Cтраница 5
Как отмечалось выше, при электронно-лучевом методе изготовления фотошаблонов точность рисунка ограничена обратным рассеянием электронов. Для уменьшения этого эффекта вместо электронов с малой массой хорошо использовать более тяжелые ионы. [61]
В последнее время все более широкое применение для изготовления фотошаблонов без выполнения оригиналов находят микрофотонаборные установки. Первая из семейства отечественных микрофотонаборных установок - установка ЭМ-508, которая предназначена для быстрого и дешевого изготовления прецизионных фотошаблонов, применяемых в производстве ИМС. В установке использован принцип фотонабора, по которому нужную топологию фотошаблонов набирают из некоторого количества стандартных прямоугольных элементов, последовательно экспонируемых в нужных местах фотопластины. Оригинальное конструктивное решение ряда узлов позволило реализовать этот принцип в установке для промышленного изготовления прецизионных фотошаблонов. В от-личии от фотонаборных установок зарубежных фирм в этой уста-новке используются датчики перемещения на отражательных дифракционных решетках. [62]
![]() |
Частотно-контрастная характеристика объектива для проекционной фотолитографии. К - контраст изображения. R - разрешающая способность.| Падение освещенности на краю изображения. [63] |
Надо отметить, что хотя объективы для целей изготовления фотошаблонов весьма сложны и дороги, обойтись без них на современном уровне технологии невозможно. [64]
В отечественной промышленности и за рубежом [85] процесс изготовления фотошаблонов для интегральных схем ( особенно для схем высокой степени интеграции) в связи с большой трудоемкостью и высокими требованиями к точности автоматизируется. При этом используются как специализированные автоматы управления координатографами для вычерчивания оригиналов или микрофотонаборными установками, так и системы управления на базе мини - ЭВМ. [65]