Cтраница 2
Они подвешены на расстоянии 1 5мкм над поверхностью подложки, покрытой слоем кремня толщиной 0 2 мкм. Для изготовления конденсаторов используется этот же слой нитрида кремния. [16]
Было установлено, что, в отличие от упомянутых выше соединений тантала или титана, для получения высококачественных пленок нитрида кремния необходимы низкие давления распыляющих газов. Следовательно, в этом случае необходимо использовать либо тлеющий разряд, поддерживаемый термоэлектронной эмиссией [109], либо высокочастотное распыление [ НО ], По-видимому, для распыления будет достаточным давление ниже ( 5 - 10) - 10 - 3 мм рт. ст. Для получения хороших результатов, в противоположность случаю системы кремний - кислород, распыление нужно проводить в атмосфере чистого азота. Вероятно, это объясняется тем, что для образования нитрида кремния необходимо присутствие атомарного азота, поскольку хемосорбции молекул N2 на кремнии не происходит. Ионы N образуются главным образом в темном пространстве [111] или путем диссоциации N2 при ударе о поверхность катода. Следовательно, атомы азота могут попасть на подложку только тогда, когда они либо распыляются с поверхности мишени, возможно, из слоя нитрида кремния на поверхности мишени [109], либо отражаются от мишени после прохождения темного пространства. В обоих случаях атомы азота, падающие на подложку, должны испытать относительно небольшое число столкновений на пути от катода к подложке. [17]