Процесс - осаждение - медь
Cтраница 2
Толщина слоя гальванической меди в отверстиях плат должна быть не менее 25 мкм. Процесс осаждения меди следует вести интенсивно, для чего гальванические ванны оснащают приспособлениями для перемешивания и непрерывной фильтрации электролита. При изготовлении ПП с повышенной плотностью элементов печатного монтажа после операции гальванического меднения на них осаждают слой никеля толщиной 3 - 5 мкм. При этом покрытие должно быть сплошным, без подгара. Не допускаются механические повреждения, отслоения и вздутия покрытия. [16]
Стабилизаторы в концентрациях, оказывающих эффективное стабилизирующее действие, в большей или меньшей степени уменьшают скорость меднения. Ускорить процесс осаждения меди можно увеличением концентраций реагирующих веществ или температуры, но при этом обычно уменьшается стабильность раствора. Однако в некоторых случаях возможно и увеличение скорости меднения при сохранении стабильности раствора. Уже упоминалось ускорение процесса под действием некоторых лигандов ( см. стр. Показано [83], что путем подбора концентраций компонентов раствора, содержащего смесь лигандов - тартрат и ЭДТА, добавки феррицианида и цистина, можно в 2 - 3 раза увеличить скорость меднения в стабильном растворе, хотя получаемые при этом покрытия отличаются значительной шероховатостью. [17]
Стабилизаторы в концентрациях, оказывающих эффективное стабилизирующее действие, в большей или меньшей степени уменьшают скорость меднения. Ускорить процесс осаждения меди можно увеличением концентраций реагирующих веществ или температуры, но при этом обычно уменьшается стабильность раствора. Однако в некоторых случаях возможно и увеличение скорости меднения при сохранении стабильности раствора. Уже упоминалось ускорение процесса под действием некоторых лигандов. Кроме того, в качестве ускоряющих добавок предложено использовать соединения осмия - OsC или осмиаты ( добавка 0 5 мг / л ускоряет процесс в два раза); анионы - ацетат, нитрат, хлорид, хлорат, перхлорат, молибдат, вольфрамат, формиат, тар-трат, цитрат, лактат, фталат ( наиболее сильно действует окса-лат - при концентрации примерно 1 моль / л он увеличвает скорость до двух раз); органические соединения иода ( в определенном интервале концентраций); органические соединения, содержащие делокализованные я-связи ( гетероциклические азот - и серусодер-жащие соединения, производные мочевины, ароматические амины - например, цнтозин, гуанидин, пиридин, п-нитробензиламин, 2-меркаптобензотиазол, 2-меркаптопиримидин при содержании порядка 5 мг / л увеличивают скорость меднения до двух раз); поли-окспалкпламины, содержащие несколько полиолефингликолевых цепей; сульфид серебра. [18]
В больших или меньших количествах водород образуется при работе почти всех используемых на практике гальванических ванн. Исключение составляет процесс осаждения меди из кислого электролита, для которого поляризационная кривая катода лежит вне области потенциалов разложения водных растворов. Для хромовых ванн до S0 % всего пропускаемого электричества тратится на выделение водорода. В большинстве же других ванн оно составляет несколько процентов. Металлы по-разному ведут себя по отношению к водороду. Никель, железо и в особенности хром растворяют его, при этом атомы водорода внедряются в кристаллическую решетку металла ( располагаются между узлами ее), что приводит к нарушению роста кристаллов. Кроме того, значительные количества водорода удерживаются на границах между кристаллами, ослабляя их связь между собой. Поглощение водорода оказывает влияние на механические свойства осадков, твердость которых повышается, но значительно увеличивается также и хрупкость. [19]
В больших или меньших количествах водород образуется во время работы почти всех обычно используемых гальванических ванн. Исключение составляет процесс осаждения меди из кислого электролита, для которого поляризационная кривая катода лежит вне области потенциалов разложения водных растворов. Для хромовых ванн до 90 % всего пропускаемого электричества тратится на выделение водорода. В большинстве же других ванн оно составляет несколько процентов. Металлы по-разному ведут себя по отношению к водороду. Никель, железо и, в особенности, хром растворяют его, при этом атомы водорода внедряются в кристаллическую решетку металла ( располагаются между узлами ее), что приводит к нарушению роста кристаллов. Кроме того, значительные количества водорода удерживаются на границах между кристаллами, ослабляя их связь между собой. Поглощение водорода оказывает влияние на механические свойства осадков, твердость которых повышается, но значительно увеличивается также и хрупкость. [20]
Гидролиз СаОС12 при рН6 приводит к образованию ионов С1О -, которые участвуют в окислении тиомо-чевины. Для осуществления процесса осаждения меди и цинка рекомендуется вводить сульфид натрия в количестве, равном 1 5 стехиометрического. [21]
 |
Схема очистки сточных вод после химической очистки оборудования. 1 - бак. 2 - бак-нейтрализатор. 3 - шламоотстойник. 4 - бак для коррекции рН. [22] |
Гидролиз СаОС12 при рН 6 приводит к образованию ионов СЮ -, которые участвуют в окислении тио-мочевины. Для осуществления процесса осаждения меди и цинка рекомендуется вводить сульфид натрия в количестве, равном 1 5 стехиомет-рического. [23]
Для управления процессом осаждения металла, концентрация которого в исходной воде может непрерывно измеряться, структура САР остается такой же. Примером служит система регулирования процесса осаждения меди. Следовательно, коэффициент усиления регулируемого процесса в определенной окрестности заданного значения рН не изменяется. [24]
Для управления процессом осаждения металла, концентрация которого в исходной воде может непрерывно изменяться, структура САР остается такой же. Примером служит система регулирования процесса осаждения меди. Следовательно, коэффициент усиления регулируемого процесса в определенных пределах заданного значения рН не изменяется. [25]
Для обеспечения этого условия можно применить в узле трения коррозионно-стойкий сплав, содержащий медь или металлоплакиру-ющий смазочный материал в виде водного раствора соли меди. Необходимым источником энергии для осуществления процесса осаждения медного слоя является ТЭДС. Процесс осаждения меди на поверхностях трения имеет общую природу с электролизом. Возникновение ТЭДС объясняют явлением Зеебека, согласно которому в замкнутой электрической цепи возникает ТЭДС, если температура на контактах разная. [26]
Страницы: 1 2