Cтраница 2
Чтобы получить необходимую величину удельного сопротивления пленки в процессе ее напыления одним из известных и рассмотренных выше способов, следует контролировать толщину наносимой пленки. [16]
![]() |
Влияние парциального давления / азота. [17] |
По мере повышения давления азота удельное сопротивление пленки а - Та растет вследствие захвата азота в межузельные позиции пленки. Эта структура сохраняется вплоть до насыщения пленки азотом. Затем избыточный азот вызывает образование в пленках соединения Ta2N и кривая 5D становится пологой. [18]
![]() |
Зависимость удельного сопротивления пленок, полученных катодным распылением тантала в аргоне, от парциального давления кислорода, азота, окиси углерода и метана. [19] |
С увеличением парциального давления кислорода удельное сопротивление пленки возрастает на несколько порядков, а температурный коэффициент сопротивления плавно уменьшается и при давлении 2 - 10 - 5 мм рт. ст. становится отрицательным. [20]
![]() |
Зависимость удельного сопротивления от компонентного состава сплава медь - золото.| Зависимость удельного сопротивления тантала от содержания примесного кислорода. [21] |
Кроме того, высокие значения удельного сопротивления пленок, получаемых в плохих условиях, осаждения, могут быть обусловлены образованием изолирующей фазы, которая беспорядочно распределяется по всей пленке. На рис. 3 [5] показан пример перехода примеси из растворенной в изолирующую фазу и влияние последней на удельное сопротивление. [22]
Замечено [122], что величина удельного сопротивления свежеосажденных пленок и пленок, обработанных термически при нагреве до 550J С, различается в 1 5 - 2 раза. [23]
На рис. 3 представлена зависимость удельного сопротивления керметовой пленки последнего вида от весового соотношения ( 7 %) входящих в нее компонентов. [24]
Помимо толщины, может меняться и удельное сопротивление пленки от одной части области осаждения к другой. Это может быть вызвано, например, локальными изменениями температуры подложки в процессе осаждения [13], которые оказывают влияние на степень окисления и на возможность последующего отжига пленки. Это может быть вызвано также натеканием или газоотделением, ведущими к различиям в поверхностном сопротивлении за счет появления значительных локальных загрязнений. Если используются подложки с недостаточно гладкой поверхностью, в определении уровня управления поверхностным сопротивлением степень шероховатости также играет роль. [25]
На рис. 4.13 показана типичная зависимость удельного сопротивления пленки от ее толщины. [26]
![]() |
Зависимость оптической ширины запрещенной зоны пленок ZnxCdi - xS от параметра х. [27] |
Увеличение концентрации Zn обычно сопровождается повышением удельного сопротивления пленок сплава на несколько порядков величины. Дас [116] установил, что при увеличении содержания Zn уменьшаются как концентрация носителей, так и их подвижность. [28]
Показано, что у варакторов с удельным сопротивлением эпитак-сиалыюй пленки более 5 Ом см на частотах 3 - 9 Ггц наблюдается существенная частотная зависимость, проявляющаяся в уменьшении значений емкости и сопротивления диода и степени ее нелинейности. Качественно характер этой зависимости объясняется наличием емкости базы, которую надо учитывать, если время диэлектрической релаксации обьемного заряда ( 8 ре) сравнимо с периодом СВЧ колебаний. [29]
Фигельсон и др. [56] отмечали, что удельное сопротивление пленок CdS Se осаждаемых методом пульверизации с последующим пиролизом, слабо зависит от их состава, тогда как температура подложки, скорость распыления раствора и скорость осаждения пленок оказывают значительное влияние на их электрические свойства. [30]