Cтраница 3
Заводом Ленкинап в содружестве с Ленинградским отделением Всесоюзной конторы Лакокраскопокрытие разработаны и освоены рецептура и технология нового лакокрасочного покрытия типа молотковых эмалей, получившего условное наименование Декаль. Эмали Декаль имеют ячеистую фактуру, которая скрывает мелкие дефекты поверхности отделываемого изделия, и обладают весьма большой твердостью. Большая механическая прочность, мгновенное проявление рисунка при нанесении на поверхность, высокая стойкость к воздействию повышенной температуры ( 50 - 60) при относительной влажности воздуха до 100 % - все это дает новому покрытию значительное преимущество перед другими лакокрасочными покрытиями. [31]
Дальнейшие процессы выполняются автоматически: закрытие прижимной рамки, точная установка заготовки относительно фотошаблонов при помощи центровочных штифтов, создание вакуума, экспонирование в течение 45 с, открытие прижимной рамки. В блоках В и Г осуществляется проявление рисунка печатной платы. [32]
Каждое покрытие просушивают в течение 0 5 ч под вентилятором. Затем рисунок схемы экспонируют на сетку соответствующего фотошаблона. Однако для получения тонких линий и элементов микросхем этот метод непригоден из-за предрасположенности фотоэмульсии при проявлении рисунка трафарета съезживаться на волокнах сетки, что приводит к образованию пилообразных краев. [33]
Изделия, укрепленные на подвесках или уложенные на сетчатых противнях, размещаются в сушильной камере так, чтобы продукты сгорания равномерно омывали окрашенную лаком № 331 поверхность изделий. Проявление рисунка обычно происходит через 25 мин. Тонкие пленки лака дают мелкий рисунок, размеры которого увеличиваются с увеличением толщины пленок. После проявления рисунка изделия подвергаются сушке при температуре 25 5 С в течение 24 - 36 час. [34]
Цвет и рисунок должны соответствовать эталону. Допускается незначительное отклонение цвета при рабочей вязкости эмали по вискозиметру ВЗ-1 ( ФЭ-36) при температуре 18 - 20 и расходе эмали: для среднего рисунка 15 - 20 сек. Продолжительность проявления рисунка 25 - 40 мин. Пленка эмали, высушенная, как указано выше, должна быть стойкой к колебаниям температуры от 60 5 до - 60 5 в течение двух часов для каждой температуры без видимых изменений. [35]
Цвет и рисунок должны соответствовать эталону. Допускается незначительное отклонение цвета при рабочей вязкости эмали по вискозиметру ВЗ-1 ( ФЭ-36) при температуре 18 - 20 и расходе эмали: для среднего рисунка 15 - 20 сек. Продолжительность проявления рисунка 25 - 40 мин. [36]
Лак КФ-274 применяют для декоративной отделки металлических и деревянных поверхностен, предварительно окрашенных алкидными эмалями различных цветов ( предпочтительнее горячей сушки) - Лак можно наносить на поверхность кистью или краскораспылителем. При нанесении краскораспылителем получают слой более равномерный по толщине. В специальной сушильной камере может быть получено покрытие с узором, напоминающим иней. Процесс проявления рисунка продолжается около 25 мин. При превышении этого времени рисунки получаются матовыми и белесоватыми, а при неполном проявлении рисунка покрытия получаются глянцевыми. Кроме того, покрытие характеризуется невысокой механической прочностью. [37]
При нанесении краскораспылителем получают слой более равномерный по толщине. В специальной сушильной камере может быть получено покрытие с узором, напоминающим иней. Процесс проявления рисунка продолжается около 25 мин. При превышении этого времени рисунки получаются матовыми и белесоватыми, а при неполном проявлении рисунка покрытия получаются глянцевыми. Кроме того, покрытие характеризуется невысокой механической прочностью. [38]
Применяют для декоративной узорчатой муаровой отделки поверхностей приборов. Время проявления рисунка ( муара) при 80 С 25 - 40 мин. [39]
Лак КФ-274 применяют для декоративной отделки металлических и деревянных поверхностен, предварительно окрашенных алкидными эмалями различных цветов ( предпочтительнее горячей сушки) - Лак можно наносить на поверхность кистью или краскораспылителем. При нанесении краскораспылителем получают слой более равномерный по толщине. В специальной сушильной камере может быть получено покрытие с узором, напоминающим иней. Процесс проявления рисунка продолжается около 25 мин. При превышении этого времени рисунки получаются матовыми и белесоватыми, а при неполном проявлении рисунка покрытия получаются глянцевыми. Кроме того, покрытие характеризуется невысокой механической прочностью. [40]
При нанесении краскораспылителем получают слой более равномерный по толщине. В специальной сушильной камере может быть получено покрытие с узором, напоминающим иней. Процесс проявления рисунка продолжается около 25 мин. При превышении этого времени рисунки получаются матовыми и белесоватыми, а при неполном проявлении рисунка покрытия получаются глянцевыми. Кроме того, покрытие характеризуется невысокой механической прочностью. [41]
Формирование рисунка фотолитографическими методами основано на использовании полимерной пленки заданной конфигурации, нанесенной на поверхность металлических или изолирующих пленок, покрывающих всю поверхность подложки. Рисунок микросхемы наносится на маскирующее покрытие из полимерной пленки и повторяется в пленке металла или изолирующего слоя вытравливанием незащищенных участков. Маскирующее покрытие из полимерной пленки создается с помощью полимерных фото-чувстнительных материалов, называемых фоторезистами, молекулярная структура и растворимость которых изменяются при облучении фотонами. Для того, чтобы выделить те участки, на которых следует изменить растворимость фоторезиста, и чтобы оградить их от воздействия светового излучения, необходимо иметь диапозитив или фотошаблон с рисунком требуемой конфигурации. Этот процесс аналогичен процессу контактной печати, применяемому в фотографии, за исключением того, что вслед за проявлением рисунка в слое фоторезиста, следует травление рисунка в пленке, на которую нанесен фоторезист и удаление полимерного маскирующего покрытия. [42]
Его выполняют следующим образом. Слой сплавляют при 300 С. Благодаря малой толщине слоя каплеобразования не происходит. При охлаждении появляется скрытое изображение по границам кристаллитных структурных зерен. Создавая местные ускоренные отводы тепла, можно получать желаемый рисунок. Проявление рисунка производят при повторном медленном гальваническом осаждении олова ( плотность тока не более 0 2 А / дм2), когда выявляются границы зерен. [43]