Излучение - линия
Cтраница 1
Излучение линии, характеристической для данного элемента, происходит, когда энергия, передаваемая атому при столкновении, равна либо превосходит энергию возбуждения, необходимую для того, чтобы вызвать электронный переход. Количество энергии, которое может приобрести частица в дуге, находится в сильной зависимости от температуры плазмы дуги. Температура, в свою очередь, определяется главным образом потенциалом ионизации того элемента, который легче других теряет электрон. [1]
Излучение линии кислорода 7771 93 А регистрируется на пленку Инфра-760 или Инфра-810. Спектр первого импульса не регистрируется, так как этот импульс служит для очистки обыскриваемого участка образца от загрязнений. Для получения нормальных почернений аналитической линии кислорода нужно произвести 2 - 7 импульсов ( на одно и то же место образца), в зависимости от чувствительности пленки. [2]
Излучение линии НЗОо имеет круговую поляризацию, соответствующую зеемановскому эффекту в сильном ( 22 мГс) магнитном поле. При данном магнитном поле равновесию между плотностью магнитной энергии и плотностью тепловой энергии плазмы соответствует темпера тура около 5000 К. Это значение существенно меньше температуры, ожидаемой для НП-газа, но является вполне разумной величиной. [3]
Поток излучения линии 2537 А лампы ПРК-7 составляет 34 3 вт. [4]
 |
Зависимость интенсивности атомных линий от объемной скорости вводимого в пламя раствора. [5] |
Интенсивность излучения линий атомов, имеющих относительно низкие энергии верхних уровней, может быть сопоставимой с интенсивностью тех же линий просвечивающего источника. И хотя постоянная составляющая сигнала приемника излучения отсекается, уровень помех от собственного излучения пламени на частоте регистрации может оказаться настолько высоким, что эти помехи станут основным фактором, ограничивающим чувствительность анализа. [6]
VQ интенсивность излучения линии с гауссовым профилем спадает быстрее, чем в случае линии с лорен-цевым профилем, однако в центре линии qa более полога. [7]
На интенсивность излучения линии существенно влияет температура плазмы. Наибольшая интенсивность дуговых линий наблюдается при температуре, соответствующей началу заметной ионизации его атомов. По мере повышения потенциала ионизации элемента для получения большей чувствительности требуется более горячий источник. Температурой плазмы чаще управляют, вводя в пробу буфер. Вопросы подбора и применения буфера рассмотрены в предыдущей главе, а также в описании частных методик. Здесь отметим лишь, что с введением в пробу элементов с низким потенциалом ионизации повышается также интенсивность линий однократно ионизированных атомов трудновозбудимых элементов при искровом возбуждении. При введении в пробу около 30 % соединений бария, цезия и рубидия интенсивность линий SII 5453 88 А, О II 4794 54 А и BrII 4785 50 А повышается в 2 - 3 раза. [8]
Поглощение растворами излучения линий ртутного спектра с длиной волны 313, 366, 405, 436, 546 и 578 ммк и областей около 492 и 605 ммк можно измерять при помощи электрофото-колориметра типа ФЭК-56, где осветителем служит ртутно-квар-цевая лампа сверхвысокого давления СВД-120А со светофильтрами, максимум пропускания которых соответствует линиям ртутного спектра. [9]
Обнаружение в излучении линии СП 158 мкм протяженной, диффузной составляющей согласуется с данными низкочастотных обзоров по РРЛ углерода, согласно которым в направлении на центральную область Галактики располагается протяженная область ионизованного углерода. [10]
Для УФ-возбуждения чаще всего применяют излучение линий Hell ( 40 8 эВ), Nell ( 26 9 эВ), Не. Следовательно, возбуждение не затрагивает глубоких атомных уровней, и метод используют в основном для возбуждения валентных электронов. Хотя это должно способствовать большей поверхностной специфичности УФ-возбуждения, однако выигрыш ограничен в той мере, в какой метод ЭСХА уже поверхностно специфичен вследствие ограничения глубины выхода электрона. Кроме того, в отношении химической индивидуальности ЭСХА-спектры на практике специфичнее, так как обусловлены главным образом возбуждением внутренних электронов; для металлов УФ-возбуждение в основном применяется с целью выяснения зонной структуры, а не для химического анализа. [11]
 |
Схема эмиссионного фотометра. [12] |
Определение основано на сравнении интенсивности излучения линии определяемого элемента от исследуемого и стандартного растворов. [13]
Определение основано на сравнении интенсивности излучения линии определяемого элемента в исследуемом и стандартном растворах. [15]
Страницы: 1 2 3 4