Оксидной слой
Cтраница 3
Изменения структуры оксидного слоя во время наблюдения вызваны кристаллизацией вследствие сильного нагревания из-за поглощения электронных лучей. Образующиеся кристаллы вырастают вертикально, создавая между собою углубления, воспринимаемые наблюдателем как поры в оксидном слое. [31]
Удельное сопротивление оксидного слоя, измеренное на образце, заформованном при 150 в, составляет при 100 в - 9 - Ю16 ом-см, при 60 в - 5 7 - 1016 ом-см. Эти значения получены при положительном танталовом электроде и отрицательном золотом электроде. [32]
Учет неоднородности оксидного слоя как по методу Морозова, так и по методу Беловой, позволяет удовлетворительно объяснить наблюдаемую на опыте зависимость емкости оксидного слоя от температуры и частоты. [33]
Первичная формовка оксидного слоя может быть выполнена в стационарных ваннах. При таком методе формовки куски фольги натягиваются на раму, имеющую каркас из изоляционного материала. Рама устанавливается в ванну, заполненную соответствующим электролитом, и фольга присоединяется к положительному, а ванна к отрицательному полюсу источника постоянного тока. В первый период формовки в ванне поддерживается возможно более высокая постоянная плотность тока, а напряжение на ванне поднимается до тех пор, пока не будет достигнуто заданное напряжение формовки. Во второй период формовки напряжение на ванне поддерживается постоянным, а сила тока в ванне убывает. [34]
Процессы ослабления оксидного слоя на аноде, вызывающие увеличение тока утечки после длительного хранения, принято называть расформовкой. В связи с электрохимическим характером процесса расформовки, повышение температуры при хранении резко ускоряет этот процесс. В алюминиевых электролитических конденсаторах, вследствие высокой химической активности алюминия, процессы расформовки выражены гораздо сильней, чем у танталовых электролитических конденсаторов. [36]
 |
Структура гидра - [ IMAGE ] - 47. Образование сложной. [37] |
Изменение характера оксидного слоя меняет величину и знак заряда поверхности. Это в свою очередь приводит к изменению электрических характеристик приборов. [38]
Изменения структуры оксидного слоя во время наблюдения вызваны кристаллизацией вследствие сильного нагревания из-за поглощения электронных лучей. Образующиеся кристаллы вырастают вертикально, создавая между собою углубления, воспринимаемые наблюдателем как поры в оксидном слое. [39]
 |
Напряженность поля в оксидных слоях. [40] |
Поскольку толщина оксидного слоя на вентильном металле после длительной формовки пропорциональна напряжению формовки, следует считать, что значение напряженности электрического поля в оксидном слое, устанавливающееся в конце формовки, является предельным равновесным значением. При этом значении напряженности поля оксидный слой в электролите может существовать неопределенно долгое время, не претерпевая изменений. [41]
Первичная формовка оксидного слоя может быть выполнена в стационарных ваннах. В этом случае процедура формовки мало чем отличается от формовки анодов электролитических конденсаторов с жидким электролитом. [42]
Практически толщина оксидного слоя - может колебаться от сотых долей микрона до 10 л и более. [43]
Относительная толщина оксидного слоя определяется пескоструйным аппаратом Гарднера. [44]
Процесс образования оксидного слоя на вентильном металле ( так называемый процесс формовки) определяется физическими и химическими свойствами данного металла, а также электролита. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5