Снижение - работа - выход
Cтраница 1
 |
Зависимость величины отношения ffg / fff для кубо-октаадра по Бонду ( 1, ь1 а Для сферы ( Я и Nfllft для сфер ( 3. [1] |
Снижение работы выхода определяется выражением Дф еа / а, где е - заряд электрона, а - зазор. При зазоре порядка десятков ангстрем снижение Аф столь велико, что при умеренных температурах идет заметная термоэлектронная эмиссия, которая определяет электропроводность и ее температурный коэффициент. [2]
 |
Устройство L-катода. [3] |
Снижение работы выхода поверхности такого катода осуществляется за счет образования на ней пленки бария, почему и считается, что L-катод является пленочным эмиттером. Атомы бария располагаются на поверхности вольфрама или, что более вероятно, на кислородном слое, который всегда имеется на поверхности вольфрама. Работа выхода такой поверхности при рабочей температуре имеет величину около 2 эв. [4]
 |
Ширина запрещенной зоны Е сродство к электрону х и порог фотоэмиссии / ь. [5] |
Снижение работы выхода полупроводников путем адсорбции на их поверхности электроположительных атомов ( цезия, бария и других) приводит к уменьшению X и резкому увеличению квантового выхода. Полупроводники с ОЭС обладают наибольшим квантовым выходом в видимой и ближней инфракрасной областях спектра. [6]
Явление снижения работы выхода под воздействием электрического поля и сил зеркального изображения, впервые обнаруженное в опытах по термоэлектронной эмиссии в вакуум, носит название эффекта Шоттки. Этот эффект может оказаться существенным на границах раздела МД и ДП ввиду больших электрических полей, которые существуют в системе МДП. Например, при § 107 в / см понижение высоты барьера на границе МД составляет около одного электронвольта. Заметим, что в типичных МДП структурах исходная высота потенциальных барьеров на границах МД и ДП настолько большая, что эмиссия Шоттки не вносит существенного вклада в проводимость диэлектрического слоя при комнатных температурах. [7]
Как было ранее подчеркнуто автором [46, 246], снижение работы выхода оказывает сильное влияние на теплоту адсорбции. [8]
 |
Параметры электродуговых плазмотронов в плазменно-частотных металлургических печах. [9] |
Наибольшее распространение в комбинированных печах получил условно нерасходуемый вольфрамовый электрод, легированный торием для снижения работы выхода электрона и снабженный водяным охлаждением. Второй электрод - анод ( см. рис. 14.7) - проходит через дно комбинированной печи, выполненное из тугоплавкого материала, и находится в контакте с расплавом. Материал анода графит ( когда это возможно по соображениям качества выплавляемого материала), нержавеющая сталь, Армко-сталь. [10]
 |
Параметры электродуговых плазмотронов в плазменно. [11] |
Наибольшее распространение в комбинированных печах получил условно нерасходуемый вольфрамовый электрод, легированный торием для снижения работы выхода электрона и снабженный водяным охлаждением. Второй электрод - анод ( см. рис. 14.7) - проходит через дно комбинированной печи, выполненное из тугоплавкого материала, и находится в контакте с расплавом. Материал анода - графит ( когда это возможно по соображениям качества выплавляемого материала), нержавеющая сталь, Армко-сталь. [12]
Поэтому при изготовлении электронных ламп применяются специальные покрытия и способы обработки катодов, приводящие к снижению работы выхода. [13]
Внешнее электрическое поле приводит к снижению потенциального барьера у поверхности тела, а следовательно, к снижению работы выхода. [14]
В некоторых типах приборов попадание больших количеств бария на другие электроды и изоляторы может приводить к снижению работы выхода поверхностей этих электродов и к появлению междуэлектродной проводимости, что в ряде случаев ухудшает работу приборов. В таких приборах также следует принимать меры для уменьшения скорости испарения активных веществ с катода. [15]
Страницы: 1 2 3