Распыление - поверхность
Cтраница 3
 |
Зависимость потенциала плазмы в симметричной ВЧ системе с металлическими электродами ст давления газа. [31] |
Вследствие более высокой плотности тока на меньшем электроде, потенциал на нем будет значительно выше, чем на большем. Соотношение постоянных напряжений на двух электродах с изменением отношения их площадей изменяется более быстро, чем простая обратно пропорциональная зависимость. Это объясняется тем, что уменьшение напряжения на данном электроде приводит к соответствующему уменьшению толщины ионной оболочки вблизи этого электрода. В результате емкостное сопротивление большего электрода уменьшается быстрее, чем оно уменьшалось бы вследствие только увеличения площади этого электрода. Если мы теперь заменим конденсатор во внешней цепи слоем диэлектрика на одном из электродов, эффект будет таким же, и между плазмой и меньшим электродом появится достаточно высокое напряжение. Если слоем диэлектрика будет покрыт именно этот электрод, то может иметь место ионная бомбардировка и, следовательно, распыление поверхности диэлектрика. [32]
Страницы: 1 2 3