Cтраница 1
![]() |
Величина рассеивающей способности кадмиевой цианистой ванны. [1] |
Рассеивающая способность ванны характеризует количественное распределение осажденного металла на поверхности изделия. Но не редки случаи, когда в ряде электролитов изделие сложной формы не покрывается сплошь по всей поверхности; углубленные участки изделия, как правило, остаются непокрытыми. [2]
Плохая рассеивающая способность ванны бывает при высоком содержании серебра в электролите, при недостатке свободного цианида и при отсутствии карбонатов. [3]
Практически рассеивающую способность ванны определяют. [4]
![]() |
Изменение силы тока при электрофоретическом осаждении сополимеров этилакрилата с метакриловой кислотой в зависимости от времени осаждения. [5] |
Рассмотрим подробнее рассеивающую способность электро-форезной ванны, поскольку именно от нее зависят равномерность и однородность осадка на сложнопрофилированных изделиях. Рассеивающая способность электрофоретических растворов Отличается от рассеивающей способности обычных гальванических ванн тем, что зависит от электроизолирующих свойств образующегося покрытия. Чем лучше образующийся осадок защищает металл от протекания на нем электролизных процессов, тем активнее происходит перераспределение тока на обнаженные, менее доступные места детали. Кроме того, в отличие от обычных электрохимических систем, где электропроводность растворов оказывает решающее действие на распределение тока на электроде, в электрофорезных системах ее роль оказывается второстепенной. [6]
![]() |
Величина рассеивающей способности кадмиевой цианистой ванны. [7] |
В этом случае рассеивающая способность ванны принимает отрицательное значение. [8]
Ввиду того что рассеивающая способность ванны недостаточна, аноды следует располагать симметрично по обе стороны изделия и придавать им примерно такую же форму. Работу нужно вести под тягой, так как выделяющиеся газы увлекают с собою капельки электролита. [9]
При таких параметрах обеспечивается рассеивающая способность ванны 13 - 16 см ( по методу ВАЗа) и осаждение пленок толщиной 17 - 25 мкм. Отверждение покрытия производится при 180 С в течение 30 мин. [10]
Блестящие мелкокристаллические осадки при высокой рассеивающей способности ванны могут быть получены в скоростном бесцианистом электролите. Основным компонентом этого электролита является комплексная соль - гексааминоцинксульфат, очень устойчивая в процессе работы. [11]
Блестящие мелкокристаллические осадки цинка при высокой рассеивающей способности ванны могут быть получены из бесцианистого электролита, основным компонентом которого является комплексная соль - гекса-аминоцинксульфат, очень устойчивая в процессе работы. [12]
На рис. 41 и 42 представлено изменение рассеивающей способности ванны, толщины покрытий, а также частотного отношения емкостной и омической составляющих импеданса при исследовании осажденных пленок резидрола с изменением напряжения и продолжительности процесса электроосаждения, а на рис. 43 - соответствующая электронно-микроскопическая структура покрытий. Из этих результатов следует, что с ростом электрических параметров и продолжительности проведения процесса наблюдается рост рассеивающей способности ванны, защитных свойств покрытий и уплотнение упаковки в структуре покрытий. Однако изменение указанных характеристик проходит через максимум. [13]
Недостаток способа-изделия сложного профиля ( из-за слабой рассеивающей способности ванны) очищаются плохо. [14]
![]() |
Ячейки для определения показателя рассеивания. [15] |