Cтраница 1
Причина подобной пассивности весьма проста: механизмы системы такого класса не поддерживают схемы полной базы данных. Поэтому они не знают, существуют ли вообще индексные файлы для данного файла базы данных в момент обработки запроса. [1]
Причина указанной пассивности в реакциях деалкилирова-ния триалкилфосфитов, имеющих электроотрицательные радикалы, заключается, по-видимому. [2]
Причиной пассивности является об-разование на поверхности химически стойкой пленки гидратированного оксида хрома и оксида хрома шпинель-ного типа. [3]
Причиной пассивности является образование на поверхности [ химически стойкой пленки гидратированного оксида хрома и оксида хрома шпинель-ного типа. [4]
Если причиной пассивности являются окисные пленки, то можно ожидать, что анод будет тем легче пассивироваться в данном электролите, чем меньше в нем растворимость соответствующей окиси. Действительно, окиси железа, кобальта, никеля и хрома менее растворимы в щелочных растворах, чем в кислых, и пассивное состояние скорее возникает в щелочных растворах. Окиси молибдена и вольфрама лучше растворяются в щелочах, чем в кислотах, и поэтому эти металлы легче пассивируются в кислых электролитах. [5]
Одной из причин пассивности хрома и его аналогов считают образование на поверхности металла тончайшего, но очень плотного слоя химически малоактивного оксида, препятствующего взаимодействию металла с кислотой. Пассивность нарушается, как только эта пленка будет повреждена в каком-либо месте. [6]
Не ища причин пассивности никелевых покрытий, необходимо их активировать, подвергая катодной обработке несколько минут в - ванне для электрохимического обезжиривания. После тщательной промывки изделий проточной и дистиллированной водой проводят нейтрализацию в 5 % - ной лимонной кислоте, вновь промывают в проточной и дистиллированной водах, после чего завешивают в ванны золочения. [7]
Наличие пленки как причины пассивности не вызывает сомнений. Однако существуют различные взгляды на строение и действие этой пленки. Наиболее распространенным является представление о сплошной пленке, полностью экранирующей поверхность и тем самым изолирующей металл от внешней среды. Ионы металла и электроны медленно диффундируют через пленку, а потому скорость взаимодействия делается очень малой и лимитируется скоростью диффузии. В ряде случаев образование таких сплошных пленок доказано ( А12О3), и для этих случаев механическая теория пассивирующего действия правильна. [8]
Наличие пленки как причины пассивности не вызывает сомнений. Однако существуют различные взгляды на строение и действие этой пленки. Ионы металла и электроны медленно диффундируют через пленку, а потому скорость взаимодействия делается очень малой и лимитируется скоростью диффузии. В ряде случаев образование таких сплошных пленок доказано ( А12О3), и для этих случаев механическая теория пассивирующего действия правильна. [9]
Предположение о том, что причиной пассивности является образование защитной окисной пленки на металле, долгое время оставалось гипотезой, так как не удавалось доказать присутствия этой пленки экспериментальным путем: внешне активный и пассивный металлы одинаковы - даже рентгенограммы не показывают различия между ними. [10]
Предположение о том, что причиной пассивности является образование защитной окиснои пленки на металле, долгое время оставалось гипотезой, так как не удавалось доказать присутствия этой пленки экспериментальным путем: внешне активный и пассивный металлы одинаковы; даже рентгенограммы не показывают различия между ними. [11]
![]() |
Скорость пассивирования серебра ( 0 2 н. раствор AgN03. [12] |
Подробные исследования А. Г. Ваграмяна показали, что причиной пассивности катода действительно является адсорбция поверхностно-активных органических веществ. [13]
![]() |
Скорость пассивирования серебра ( 0 2 н. раствор AgN03. [14] |
Подробные исследования А. Г. Ва-грамяна показали, что причиной пассивности катода действительно является адсорбция поверхностно-активных органических веществ. [15]