Cтраница 3
Предположим, что моноатомный слой осадка имеет нормальный параметр решетки. Тогда на дифракционной картине наряду с рефлексами от решетки подложки появятся рефлексы от кристаллического слоя осадка. Однако наряду с первичными диффузными линиями в результате вторичной дифракции электронных волн, отраженных от подложки, появятся добавочные линии. Точечные рефлексы, расположенные вдоль центральной линии, обусловливают вторичную дифракцию, рефлексы от которой совпадают с первичной картиной. Однако рефлексы, расположенные вдоль ряда А, действуя как источник, приведут к образованию добавочных линий, показанных на рис. 65 штрихами. Таким образом, первичные и вторичные дифракционные рефлексы могут перекрываться и образовывать широкие дифракционные полосы, которые формально соответствуют параметрам решетки подложки. Это обстоятельство представляет существенное затруднение при расшифровке электронограмм, если различие параметров подложки и осадка составляет несколько процентов. [31]