Алюминиевый слой

Cтраница 1

Алюминиевый слой можно наносить на оцинкованную или фосфатированную поверхность резьбы, при этом образуется биметаллическое покрытие ( цинк алюминий), которое надежно предохраняет резьбовое соединение от агрессивного воздействия углеводородов и даже влажных сернистых газов. Уплотнение резьбовых соединений мягким металлом позволяет использовать эти соединения практически на различных глубинах при любых температурах в скважине. [1]

Алюминиевые слои в качестве материала для решеток были предложены 45 лет назад и к настоящему времени получили широкое распространение. Это объясняется хорошими отражательными свойствами алюминия в указанной области спектра, а также высокой структурной однородностью слоев, пластичностью, хорошей адгезией к стеклу и относительной простотой метода получения путем испарения в вакууме. Перед алюминированием стеклянную поверхность для повышения адгезии ее к алюминию тщательно очищают химическим способом, обрабатывают в тлеющем разряде и затем покрывают тонким слоем хрома. [2]

Микроструктура напыленного вольфрама на графитовый стержень диаметром 40 мм до травления, X 100 ( я и после травления, ХЗОО ( б. [3]

Структура алюминиевого слоя - литая дендритообразная. Слой вольфрама имеет мелкозернистую структуру полиэндриче-ского строения. [4]

Толщина алюминиевого слоя должна быть такой, чтобы он окислялся неполностью. Его стравливают, и на подложке остается нужный рисунок тантала. Толщина d ( мкм) пленки, подвергающейся сквозному окислению, должна уловлетворять соотношению d7 5 - 10 - 4 Un, где Уи - напряжение искрения, В. [5]

Влияние формы баллона трубки на отражение световых лучей от его стенок [ IMAGE ] - 25. Засветка сферического экрана лучами от электронного пятна. [6]

Проводимость алюминиевого слоя обеспечивает - уход электронов с экрана в цепь второго анода. Поэтому критический потенциал экрана может быть много выше, чем без металлизации. Следовательно, возможны большие скорости электронов, что увеличивает яркость свечения. Увеличению яркости способствует отражение световых лучей от алюминиевой пленки. Ионы, имеющие сравнительно небольшую скорость, не пробивают алюминиевую пленку, и ионного пятна не возникает. А электроны, обладая большой скоростью, проникают сквозь металлическую пленку в люминофор, хотя и теряют часть энергии на пробивание пленки. [7]

В алюминиевом слое выявлена диффузионная прослойка, ее твердость HVbu 280 - 500 ед, для алюминия HV5o 37 - 40, а для вольфрама ЯУ5о 360 - 460 ед. [8]

После изоляции алюминиевого слоя деталь подвергается диффузионному отжигу по следующему гргфику: загрузка в печь с температурой 600 - 700 г равномерный постепенный нагрев до температуры 1200 - 1250, выдержка при этой температуре 30 - 50 мин. Глубина слоя алюминия на деталях, алитированных таким методом, составляет 0 8 - 0 9 мм. [9]

Светоотдача люминесцентного экрана Ь со слоем алюминия и без него в зависимости от ускоряющего электроны напряжения [ Л. 92 ]. [10]

С помощью алюминиевого слоя улавливаются бомбардирующие экран ионы, благодаря чему увеличивается долговечность экрана. [11]

Обычно толщина напыленного алюминиевого слоя составляет 0 08 - 0 2 мм. [12]

С целью предохранения алюминиевого слоя от окисления и расплавления при последующем нагреве детали подвергают изоляции, которая состоит в покрытии алюминиевого слоя 10 - 20 % - ным раствором какой-либо хлористой соли, после чего наносят слой натриевого жидкого стекла и обсыпают кварцевым песком. Далее детали подвергают просушке и снова покрывают жидким стеклом. [13]

Чистку зеркал с наружным алюминиевым слоем не следует производить сухой тряпкой или ватой, так как эти зеркала легко повредить при неаккуратной чистке. [14]

Зависимость коэффициента отражения сернистого цинка от угла падения для. [15]

Страницы: 1 2 3 4