Cтраница 1
Насыщенный слой обладает повышенными коррозионной стойкостью, окалиностойкостью и износостойкостью. [1]
Насыщенный слой закиси-окиси урана последовательно закрывают четырьмя дисками с отверстиями различного диаметра. [2]
Излучение насыщенного слоя определяется только площадью поверхности и не зависит от толщины слоя. Толщина слоя насыщения зависит от энергии а-излучателя. [3]
Образование насыщенного слоя паров определяется молекуляр-но-кинетическими параметрами вещества ( кинетическое испарение) или скоростью распространения паров в окружающей среде - диффузионное испарение. По мере того, как часть вещества диффундирует, происходит испарение соответствующего количества жидкости. [4]
Рассчитывают активность насыщенного слоя по полученной ранее эталонной кривой. Для этой цели на оси абсцисс откладывают значения толщины слоя препарата; из полученной точки восстанавливают перпендикуляр до пересечения с кривой; затем находят величину ординаты, как долю активности слоя насыщения. Разделив измеренную на опыте активность на эту долю, получают активность в слое насыщения. Из соотношения активности при толщине слоя насыщения препарата и эталона рассчитывают содержание S35 в препарате. [5]
Перенос компонента поперек насыщенного слоя происходит согласно закону Фика: / - Z) gradC, где С - текущая концентрация адсорбтива в газовой фазе, заполняющей поры отработанного слоя адсорбента. [6]
Для регенерации насыщенного слоя адсорбента из основного потока отбирается регенерационный газ 11 и через нагреватель 2 или обводную линию поступает на нагрев или охлаждение адсорбента. Газ регенерации обычно следует через адсорбенты снизу вверх, а осушаемый газ в противоположном направлении. [7]
Чтобы вернуть такой однодоменный насыщенный слой к структуре с полосовыми доменами, необходимо воздействовать на него изменяющимся по определенному закону ( в частном случае, экспоненциально убывающему) размагничивающим полем требуемой напряженности. Дальнейший переход к ЦМД можно осуществить сначала локальными магнитными полями, рассекая с их помощью полосовые домены на небольшие куски, которые затем с помощью поля смещения превращают в ЦМД. [8]
С момента сформирования насыщенного слоя сорбция происходит при режиме параллельного переноса фронта сорбции. С этого времени концентрация фильтрата становится равной концентрации исходного раствора. [9]
В зависимости от глубины насыщенного слоя и концентрации в этом слое соответствующих элементов изменяются свойства с. [10]
![]() |
Микроструктура низкоуглеродистой стали ( 0 15 % С. Х200.| Сталь, показанная на 42, после цементации. Х200. [11] |
В зависимости от глубины насыщенного слоя и концентрации соответствующих элементов в этом слое изменяются свойства стали. Микроанализ позволяет определить глубину такого диффузионного слоя и его примерную концентрацию. На рис. 43 дана микроструктура стали с 0 15 % С, а на рис. 44 - микроструктура поверхностного слоя этой же стали после насыщения углеродом. [12]
![]() |
График зависимости вязкости паровоздушной смеси от температуры и концентрации бензиновых паров. [13] |
Ускорение процесса массоотдачи вследствие турбулизации насыщенного слоя у поверхности испарения ведет к росту концентрации паров в ГП, а последнее - к увеличению потерь. [14]
В случае модифицирования поверхности субстрата предельно насыщенным слоем ПАВ, когда может происходить вытеснение физически связанного ПАВ с поверхности металла в объем клеевой композиции, глобулярная структура полимера и частицы наполнителя выявляются менее отчетливо. [15]