Разность - ход - лучая
Cтраница 3
 |
Схема интерферометра Релея. [31] |
При этом возникает разность хода лучей, в результате чего на матовом экране окуляра прибора образуются интерференционные полосы, которые смещены относительно оптической оси интерферометра. [32]
 |
Схема компенсатора. [33] |
Таким образом, разность хода лучей в данном компенсаторе связана с показаниями шкалы микрометрического винта линейной зависимостью, что упрощает калибровку компенсатора и расчет измеряемой разности хода. [34]
 |
К упражнению 2. SL и S2 - положения когерентных. [35] |
Напомним, что разность хода лучей в тонких пленках в проходящем свете равна 2Л, а в отраженном 2Н К / 2, где h - толщина пленки, а К - длина волны в ней. [36]
В этом случае разность хода лучей мала, возникает разность фаз, ведущая к интерференции. [37]
Если постепенно увеличивать разность хода лучей Ji и J2 то интерференционная картина становится менее резкой и, в конце концов, исчезает. [38]
При неблагоприятном значении разности хода лучей рассеяние может даже улучшить условия приема, так как в этом случае прямой луч не будет полностью уничтожаться отраженным. [39]
 |
Образование полос равной толщины. [40] |
А определяется значением разности хода лучей 8д и S A, точно так же яркость изображения В точки В определяется разностью хода лучей S B и S B. Таким образом, на поверхности пластины или в плоскости ее изображения можно наблюдать интерференционные полосы, каждая из которых соответствует геометрическому месту точек равной толщины пластины. Наблюдение полос равной толщины невооруженным глазом возможно лишь при малой толщине пластин, когда угол между интерферирующими лучами настолько мал, что они могут пройти через зрачок. [41]
Метод компенсации позволяет измерять разность хода лучей с большой точностью ( сотые доли длины волны) и может применяться для материалов с малой оптической чувствительностью. [42]
Положение сверхструктурного пика соответствует разности хода лучей от соседних плоскостей в К / 1 Если эти плоскости полностью эквивалентны ( п - 0), то в результате интерференции отраженных волн происходит их полное затухание. Чем ближе параметр дальнего порядка к, тем больше разница в составе и, следовательно, в отражающей способности плоскостей двух типов. [43]
Картина интерференции зависит от разности хода лучей, которая определяется разностью плеч интерферометра. Одно из зеркал ( М2 на рис. 198) может перемещаться с помощью микрометрического винта, оставаясь параллельным самому себе. При его перемещении изменяется разность хода и интерференционные полосы на экране Р смещаются. Смещение интерференционной картины на одну полосу происходит при перемещении зеркала М2 на расстояние, равное половине длины волны. [44]
Предположим, что в разности хода лучей / и 1 ( равной удвоенной разности расстояний между полупрозрачным слоем и зеркалом и между полупрозрачным слоем и исследуемой поверхностью) укладывается одна длина волны X. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5