные потоки имеют место и в объеме зерен. [27]
Уравнение первого закона Фика для химической диффузии (6.215) описывает потоки атомов, пронизывающих кристаллическую решетку. Другими словами, оно определяет диффузионные потоки в системе координат, жестко связанной с атомными плоскостями в каждом данном сечении образца. [28]
За один импульс работы инжектора атомный анализатор регистрирует одновременно потоки атомов перезарядки при пяти различных энергиях. Иными словами, за один импульс получается энергетическое распределение ионов плазмы по пяти точкам. [29]
![]() |
Зависимость свойств алюминиевых пленок от температуры подложки. [30] |