Cтраница 3
В заключение следует отметить, что в целом для технологии важна воспроизводимость структурных элементов рельефа - критерий, называемый в англоязычной литературе Li. Требуемый размер элементов микрорельефа нужно удерживать в определенных пределах на всей площади подложки и в течение всего технологического процесса. На воспроизводимость элементов микрорельефа оказывают влияние набухание резиста, а также следующие факторы экспозиционных устройств: механическая стабильность системы, качество оптики, стабильность источника излучения, форма пучка излучения, размер элементов маски; и технологии: однородность и толщина слоя резиста, режим проявления, пред - и постэкспозиционной термообработки и травления, условия плазменного удаления вуали. [31]
Интервалы между экспозициями следует брать неравномерными, так как почернение пленки не пропорционально интенсивности. Марки должны охватывать весь возможный интервал почернения: от исчеза-юще слабого до предельно черного. Шкалу марок готовят на пленке того же сорта и пользуясь тем же излучением, которое предполагается применять при структурном исследовании. Большую роль играет также равноценность режимов проявления и фиксирования пленки. Наилучшие результаты дает нанесение марок непосредственно на рентгенограмму, снимаемую с исследуемого кристалла при каждой съемке. При оценке интенсивностей пятен рентгенограмм пленку с марками накладывают на рентгенограмму так, чтобы сопоставляемые пятна располагались в непосредственной близости друг к другу. В этом случае суммарное почернение пятна ( дифракционное почернение - f - фон) будет сравниваться с видимым почернением в месте нахождения марки ( почернение марки - f - фон), чем исключается ошибка, связанная с наличием фона. [32]
В связи с этим режимы течения на отдельных участках пограничного слоя могут быть неодинаковыми. Если, например, принять, что турбулентный пограничный слой образуется от переднего края пластины, то на передней части последней, где б мало, отношение А / б будет велико и может иметь место режим полного проявления шероховатости. По мере удаления от переднего края величина А / б уменьшается и может быть достигнут режим неполного проявления шероховатости, а затем и гидравлически гладкий. Границы между участками с разными режимами определяются значениями безразмерного параметра u A / v так же, как для течения в шероховатых трубах. [33]
В связи с этим режимы течения на отдельных участках пограничного слоя могут быть неодинаковыми. Если, например, принять, что турбулентный пограничный слой образуется от переднего края пластины, то на передней части пластины, где б мало, отношение Д / б будет велико и может иметь место режим полного проявления шероховатости. По мере удаления от переднего края величина Д / б уменьшается, и может быть достигнут режим неполного проявления шероховатости, а затем и гидравлически гладкий. Границы между участками с разными режимами определяются значениями безразмерного параметра u A / v так же, как для течения в шероховатых трубах. [34]
Светочувствительность фоторезистов зависит при прочих равных условиях от квантового выхода фотохимических реакций. В этом плане истинная светочувствительность покрытий характеризуется относительным количеством функциональных групп, подвергшихся фотолизу. Однако и этот метод является только предпосылкой для оценки всего комплекса свойств фоторезистов, связанных с их светочувствительностью, тем более что технолога интересуют не столько абсолютные значения светочувствительности ( вычисленные по одной из методик), характеризующие воспроизводимость свойств отдельных партий материала, а то, как этот параметр будет воспроизводиться в конкретных производственных условиях при оптимизации режимов экспонирования. Как показывает практика, выбор оптимальных режимов экспонирования зависит не только от исходной светочувствительности фоторезистов, но и от условий формирования пленок, интенсивности освещения, типа подложки и фотошаблона, режимов проявления. В этом плане представляет интерес изучение взаимосвязи светочувствительных характеристик фоторезистов с условиями высокоточного воспроизведения геометрических размеров элементов схем. [35]
Отснятая, но непроявленная фотопленка частично теряет плотность изображения в первые 1 - 2 дня экспозиции в морской воде при комнатной температуре. В зависимости от типа пленки эта потеря иногда может быть полностью восстановлена, а иногда нет. При пониженных температурах изображение ухудшается в меньшей степени. На некоторых типах пленок при О С изображение может сохраняться практически неизменным до месяца. Поскольку изменение качества изображения обусловлено химическими процессами, то важное значение могут иметь условия экспозиции в воде, в частности близости пленки к металлическим поверхностям. Во всех случаях необходимо провести эксперимент на небольшой части пленки с целью определения режима проявления остальной части. [36]
Важнейшее свойство резистного слоя - светочувствительность. Грубо она определяется как минимальное время, необ ходимое для достижения оптимального эффекта экспонирования. Для повыше ния светочувствительности используют разнообразные приемы. США 3661982 описывается использование 0 5 % азотсодержащих гетеро-циклов ( индола, хиназолина, тетразола и др.) в качестве повышающих светочувствительность добавок к нафтохинондиазидному фоторезисту. Однако ю использование резко сужает допустимые пределы варьирования режимов обработок. Аналогичные недостатки, как известно, имеет и уменьшение содержания диазида в слое. Предложено вводить в композицию на основе нафтохинонди-азидного производного и крезольного новолака 4 - 8 % ангидрида циклической дикарбоновой кислоты-тетрагидрофталевой, малеиновой и др. [ пат. ФРГ 2657922; США 4115128 ]; при этом оптимальное время экспонирования сокра щается более чем в 3 раза. Однако и в этом случае снижается стойкость И обработкам, в частности к режиму проявления. [37]
Грубо она определяется как минимальное время, необходимое для достижения оптимального эффекта экспонирования. Для повышения светочувствительности используют разнообразные приемы. США 3661982 описывается использование 0 5 % азотсодержащих гетеро-циклов ( индола, хиназолина, тетразола и др.) в качестве повышающих светочувствительность добавок к нафтохинондиазидпому фоторезисту. Однако их использование резко сужает допустимые пределы варьирования режимов обработок. Аналогичные недостатки, как известно, имеет и уменьшение содержания диазида в слое. Для повышения светочувствительности в композиции рекомендуется вводить моно - и дикарбоновые кислоты, в том числе пикриновую, никотиновую, нитрокоричную, в количестве до 5 % от массы полимера [ пат. Предложено вводить в композицию па основе нафтохинонди-азидного производного и крезольного новолака 4 - 8 % ангидрида циклической дикарбоисвой кислоты - тетрагидрофталевой, малеиновой и др. [ пат. ФРГ 2657922; США 4115128 ]; при этом оптимальное время экспонирования сокращается более чем в 3 раза. Однако и в этом случае снижается стойкость К обработкам, в частности к режиму проявления. [38]