Величина - поле - рассеяние
Cтраница 1
Величина поля рассеяния и его градиент максимальны, когда дефект выходит на поверхность изделия. В этом случае значительная часть силовых линий выходит на поверхность изделия в окрестности дефекта. [1]
 |
Изменение локального поля вблизи области р при перемагничивании облас-ти q. HpH ( a. HpH ( б. [2] |
Величина поля рассеяния определяется распределением объемных неоднородностей в образце, а также магнитострикционными эффектами, которые формально могут быть представлены как некоторое эффективное поле. [3]
Величина поля рассеяния размера замыкающего звена зависит от функции распределения at и KJ внутри интервалов возможных их значений. Как показывают некоторые статистические данные, распределение а и к находится в интервале от равновероятного до гауссового. [4]
Если величина поля рассеяния Шл действительных размеров оказывается равной величине поля производственного допуска 8, то все детали признаются годными. [5]
На величину поля рассеяния и характер кривой рассеяния в партии изделий оказывают влияние удельные значения доминирующих систематически действующих и случайных факторов и остальных факторов одного порядка величин, а также начальный и конечный номера изделий, ограничивающих группу ( выборку), выбранную при массовом их изготовлении для исследования или контроля. [6]
Построенные справа величины поля рассеяния размера Я всей партии колец и кривая рассеяния показывают, что они отличаются по величине и характеру от показанных ранее на фиг. [7]
Необходимо определить величину поля рассеяния погрешности базирования оси отверстия, если допустимый эксцентриситет наружной поверхности втулки относительно оси отверстия составляет 0 01 мм. Базирующее отверстие обрабатывается на универсальном оборудовании, находящемся в нормальном состоянии. Втулка изготовляется на новых автоматах. [8]
Действительно, сокращая величину поля рассеяния ют, порождаемую совокупным действием случайных факторов, увеличивают уточнение, создаваемое системой СПИД при каждом проходе, а следовательно, при заданной точности уменьшают количество проходов, увеличивая, тем самым, производительность обработки деталей. [9]
Погрешностью базирования еб будем называть величину поля рассеяния, получаемого при обработке координирующего размера, возникающего по причине смещения конструктивной базы, когда она не является одновременно опорной установочной базой. [10]
Таким образом, при обычной обработке величина поля рассеяния ип зависит от систематических погрешностей АЛД. [11]
Таким образом, при обычной обработке величина поля рассеяния ип зависит от систематических погрешностей АЛД. [12]
 |
Принципиальная схема электрохимического шлифования торцовых поверхностей пружин. [13] |
Правка пружин необходима в том случае, когда величина поля рассеяния размеров и формы пружин, получаемых при навивке, превышает заданные допуски. [14]
 |
Сокращение погрешности обработки партии деталей при компенсации размерного износа инструмента. [15] |
Страницы: 1 2 3 4