Продолжительность - экспонирование
Cтраница 1
Продолжительность экспонирования при работе с хлористым серебром составляет 20 - 30 мин. Оптимальное время экспозиции устанавливается на опытной пластинке. [1]
Продолжительность экспонирования пластин зависит от плотности негатива, мощности источника света и расстояния от него до пластины. [2]
 |
Кривые отклонения от закона взаимозаместимости для постоянных оптических плотностей. [3] |
Это уменьшение плотности с возрастанием продолжительности экспонирования называется соляризацией эмульсии. Соляризация связывается с выделением свободного галоида, который действует на поверхностное скрытое изображение. [4]
К-константа скорости процесса; t - продолжительность экспонирования, с; т0 - индукционный период, с; А, В-коэффициенты. [5]
При использовании тонких слоев резиста обычно снижается продолжительность экспонирования, однако у МРС время экспонирования возрастает, так как снимается действие света, отраженного от подложки. Необходимо поэтому, чтобы резист имел повышенную чувствительность. [6]
 |
Копировальная рамка.| Схема контактного копировального станка. [7] |
Мощность источника света, расстояние рамки от него и продолжительность экспонирования ( выдержку) определяют опытным путем. В зависимости от плотностей негатива разные участки фотобумаги получают неодинаковые экспозиции. В них образуется скрытое изображение, пропорциональное величине этих экспозиций. [8]
 |
Копировальная рамка. [9] |
Мощность источника света, расстояние рамки от него и продолжительность экспонирования ( выдержку) определяют опытным путем. В зависимости от плотностей негатива разные участки фотобумаги получают неодинаковые экспозиции. [10]
На примере системы из диазосмолы и полиуретана показана возможность почти десятикратного уменьшения продолжительности экспонирования в условиях проекционной печати в результате предварительного нагревания, лазерного или УФ-облучения композиции. При такой обработке растет оптическая плотность в области 650 нм. [11]
В - параметр, зависящий от структуры стеклопластика и климатической зоны экспонирования; т - продолжительность экспонирования; TO 0 1 года. [12]
 |
Принципиальная схема полуавтоматического экспозиметра. [13] |
Схема построена так, что резисторы Ru и RM, входящие в делитель напряжения, составляют зарядную цепь конденсатора Сз и определяют продолжительность экспонирования. [14]
Максимальная температура испытания устанавливается на 50 С ниже температуры плавления ( разложения) материала. Продолжительность экспонирования определяется временем, необходимым для снижения основных показателей на 50 % от исходных. [15]
Страницы: 1 2 3