Резистной слой

Cтраница 1

Резистные слои полифункциональны; как мы уже видели, они не только защищают поверхности при травлении, но служат также печатающими элементами в печатных формах, избирательное поглощение излучения резистными слоями используется в масках и фильтрах. В настоящее время установлено, что пленку резиста можно применять в качестве электроизоляционного слоя, что требует повышения ее термостойкости. Недавно были разработаны фоторезисты-диффузанты ( гл. VI), которые совмещают в одном материале стойкость к травлению и способность к диффузии примесей в подложку. Несомненно, в дальнейшем будут выявляться и широко использоваться другие свойства высокоразрешенных рельефных полимерных слоев. [1]

Резистные слои полифункциональны; как мы уже видели, они не только защищают поверхности при травлении, но служат также печатающими элементами в печатных формах, избирательное поглощение излучения резистными слоями используется в масках и фильтрах. В настоящее время установлено, что пленку резиста можно применять в качестве электроизоляционного слоя, что требует повышения ее термостойкости. Недавно были разработаны фоторезисты-диффузанты ( гл. VI), которые совмещают в одном материале стойкость к травлению и способность к диффузии примесей в подложку. Несомненно, в дальнейшем будут выявляться и широко использоваться другие свойства высокоразрешенпых рельефных полимерных слоев. [2]

Важнейшее свойство резистного слоя - светочувствительность. Грубо она определяется как минимальное время, необ ходимое для достижения оптимального эффекта экспонирования. Для повыше ния светочувствительности используют разнообразные приемы. США 3661982 описывается использование 0 5 % азотсодержащих гетеро-циклов ( индола, хиназолина, тетразола и др.) в качестве повышающих светочувствительность добавок к нафтохинондиазидному фоторезисту. Однако ю использование резко сужает допустимые пределы варьирования режимов обработок. Аналогичные недостатки, как известно, имеет и уменьшение содержания диазида в слое. Предложено вводить в композицию на основе нафтохинонди-азидного производного и крезольного новолака 4 - 8 % ангидрида циклической дикарбоновой кислоты-тетрагидрофталевой, малеиновой и др. [ пат. ФРГ 2657922; США 4115128 ]; при этом оптимальное время экспонирования сокра щается более чем в 3 раза. Однако и в этом случае снижается стойкость И обработкам, в частности к режиму проявления. [3]

Путем введения различных добавок, а также варьированием условий обработки удается изменять те или иные свойства резистного слоя. Ниже эти добавки и условия обработок сгруппированы в основном по технологическим операциям, на результаты которых с их помощью стремятся повлиять. Однако, улучшая одно свойство слоя, можно изменить или даже ухудшить другие. [4]

Путем введения различных добавок, я также варьированием условий обра ботки удается изменять те или гаые свойства резистного слоя. Ниже эти до бавки и условия обработок сгруппированы в основном по технологическим операциям, на результаты которых с ах помощью стремятся повлиять. Однако, улучшая одно свойство слоя, можно изменить плп даже ухудшить другие. [5]

Метод равномерного. [6]

Величина W зависит от параметров процесса обработки резистного слоя. [7]

Полиолефинсульфон в этом резисте определяет способность новолачной матрицы к растворению в щелочах, подобно хинондиазидам в позитивных фоторезистах [ пат. По-видимому, NPR будет использован как для приготовления масок, так и при прямом экспонировании резистного слоя на кремниевых подложках. Аналогичный материал разработан фирмой Hitachi ( Япония) [ пат. Сополимеры SO2 и винилтриалкилсила-нов обладают не только высокой чувствительностью, но и стойкостью к кислородной плазме [ пат. [8]

Полиолефинсульфон в этом резисте определяет способность новолачной матрицы к растворению в щелочах, подобно хинондиазидам в позитивных фоторезистах [ пат. По-видимому, NPR будет использован как для приготовления масок, так и при прямом экспонировании резистного слоя на кремниевых подложках. Аналогичный материал разработан фирмой Hitachi ( Япония) [ пат. Сополимеры S02 и винилтриалкилсила-нов обладают не только высокой чувствительностью, но и стойкостью к кислородной плазме [ пат. [9]

Принцип негативных и позитивных светочувствительных слоев. [10]

При использовании монометаллических пластин, в частности алюминиевых, контакт поверхности алюминия с некоторыми светочувствительными слоями вызывает их каталитическое разложение. Для предотвращения этого поверхность алюминия окисляют ( часто с помощью анодирования), а также обрабатывают специальными составами; механическое зернение способствует лучшей адгезии резистного слоя. Светокопировальные составы применяют для изготовления не только собственно печатных форм, но и шаблонов, в том числе и в цветной печати. Травление по рельефу, созданному резистом, было использовано впервые вскоре после второй мировой войны для серийного производства проводниковых схем в электротехнической промышленности. [11]

Рекомендуется также в качестве проявителя применять водные растворы четвертичных оснований, содержащие силикаты и ароматические карбоновые кислоты [ пат. В проявитель вводят комплексны, с их помощью переводятся в раствор соли Mg и Са, и это позволяет применять для приготовления проявляющих растворов неочищенную воду, не опасаясь загрязнений резистного слоя [ пат. [12]

Расщепление связей и образование кислот, а также нитрозо-производных под действием света является химической основой процессов создания рельефов при экспонировании слоев с такими соединениями. Образовавшаяся при экспонировании нитрозобен-зойная кислота катализирует сшивание многих полимеров, в том числе и резольной смолы [ пат. Великобритании 2100872 ]; выделяющиеся при фотолизе о-нитробензиловых эфиров кислоты, а из образующихся карбаминовых кислот - амины могут термоотвер-ждать эпоксисоединения. Эти реакции позволяют создать негативные резистные слои, в том числе и для пленочных материалов [ пат. [13]

Расщепление связей и образование кислот, а также нитроз производных под действием света является химической основе процессов создания рельефов при экспонировании слоев с таким соединениями. Образовавшаяся при экспонировании нитрозобе ] зойная кислота катализирует сшивание многих полимеров, в то числе и резольной смолы [ пат. Великобритании 2100872 ]; выд ( ляющиеся при фотолизе о-нитробензиловых эфиров кислоты, а к образующихся карбаминовых кислот - амины могут термоотве ] ждать эпоксисоединения. Эти реакции позволяют создать негати ] ные резистные слои, в том числе и для пленочных материале [ пат. [14]

В проекционных системах используется излучение ртутных ламп, имеющее широкие полосы в ближней УФ и коротковолновой видимой области спектра. Если слой резиста толщиной d 2 мкм с показателем преломления п 1 6 экспонировать светом с длиной волны 436 нм с помощью объектива, имеющего апертуру А 0 28, то глубина резкости Дг такой системы составит Аг А / 2Л2 ж 2 7 мкм, при этом, используя достижимые в реальных условиях оптимальные режимы обработок, удается получать линии шириной К / А 1 5 мкм. Имея в виду, что эффективная оптическая толщина слоя равна d / n 1 25 мкм, то область допустимых ошибок резкости ( устойчивость системы к различному виду отклонений) составляет величину - 1 5 мкм. Если же при общей толщине МРС 2 мкм чувствительный слой будет иметь толщину 0 5 мкм, то, очевидно, резко возрастает устойчивость совокупного резистного слоя к различному виду отклонений при общем высоком AR МРС. [15]

Страницы: 1 2