Cтраница 1
Распределение освещенности получаем, возводя в квадрат амплитуду А ( у1, г), это дает кривую вида, показанного на фиг. [1]
Схема лабораторного интерферометра типа Рэлея ( вид сбоку и. [2] |
Распределение освещенности на вне-теневых участках плоскости z слабо зависит от разности хода лучей в средах I я II, и внетеневые максимумы А и А % могут служить реперами для оценки симметричности положения центральной полосы. [3]
Распределение освещенности в спектральной линии зависит от формы аппаратной функции. Будем также считать, что яркость Ви постоянна по ширине и высоте входной щели. Поскольку в нашем случае ( см. рис. 1.29) на щель отображается источник при условии полного заполнения коллиматора, то это соответствует некогерентному освещению щели. [4]
Распределение освещенности в этом изображении обозначим Н ( х), где х - координата в выходной фокальной плоскости, ориентированная вдоль направления развертки спектра. [5]
Распределение освещенности, соответствующее квадрату модуля этого спектра, легко наблюдать, направив на щель спектрального прибора луч лазера и поместив лист бумаги за коллиматором. Зоне вблизи оптической оси соответствуют низкие пространственные частоты в спектре щели. [6]
Распределение освещенности на экране ( расположенном в фокальной плоскости линзы), полученное вследствие дифракции световой волны, называется дифракционным спектром. [7]
Распределение освещенности в интерференционной картине при 1г / 2 определяется выражением (6.14) и приведено на рис. 6.4, а. [8]
Распределение освещенности в интерференционных полосах, наблюдаемых по схеме Юнга, показано на рис. 1.3. Освещенность в минимумах равна нулю, а в максимумах она в четыре раза больше освещенности, которая создавалась бы одним источником. [9]
Распределение освещенности по освещаемым поверхностям определяется кривой светораспределения светильника, а также относительным расстоянием между светильниками, которое определяется отношением расстояния между светильниками к высоте подвеса над освещаемой поверхностью. В помещениях, где предусматривается общее равномерное освещение лампами накаливания, ДРЛ и МГЛ, светильники рекомендуется располагать по вершинам квадратных ( рис. 5.5 а) или прямоугольных полей ( рис. 5.5 6) с отношением большей стороны S. При локализованном освещении желательно придерживаться этих же способов размещения светильников. При размещении светильников на фермах или светотехнических мостиках ( рис. 5.5 е) рекомендуется сокращать число рядов светильников в пролетах производственных зданий. [10]
Распределение освещенности на диафрагме ( экране), особенно в пределах развертывающего элемента, должно быть возможно более равномерным. [11]
Распределение освещенности на горизонтальной плоскости на уровне 0 8 м от пола ( ркс. [12]
Распределение освещенности на экране ( расположенном в фокальной плоскости линзы), полученное вследствие дифракции световой волны, называется дифракционным спектром. [13]
Конструкция однообъективного фоторегистратора барабанного типа. 1 - барабан, 2 - пленка, з - объектив, 4 -поворотная призма, 5 - мотор. [14] |
Распределение освещенности по высоте этой щели воспроизводит распределение яркости по выбранному сечению источника. [15]