Защита - пленка
Cтраница 1
Защита пленок слоем органических материалов ( например, полиуретаном) или неорганических ( например, стеклом) существенно уменьшает изменение параметров резисторов. [1]
Для защиты пленки от вторичного излучения окружающих предметов кассеты с обратной стороны закрывают свинцовыми защитными экранами. [2]
Для защиты пленки от рассеянного излучения рекомендуется экранировать кассету с пленкой со стороны, противоположной источнику излучения, свинцовыми экранами. [3]
Для защиты пленки от действия кислорода воздуха, а также для уменьшения количества улетучивающегося из пленки мономера, в лак вводят воскообразные вещества, которые всплывают и образовывают защитный покров. В качестве такого вещества обычно применяют парафин ( темп. Эти добавки, кроме того, улучшают розлив лака. [4]
Для защиты пленки от рассеянного излучения пленку с флуоресцирующими экранами защищают фольгами из тяжелых металлов. [6]
Для защиты пленки от рассеянного излучения и сокращения экспозиции ( в 2 - 3 раза) при просвечивании применяют металлические усиливающие экраны, поглощающие вторичное длинноволновое излучение сильнее, чем первичное. Усиливающее действие экрана обусловлено фотоэлектронами и электронами отдачи, возникающими под действием ионизирующего излучения. [7]
Для защиты пермаллоевой пленки от внешних химических и механических воздействий ЦМП покрывается защитным изоляционным лаком, который одновременно повышает сопротивление изоляции между адресными и разрядными цепями. [8]
Внешний слой служит для защиты пленки грунта и должен хорошо схватываться с грунтом, иметь более высокую механическую прочность, быть атмосферостой-ким и иметь соответствующую расцветку. [9]
Эмаль ХВ-553М предназначается для защиты пленки специального на-вначения, эксплуатируемой в атмосферных условиях. [10]
Эмаль ХВ-553М предназначается для защиты пленки специального назначения, эксплуатируемой в атмосферных условиях. [11]
 |
Пленарная структура с p - n - переходами и омическими контактами. [12] |
Для улучшения адгезии фоторезиста и защиты пленки SiO2 от воздействия полимера поверх слоя SiO2 в вакууме может напыляться пленка металла ( хрома, кадмия, никеля) или германия. [13]
Поэтому необходимо предпринимать специальные меры для защиты тепличных пленок от солнечной радиации и особенно от ее наиболее энергетической и потому самой вредной составляющей, а именно от УФ-излучения. [14]
На четкость и достоверность рентге-носнимка существенное влияние оказывают: защита пленки от вторичного ( рассеянного) излучения при помощи движущихся фильтров, условия фокусирования рентгеновской трубки, техника и условия обработки фотоснимка. [15]
Страницы: 1 2 3