Разрешение - линия
Cтраница 3
Как указывалось выше, с точки зрения контрастности и однородности наиболее благоприятны для фотометрических измерений пластинки невысокой чувствительности. Мало чувствительные пластинки, кроме того, обладают и значительно меньшим зерном, нежели чувствительные пластинки, что делает также эти пластинки выгодными и в смысле получения возможно большого разрешения линий. [31]
Этот случай проиллюстрирован на рис. 19, а. Высококачественные микроскопические объективы обеспечивают очень высокое разрешение, от 500 лин / мм и выше, но размеры поля при этом составляют менее 1 мм. Разрешение линии, тем выше, чем больше коэффициент уменьшения, для чего в свою очередь необходимо иметь большие числовые апертуры. [32]
Спектр нитроксильных радикалов, замороженных в изотропной среде при случайных ориентациях осей г, показан на рис. XI. Главные значения тензоров qa и Ац в молекулярной системе координат могут быть определены непосредственно из спектра. Для улучшения разрешения линий в спектре нитро-ксильного радикала прибегают к снятию дополнительного уши-рения линий за счет СТВ электрона с протонами путем замещения атомов водорода на дейтерий. [33]
 |
Константы изотропного СТВ некоторых хлор - и фторсодержащих радикалов. [34] |
Спектр ЭПР облученного поликристаллического этилиодида не изменяется при замене 1271 на 1291, хотя ядерный спин, ядерный и квадрупольный моменты изотопов различны. Таким образом, структура спектра не может быть объяснена СТВ с ядром иода. Общая ширина спектра этилиодида не изменяется при дейтерирова-нии последнего, хотя число и разрешение линий несколько меньше, чем в спектрах недейтерированных соединений. [35]
Поскольку в проекционной печати с использованием большого поля изображения, когда необходима только одна операция экспонирования на подложке, не применяются контактные шаблоны, этот метод представляет большой практический интерес. Одна из моделей ( фирма Кулик энд Соффа Индастри, США, модель 688) обеспечивает проецирование диапозитивов при уменьшении 2: 1 на подложки диаметром 31 75 мм с разрешением линий шириной 2 мкм. Один из фотоповторителей ( фирма Дэвид Манн, США, модель 1595), позволяет осуществлять непосредственное экспонирование фоторезиста. [36]
Точка О соответствует значению vK01, черточками справа и слева показаны возникающие частоты. Высота черточек пропорциональна интенсивности этих спектральных линий. При большом разрешении каждая линия видна раздельно. При малом разрешении линии сольются в полосу, ход интенсивности которой передается огибающей кривой. На рис. 230 показана схема энергетических переходов, которая привела к созданию этой полосы. Заметим, что чисто колебательный переход ( с / 0 на / 0) запрещен, в середине полосы имеется провал. Далее поглощение проходит через максимум слева и справа от колебательной частоты. Поэтому при возрастании температуры вид спектральной полосы будет меняться так, как показано на схеме. [37]
Точка О соответствует значению УКОЛ, черточками справа и слева показаны возникающие частоты. Высота черточек пропорциональна интенсивности этих спектральных линий. При большом разрешении каждая линия видна раздельно. При малом разрешении линии сольются в полосу, ход интенсивности которой передается огибающей кривой. На рис. 230 показана схема энергетических переходов, которая привела к созданию этой полосы. Заметим, что чисто колебательный переход ( с / 0 на j 0) запрещен, в середине полосы имеется провал. Далее поглощение проходит через максимум слева и справа от колебательной частрты. Поэтому при возрастании температуры вид спектральной полосы будет меняться так, как показано на схеме. [38]
Спин-решеточная релаксация в методе ЭПР наиболее часто возникает за счет модуляции электрических полей кристаллов под действием колебаний решетки. Спин электрона чувствует посредством спин-орбитальной связи флуктуирующие магнитные поля, обусловленные колебаниями решетки и вызывающие переходы спинов. Теория [127] показывает, что величина Т, связанная с этим эффектом, непосредственно зависит от энергетического расстояния между основным и первым возбужденным состоянием электрона и, кроме того, сильно зависит от температуры, увеличив-аясь по мере ее уменьшения. Таким образом, если в опытах требуется увеличить разрешение линии ЭПР, то температуру понижают. [39]
Спин-решеточная релаксация в методе ЭПР наиболее часто возникает за счет модуляции электрических полей кристаллов под действием колебаний решетки. Спин электрона чувствует посредством спин-орбитальной связи флуктуирующие магнитные поля, обусловленные колебаниями решетки и вызывающие переходы спинов. Теория [127] показывает, что величина Т, связанная с этим эффектом, непосредственно зависит от энергетического расстояния между основным и первым возбужденным состоянием электрона и, кроме того, сильно зависит от температуры, увеличиваясь по мере ее уменьшения. Таким образом, если в опытах требуется увеличить разрешение линии ЭПР, то температуру понижают. [40]
В масс-спектрометрии используются фотопластинки и с другими типами эмульсии. Пластинки Kodak имеют два слоя: верхний, почти не содержащий желатину, и внутренний, более толстый, состоящий из чистой желатины. Оказалось, что эмульсия Kodak имеет несколько более высокую чувствительность ( - 20 %) по сравнению с Ilford Q2, что позволяет улучшить разрешение линий и снизить предел обнаружения примесей. [41]
Самым новым методом для непосредственного экспонирования фоторезиста без применения шаблона является голографический. Увеличенный диапозитив рисунка шаблона проецируется через голограмму системы узкодиафрагмовых коллиматоров. При этом получаются два изображения реальных размеров. Они состоят из целого ряда уменьшенных рисунков шаблона, подобных матрице, получающейся при растровом способе, [ см. разд. Сотрудники фирмы Белл телефон лаборатория [144] считают, что таким способом можно получить разрешение линий шириной 1 мкм при диаметре рабочего поля изображения 70 мм. Таким образом, голографическое мультиплицирование изображения позволяет обеспечить более удачное сочетание разрешения и размеров поля без применения дорогостоящих объективов. В настоящее время серьезные затруднения вызывает соотношение интенсивности сигнал изображения - помеха. Помехи возникают из-за нелинейности принимающего сигнал материала, искривления поверхности диаграммы и из-за дифракции. Это проявляется после воспроизведения изображения в виде зернистости и дифракционных колец. [42]
В экспериментах такого типа мощность облучения устанавливается на довольно высоком уровне, но центральная частота смещается на 500 - 1000 Гц в сторону от значения частоты протонного резонанса, и генератор широкополосного облучения выключается. Эта процедура позволяет обнаружить сигналы от непротонированных атомов углерода, поскольку последние не имеют непосредственно связанных с 13С протонов и проявляются в спектрах при неполной развязке от протонов как синглеты. Группы СН, СН2 и СН3 обнаруживаются соответственно как дублеты, триплеты и квартеты. Наблюдаемые расщепления в спектрах при неполном подавлении спин-спинового взаимодействия с протонами не равны истинным константам спин-спинового взаимодействия, а представляют собой остаточные ( уменьшенные) расщепления. В таких спектрах значительно легче провести отнесение сигналов, поскольку перекрывание сигналов находящихся по соседству атомов углерода менее вероятно. Наблюдаемое остаточное расщепление является функцией истинной константы спин-спинового взаимодействия 3С - Н, мощности развязки и частоты ( или смещения) облучающего поля. Соответствующая настройка частоты облучающего поля позволяет добиться разрешения перекрывающихся линий. [43]
Страницы: 1 2 3