Процесс - катодное распыление
Cтраница 1
Процесс катодного распыления заключается в разрушении катода при возникновении электрического разряда между электродами при низком давлении под воздействием ударяющихся о него ионизированных атомов и молекул газа. Частицы вещества катода покидают его поверхность в виде атомов, свободных или химически связанных с атомами остаточных газов. Часть освобожденных атомов осаждается на поверхностях, окружающих катод, часть возвращается на катод в результате столкновений с молекулами газа. Химический перенос вещества с катода на покрываемую поверхность состоит из следующих явлений: образования на поверхности катода летучих и непрочных соединений между металлом катода и газом, в котором происходит разряд; испарения этих соединений; частичного их разложения при осаждении на приемную поверхность. [1]
Процесс катодного распыления начинается в вакуумной среде при энергии ионов выше порога распыления Е0, который для различных элементов колеблется от единиц до нескольких десятков электроновольт. [2]
Процесс катодного распыления - разрушение и удаление оксидной пленки - происходит в моменты, когда изделие становится катодом. Вследствие мгновенных изменений полярности тока вольфрамовый электрод не перегревается, его расход практически не увеличивается. Сварка возможна токами значительной величины, что обеспечивает эффективность применения переменного тока для сварки легкоплавких металлов. [3]
 |
Вольт-амперная характеристика самостоятельного газового разряда. [4] |
В процессах катодного распыления источником ионов является самостоятельный тлеющий разряд, возбуждаемый автоэлектронной эмиссией холодного катода. Функции распыляемого материала ( мишени) и катода совмещены. Подложки устанавливаются на аноде. [5]
 |
Скема установки для ионного азотирования. [6] |
В процессе катодного распыления температура детали не превышает 250 С. Температура азотирования 500 - 580 С, разрежение 1 - 10 мм рт. ст., рабочее напряжение 400 - 1100 В. [7]
В процессе катодного распыления возникающие в плазме ионизированные атомы газа ускоряются под действием электрического поля и падают на поверхность катода, выбивая другие атомы. Эти вторичные атомы, вылетающие с поверхности мишени, поступают к поверхности подложки и конденсируются на ней, образуя пленку. Существуют другие типы источников, в которых генерируется плазма различного состава и ускоряется затем до поверхности подложки. Таким образом, такие источники основаны на использовании плазмы; вопрос связи поверхности мишени и источника - это по существу вопрос взаимодействия плазмы о поверхностью. [8]
Известно, что процесс катодного распыления не является аналогом процесса термического испарения, а коэффициенты распыления не коррелируют о коэффициентами упругости паров элементов. [9]
Большинство исследователей считает, что причиной разрушения пленки окислов является процесс катодного распыления, который возникает при бомбардировке катода тяжелыми положительными ионами. Некоторые авторы распыление пленки объясняют действием электронов: вырывающихся из катодного пятна. Имеются мнения о прямом расплавлении пленки за счет высокой температуры дуги. По-видимому, на разрушение пленки влияют в какой-то мере все перечисленные факторы. Чисто тепловое воздействие на пленку сомнительно: известно, например, что анод нагревается больше, чем катод, однако пленка разрушается именно на катоде. Высокая температура скорее всего способствует катодному распылению пленки. [10]
При ионной бомбардировке достигается идеальная депассивация поверхности за счет удаления окисных пленок в процессе катодного распыления. [12]
 |
Изменения распределения интенсивности линий Не по диаметру полости при различных значениях Н. [13] |
Возможной причиной уменьшения интенсивности линий Мо в случае чистого электрода является воздействие магнитного поля на процесс катодного распыления молибдена, благодаря которому его атомы поступают в разряд. Присутствие примесей ( особенно Са, Mg) существенно снижает работу выхода грязного молибдена. В таком случае возрастает число электронов, иммитируемых электродом, и сильнее сказывается действие магнитного поля на стадии возбуждения. [14]
Катодное распыление проводят в течение 50 - 60 мин при напряжении 1100 - 1400 В и давлении ОДЗ - Юа-0 26 - 10а Па, В процессе катодного распыления температура поверхности детали не превышает 250 С. [15]
Страницы: 1 2 3