Рабочее пространство - установка
Cтраница 1
Рабочее пространство установки, в к-рой выращивается кристалл, представляет вакуумную камеру в форме цилиндра с двумя крышками, нижней и верхней. Через нижнюю крышку вводятся электроды для графитового нагревателя и шток с гнездом 7 для размещения тигля; шток соединен с механизмами, позволяющими поднимать и опускать тигель для надлежащей установки внутри нагревателя и вращать тигель для обеспечения равномерного на-греиа и определенного перемешивания расплава. Откачка рабочего пространства установки осуществляется через горловину в нижней крыше до давления порядка 10 5 мм с помощью форвакуумного и диффузионного насосов. После расплавления нагруженного в тигель материала и нек-рого его перегрева для удаления газов и летучих примесей устав авли-пастсп надлежащая темп - pa в расплаве, немного выше темп-ры плавления. При постепенном опускании штока в расплав затравочный кристалл вводится на не: ч-рую глубину под поверхность расплава и выдерживается п нем, пока но установится его тепловое равновесие с расплавом. Шток с затравкой начинают медленно поднимать со скоростью от неск. В области более низких темп-р над поверхностью расплава тянущийся за затравкой расплав затвердевает, продолжая структуру затравки. По этим причинам затравку следует брать возможно тоньше. Она должна быть также тщательно ориентирована в нужном кристаллографич. [1]
 |
Схема установки для выращивания монокристаллов германия или кремния по Чохральскому. [2] |
Рабочее пространство установки, в котором выращивается кристалл, представляет вакуумную камеру, выполненную в виде кварцевого или металлического цилиндра с двумя крышками. [3]
Откачка рабочего пространства установки до давления порядка 10 - 3н / м2 осуществляется через горловину в нижней крышке цилиндра с помощью форвакуумного И и диффузионного 10 насосов. [4]
 |
Образование шейки на затравке. [5] |
В рабочем пространстве установки создается вакуум при остаточном давлении порядка 10 - 5 мм рт. ст. После расплавления загруженного в тигель материала и некоторого его перегрева для удаления газов и летучих примесей в расплаве устанавливается температура немного выше температуры плавления. Постепенным опусканием штока затравочный кристалл вводится в расплав и выдерживается в нем, пока конец затравки не оплавится и не установится тепловое равновесие в системе расплав - кристалл. Шток с затравкой начинают затем медленно поднимать со скоростью в пределах от нескольких десятых до 1 - 2 мм / мин. В области более низких температур над поверхностью расплава тянущийся за затравкой расплав затвердевает, приобретая структуру затравки. [6]
 |
Образование шейки на затравке. [7] |
В рабочем пространстве установки создается вакуум при остаточном давлении порядка 10 - 5 мм рт. ст. Посл е расплавления загруженного в тигель материала и некоторого его перегрева для удаления газов и летучих примесей в расплаве устанавливается температура немного выше температуры плавления. Постепенным опусканием штока затравочный кристалл вводится в расплав и выдерживается в нем, пока конец затравки не оплавится и не установится тепловое равновесие в системе расплав - кристалл. Шток с затравкой начинают затем медленно поднимать со скоростью в пределах от нескольких десятых до 1 - 2 мм / мин. В области более низких температур над поверхностью расплава тянущийся за затравкой расплав затвердевает, приобретая структуру затравки. [8]
 |
Зависимость парциальных давлений pi хлоридов алюминия от температуры при суммарном давлении ря 9 81 10 Па. [9] |
В замкнутом рабочем пространстве установки диффундирующие элементы переносятся при систематическом восстановлении газа-переносчика в результате обратимых химических реакций. В муфеле установки предусматривается раздельное расположение насыщаемых деталей и материала, содержащего диффундирующий элемент. [10]
Металлические детали вентилятора, находящиеся в рабочем пространстве безмуфельных установок, целесообразно изготовлять из сплавов, подобных насыщаемым. То же можно рекомендовать для электронагревателей, а в случае силицирования молибденовых сплавов удобно применять нагреватели из дисилицида молибдена. [11]
 |
Схема установки для. вакуумного напыления. [12] |
Вакуумная система служит для создания вакуума в рабочем пространстве установки, где происходит напыление. Для создания необходимого разрежения применяют диффузионный 5 и форвакуумный 7 насосы. Существенной частью вакуумной системы является система вентилей и клапанов 6, позволяющая периодически создавать вакуум и заполнять воздухом эвакуированное пространство при смене объектов, испарителей и при других операциях. [13]
В основе этого метода лежит явление переноса диффундирующего элемента в замкнутом рабочем пространстве установки при систематическом восстановлении газа-переносчика в результате обратимых химических реакций. [14]
Исходную шихту загружают в графитовую или кварцевую лодочку внутри горизонтальной кварцевой трубы, образующей рабочее пространство установки ( рис. V. Внутри трубы создается вакуум либо атмосфера нейтрального газа. Внешний нагреватель сопротивления, выполненный в виде короткого цилиндра ( кольца), или высокочастотный индуктор расплавляет шихту в начальной части лодочки, создавая расплавленную зону. При перемещении нагревателя с определенной скоростью ( 1 - 2 мм1 мин) вдоль лодочки расплавленная зона перемещается вслед за нагревателем. [15]
Страницы: 1 2