Аморфный слой

Cтраница 1

Аморфный слой Бэйльби ( как его часто называют) обладает свойствами, резко отличающимися от свойств остальной части твердого тела. Он гораздо тверже, обычно более растворим и электролитически более аноден, что имеет большое значение для коррозии металлов, так как коррозия нередко начинается в тех точках ( например, вблизи продавленного углубления или отверстия), где имело место поверхностное течение или какое-либо другое повреждение кристаллический структуры. Слой Бейльби, повидимому, обладает способностью растворять металлы, не содержащиеся в данной кристаллической поверхности. Так, Финч, Куоррелл и Робак1, нанося небольшие количества металла конденсацией из паров на полированную поверхность другого металла, получали диффракционную картину, характерную для кристаллической структуры нанесенного металла, но эта картина исчезала через несколько минут, а иногда и секунд. [1]

Этот аморфный слой ( толщиной около 0 1 мкм) имеет пониженную твердость. Засаливание ( затупление) шлифовального круга шлифовальной пылью ускоряется продуктами реакций СОЖ с металлом. В силу большой величины отношения поверхности к объему мельчайшая шлифовальная пыль ускоряет эти реакции. [2]

Электронно-микроскопическое изображение высокого разрешения ( поперечное сечение, показывающее зарождение кристаллита LiNbO3 на плоской террасе выступа, расположенного на поверхности подложки сапфира. Направление падаюшего электронного пучка совпадает с направлением [ 2ПО ] ПОД1. Боковые границы выступа показаны стрелками. [3]

Фольмера-Вебера аморфный слой не образуется, то отсюда можно заключить, что наличие нановыступов на поверхности подложки приводит к механизму роста пленок, отличному от основных ранее известных типов роста. [4]

Энергия активации и температуры процесса отжига радиационных дефектов в кремнии. [5]

Если аморфный слой в кремнии образовался при внедрении ионов 9В и 31Р, то восстановление структуры слоя в процессе отжига происходит сравнительно легко даже при дозах облучения, превышающих дозу аморфизации. Существует гипотеза, согласно которой бор и фосфор способны образовывать с кремнием химические соединения, распад которых в процессе отжига сопровождается выделением большого количества легкоподвижных атомов кремния в междоузлиях. Эти атомы, мигрируя к поверхности, залечивают вакансии в поверхностном слое. [6]

Сторонники гипотезы аморфного слоя объясняют повышенную твердость полированных поверхностей беспорядочной и плотной упаковкой атомов в аморфном слое, образованном в результате, возникновения и быстрого затвердевания жидкой фазы. [7]

Зависимость рН осажде-ная фосфата железа от концвнт-I - в фосфатирушем растворе № А-1. 2 - в растворе Ш-1 0Г5 г / л Г. [8]

Торможение процесса формирования аморфного слоя на стальной и оцинкованной поверхностях в растворе КФА-I в присутствии фторидов связано, очевидно, с ухудшением условий для образования зародышей кристаллизации. Зародышами кристаллизации в растворах сш) 2-но, ускорителем являются: для стальной поверхности - третичный фосфат железа, для цинковой - фосфат пинка. [9]

Находящиеся в центральной окружности аморфные слои и аморфные твердые тела по существу также представляют собой стеклообразные тела. [10]

При этом образуются либо аморфные слои либо слои без дефектов. [11]

Внедрение кристаллических элементов в аморфный слой, разделяющий следующие один за другим блоки со сложенными цепями, может привести к образованию новых кристаллических мостиков. Они связывают блоки через аморфный слой и таким образом существенно способствуют передаче усилия. Кроме того, это добавляет новые связывающие элементы и повышает однородность поля напряжений в кристаллах. [12]

Рассмотрим подробнее причины возникновения аморфного слоя кремния, подобного тому, который образуется при интенсивном ра-зупорядочивающем ионном или у-облучении полупроводников. При окислении разрывается связь Si-Si и устанавливается гораздо более прочная связь Si-О, в результате чего в каждом акте окисления выделяется весьма большая энергия. Мы полагаем, однако, что более существенным для процесса аморфизации кремниевой подложки является процесс передачи энергии непосредственно на дефектообразование. Такой адиабатический процесс весьма вероятен в силу неравновесного процесса формирования поверхности, особенно в случае высокотемпературного окисления. Следовательно, механизм образования дефектов в ходе окисления является автогенерационным. [13]

Действительно, в электронном микроскопе ровный аморфный слой, образующийся в процессе сушки, невозможно отличить от кристалла, на котором он находится. [14]

Электронографически же было показано возникновение аморфного слоя ( толщиной 10 - 5 мм) на поверхности металла при полировке и при трении с нагрузкой. [15]

Страницы: 1 2 3 4