Рост - температура - облучение
Cтраница 2
Бакли выделяет три характерные особенности поведения коэффициента роста с ростом температуры облучения: отсутствие влияния температуры облучения на радиационный рост в интервале температур 75 - 200 С; максимум скорости роста при 300 С и, наконец, многоступенчатый спад скорости роста с увеличением температуры облучения выше 300 С. С учетом зависимости радиационного роста урана от скорости деления при температурах облучения выше 300 С следует ожидать, что точная форма высокотемпературного участка кривой и предельная температура, при которой рост не наблюдается, должны определяться скоростью деления. В связи с этим Бакли предполагает, что при каждом увеличении скорости деления на порядок предельная температура будет увеличиваться примерно на 50 С, достигая температуры а - - превращения при Ю14 дел / см3 с. Опубликованные в литературе результаты облучений при низких температурах согласуются гораздо хуже. [17]
Выше 250 С рост сменяется сжатием. В параллельном оси продавливания направлении имеет место усадка, величина которой с ростом температуры облучения снижается. В результате последующего облучения первоначальные размеры восстанавливаются и начинается вторичный рост, скорость которого при указанной температуре невысока. [19]
Поскольку из полученных в работе результатов следует, что эффект относительного изменения предела прочности при сжатии, изгибе и растяжении оказался одинаков, параметр о - в уравнении (3.12) также будет одинаков для указанных видов прочностных испытаний. Процесс коагуляции простых дефектов, учитываемый параметром а0, одинаково влияет на: снижение прочностных характеристик графита с ростом температуры облучения. [20]
Заметим, что возникновение решетки пор происходит в определенном интервале температур ( Т, Т %), иными словами, кроме температуры плавления Т %, упорядочение характеризуется Нижней температурой возникновения. Следовательно, силы, вызывающие упорядочение, эффективно действуют только в определенном температурном интервале, и в нем их влияние на развитие пористости уменьшается с ростом температуры облучения. [21]
При более высоких температурах точечные дефекты приобретают заметную подвижность. Участвуя в тепловых блужданиях, они могут аннигилировать, улавливаться и задерживаться имеющимися в материале примесями, адсорбироваться дислокациями и границами зерен. Кроме того, некоторые точечные дефекты встречаются с другими аналогичными дефектами и образовывают скопления - кластеры. С ростом температуры облучения роль перечисленных эффектов быстро возрастает, и при обычных температурах работы реактора ( Т - 50 С) накопление точечных дефектов становится невозможным, уступая место более энергетически стабильным образованиям - комплексам дефектов в форме кластеров. [22]
 |
Сравнение по - - ложения областей наибольшей усадки и нулевого изменения объема по расчетным данным и в соответствии с обобщенной диаграммой, приведенной на ( пунктир. [23] |
Изложенные выше представления позволили авторам работы [17] рассчитать положение различных областей на обобщенной диаграмме размерных изменений близкого к изотропному материала типа ГМЗ. С ростом дозы нулевая изохора смещается в сторону более низкой температуры. С ростом температуры облучения положение области наибольшего сжатия графита, а также граница перехода от сжатия к вторичному росту смещаются к меньшим значениям накопленной дозы. На рис. 4.28 представлены результаты расчета и экспериментальные данные. Соответствие их вполне удовлетворительное. [24]
К тому же облучение графита нейтронами при низкой температуре ( 50 - 100 С) повышает скорость окисления в несколько раз. От флюенса этот эффект мало зависит, так как быстро наступает стабилизация процесса. Повышение температуры облучения до 350 - 450 С практически полностью устраняет влияние эффекта облучения на окисление [ 59, с. Так как с ростом температуры облучения радиационное упрочнение падает, а скорость окисления растет, то в итоге может произойти разупрочнение графита. [25]
Из рис. 4.21 видно, что поверхность, ограничивающая объем, соответствующий росту графита, резко снижается от оси F. Для температуры выше 200 - 250 С эта поверхность спускается под плоскость чертежа, ограничивая объем диаграммы, соответствующий отрицательному изменению размеров графита - усадке. Выделяется область, представляющая глубокую впадину и распространяющаяся в сторону высокой температуры и меньших доз. Правее впадины имеет место резкий подъем с переходом через нулевое значение &V / V, крутизна которого возрастает с ростом температуры облучения. Индивидуальные особенности каждого материала проявляются в положении различных областей на диаграмме, крутизне склонов, а также расположении и глубине впадины. Наиболее сглаженным рельефом для температуры выше 300 С обладает материал марки ГМЗ. [26]
Страницы: 1 2