Продолжительность - экспонирование
Cтраница 2
Экспонирование в процессе печатания производят с учетом особенностей изображения, его плотности и контраста, свойств материала, на который копируют изображение, прибора, при помощи которого производят печатание, освещенности во время копирования. Продолжительность экспонирования определяют по пробному отпечатку сюжетноважной детали изображения. [16]
Подлежащий печати негатив копируется на подготовленный фотослой обычным способом с непрерывным освещением. Продолжительность экспонирования составляет 2 мин, и увеличивать ее не следует. [17]
 |
Отделение инфракрасной части спектра от экспонирующего светового потока.| Тест-платы ( миры для определения разрешающей способности. [18] |
Светочувствительность определяет зависимость скорости протекания реакций в фотоматериале от освещенности. Продолжительность экспонирования связана со светочувствительно стыо; При недодержках негативной ФПК полимеризация происходит лишь в верхних слоях, нижние слои сохраняют способность растворяться в проявителе, что выявляется после проявления как плохая адгезия. Передержка приводит к ухудшению разрешающей способности из-за рассеяния света и полимеризации граничной зоны, смежной с засвеченной. [19]
 |
Рецепты проявителей для обработки фотобумаг с тонированием изображения. [20] |
Проявитель Орво-124 тонирует в оливково-коричневый цвет. Продолжительность экспонирования соответственно увеличивается, продолжительность проявления также удлиняется до 8 мин. [21]
Источником отклонения размеров, который труднее всего контролировать и регулировать, является расширение линий, обусловленное рассеянием света на закрытых фотошаблоном участках. При хорошем регулировании продолжительности экспонирования и очень небольшом расстоянии между фотошаблоном и подложкой расширение линий зависит, главным образом, от толщины покрытия фоторезиста. Как установлено Тулумелло и Хардингом [123], ширина изменяется в пределах 1 мкм и менее для покрытий толщиной в 0 5 мкм и менее в случае использования фоторезистов AZ-1350 KTFR и KPR. Ширина линий в случае фоторезиста AZ-1350 не изменяется значительно, если толщина покрытия больше на несколько микрон. В случае же негативных фоторезистов увеличение ширины линий прямопропорционально увеличению толщины покрытия. [22]
 |
Изображение дефектной автомобильной шины ( в двух проекциях. [23] |
Голографический метод применяется также для исследования колебательных процессов. В этом случае обычным способом снимают голограмму колеблющейся поверхности, например, мембраны, причем продолжительность экспонирования голограммы значительно превосходит период колебания мембраны. Таким образом, в течение экспозиции колеблющаяся поверхность многократно проходит все положения, заключенные между двумя крайними. Однако большую часть времени мембрана находится в крайних положениях, поскольку при максимальном отклонении от положения равновесия скорость ее движения минимальна. [24]
Изложенное выше представляет собой способ повышения контраста ксе-роизображения и материал для его осуществления, состоящие в нанесении на экспонированную полупроводниковую ( селеновую) ксеропластину электризованного люминесцирующего проявителя в виде пигмента. С целью повышения чистоты цветового тона и яркости изображения, а значит повышения чувствительности или сокращения продолжительности экспонирования в качестве проявителя используют дневные люмопигменты ( твердые растворы люминофоров или их смесей с обычными красителями в поликонденсационных смолах) основных или дополнительных к цвету фона тонов. Осмотр ведут в невидимом длинноволновом УФ-излучении через стекло ЖС-4 или полиимидную пленку типа ПМ или при дневном освещении ( естественном или. Бумага может быть белой, черной или окрашенной в дополнительный к используемому пигменту цвет. [25]
 |
Различные профили тонких пленок после травлении. [26] |
До сих пор считалось, что технология получения фоторезистов контролируема и воспроизводимость их качества поддерживается постоянной. Однако практически режимы получения фоторезистов никогда не остаются постоянными. Толщина фоторезистивного покрытия, продолжительность экспонирования и расстояние между подложкой и фотошаблоном изменяются в определенных пределах, следовательно, и размеры рисунка систематически изменяются в определенных пределах. [27]
MER / KTFR является так называемый кислородный эффект. Эта реакция по существу происходит в то нких слоях фоторезиста, около свободной поверхности, и поэтому эта часть остается растворимой в проявителе. Если не прибегать К изменению продолжительности экспонирования, то при работе со слоями фоторезиста около 1 мкм и более кислородный эффект становится не заметным. Однако при работе со слоями толщиной 0 5 мкм и менее, эти слои могут быть уменьшены за счет кислородного эффекта настолько, что покрытия не обеспечат достаточную защиту поверхности пленки при последующем травлении. Избежать появления кислородного эффекта лучше всего удается в том случае, когда вакуумный держатель с фотошаблоном и подложка устанавливаются таким образом, что поверхность раздела фоторезист - фотошаблон находится под пониженным давлением. Однако это менее эффективно, чем применение вакуума. [28]
Пробу помещают в отверстие нижнего угольного электрода. Противо-электрод, заточенный на усеченный конус, располагают на расстоянии 2 мм от нижнего. Ширина щели спектрографа 0 025 мм, продолжительность экспонирования 2 мин. [29]
 |
Процесс литографии с повышенным контрастом. [30] |
Страницы: 1 2 3