Применение - высокий вакуум
Cтраница 1
Применение высокого вакуума накладывает дополнительные требования на обеспечение плотности соединений, очистку поверхностей и выбор материалов. Нельзя применять материалы, способные к газовыделениям ( цинк и его сплавы), а также недостаточно плотные материалы. При монтаже трубопроводов все сварные стыки необходимо зачищать шлифовальной машиной от сварочного грата, грязи, промывать горячей водой или обезжиривать растворителем и просушивать. Стыки из коррозионно-стойкой стали сваривают аргонно-дуговой сваркой. В качестве бескислотного флюса используют канифоль и ее раствор в спирте. [1]
Применение высокого вакуума при ведении технологических процессов и при плавке редких металлов предотвращает или уменьшает попадание загрязняющих примесей. [3]
Это обстоятельство лимитирует применение высокого вакуума в качестве изолятора. [4]
Процессы переэтерификации и поликонденсации бифункциональных мономеров, требующие применения высокого вакуума ( менее 1 - 2 тир) в настоящее время проводят в автоклавах, рассчитанных на работу под вакуумом и с применением повышенных давлений. Было показано, что перемешивание реакционной массы в автоклаве значительно ускоряет процесс. Однако опасность засасывания следов кислорода из окружающего воздуха через неплотности сальников часто заставляет конструкторов отказаться от применения мешалок в автоклавах. [5]
Проведено изучение [7] изомеризации н-бутана с реагентами высокой степени очистки и с применением высокого вакуума для загрузки и разгрузки продуктов. Оказалось, что изомеризация н-бутана в относительно мягких условиях при катализе либо хлористым алюминием с хлористым водородом, либо бромистым алюминием с бромистым водородом не идет. Чтобы вызвать такую изомеризацию, необходимо добавлять различные вещества, обычно присутствующие в качестве загрязнений при изомеризации технического бутана; в присутствии хлористого алюминия с хлористым водородом при 100 оказалось достаточным добавить к н-бутану 0 01 % бутенов. [6]
Опыты в последней с экспериментальной стороны значительно проще, так как не требуют применения высокого вакуума. [7]
По этой причине желательно при изучении механизма изомеризации иметь дело с реагентами высокой степени очистки, что становится возможным при применении высокого вакуума. [8]
В последние годы для электровакуумных приборов, откачку которых трудно механизировать, для различного рода вакуумных испытаний, а также исследовательских работ, связанных с применением высокого вакуума, применяют цельнометаллические вакуумные системы типа от-качных постов. [9]
Важными преимуществами электронно-лучевой обработки являются практическая независимость производительности, точности и качества обработки от свойств материала, а также отсутствие побочных загрязнений материала в процессе обработки, обусловленное применением высокого вакуума. [10]
Поликонденсацию диаминов и дикарбоновых кислот ( например, при получении полигексаметиленадипамида) или гликолей и дикарбоновых кислот ( например, при синтезе полиэтилентере-фталата) до сих пор проводят периодическим способом в автоклавах, так как, для того чтобы полимер имел достаточно большой молекулярный вес, необходимо почти полностью удалить отщепляющиеся при реакции низкомолекулярные соединения, а для этого требуется применение очень высокого вакуума. [11]
 |
Схема установки для серебрения слюды вакуумным методом. [12] |
Применение высокого вакуума ( остаточное давление порядка 1СГ3 - КГ4 мм рт. ст.) позволяет сблизить значения температуры кипения и плавления металла с таким расчетом, чтобы выделение паров начиналось сразу после расплавления ( при атмосферном давлении температура кипения для серебра составляет 1955 С при температуре плавления 960 С); кроме того, при работе под вакуумом удаляется кислород, который мог бы вызвать частичное окисление испаряющегося серебра. [13]
В масс-спектрометрии нужно учитывать возможные остаточные загрязнения аппаратуры - память прибора. Применение высокого вакуума в известной мере позволяет снизить уровень фона. Кроме того, в ионном источнике образуются и на фотопластинке регистрируются не только однозарядные, но и многозарядные ионы, многоатомные молекулы, их осколки-все это приводит к усложнению спектра и затрудняет анализ следов. [14]
В масс-спектрометрии нужно учитывать возможные остаточные загрязнения аппаратуры - память прибора. Применение высокого вакуума в известной мере позволяет снизить уровень фона. Кроме того, в ионном источнике образуются и на фотопластинке регистрируются не только однозарядные, но и многозарядные ионы, многоатомные молекулы, их осколки - все это приводит к усложнению спектра и затрудняет анализ следов. [15]
Страницы: 1 2 3