Cтраница 2
![]() |
Концентрационный профиль водорода, внедренного ионной бомбардировкой ( Аг 25 кэВ, 0 1 тА / ст2 в нержавеющую сталь ОХ18Н10Т. [16] |
Для исследования профиля распределения концентрации при легировании образцов можно также не использовать эталоны. Зная общее количество внедренного элемента, можно легко определить произведение Rt-S - Ql2ne по светосумме линий i при полном-распылении легирующего слоя После ионного внедрения водорода с энергией 25 кэВ и дозой 1019 см-2 в нержавеющую сталь проводилось распыление этого образца на той же установке пучком ионов аргона при скользящих углах падения - 70 для исключения внедрения аргона и достижения условия неселективного распыления. При этом одно временно с распылением образца регистрировалась интенсивность оптического излучения резонансных линий водорода ( А, 656 3 мм) по глубине распыляемого слоя. [17]
Использование Оже-анализа профилей распределения элементов по глубине покрытия параллельно с измерениями спектров КР ( рис. 2) и фотоадектрохимического эффекта позволило установить, что взаимная термодиффузия компонент анода приводит к образованию у твердофазной границы т - Со о4 превосходного слоя. [18]
Из анализа профиля распределения давления ( см. табл. 31) видно, что пластовые давления в зонах размещения скважин практически не отличаются при расчетах по упруго-водонапорному и газовому режимам. [19]
Для нахождения профиля распределения внедренных атомов в твердом теле необходимо уметь определять их пробег. Торможение ионов - процесс статистический, поэтому расположение мест их закрепления в мишени носит случайный характер, что выражается в наличии определенного разброса пробегов ионов. [20]
![]() |
Схематическое представление профиля концентрации яда в плоской таблетке. [21] |
Уравнения, описывающие профиль распределения яда по катализатору, можно рассмотреть совместно с уравнением кинетики основной реакции первого порядка вида А - - В. [22]
Формулы (2.12) определяют профиль распределения усредненных скоростей в пограничном слое потока неустойчивых эмульсий. [23]
Таким образом, профиль распределения хордальных паросо-держаний зависит только от среднего в сечении газосодержания и некоторого параметра Ь, изменяющегося от 1 до - со. [24]
Использование для определения профиля распределения кремния и кислорода в пленке плазменного и химического травления приводит к изменению в процессе травления состава и структуры нижележащих слоев оксида. [25]
![]() |
Зависимость концентрации бора на поверхности высокоомной подложки от температуры отжига.| Распределение бора в подложке после отжига в водороде. Вре. мя отжига. 1 - 3 мин. 2 - 30 мин. [26] |
На рис. 3 представлены профили распределения бора, полученные после 3 - и 20-минутного отжига с исходным содержанием бора 6 - Ю16 ат / см:) при температуре 1200 С. [27]
![]() |
Зависимости распределения водонасыщенности в пропластках от д. ( вариант I. [28] |
На рис. 1.40 представлены профили распределения насыщенности для различных отобранных количеств газа, выраженных в процентах от начальных запасов. При отборе 49 6 % запасов газа зона подвижности для воды охватывает около 74 % объема пропластка. [29]