Стабилизация - плазма - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Нет ничего быстрее скорости света. Чтобы доказать это себе, попробуй открыть дверцу холодильника быстрее, чем в нем зажжется свет. Законы Мерфи (еще...)

Стабилизация - плазма

Cтраница 2


Хотя магнитная стабилизация и весьма перспективна, при выращивании кристаллов она еще редко применяется. Стабилизация плазмы при выращивании кристаллов осуществляется главным образом за счет регулирования скорости и направления газового потока между Электродами. Если потоку придать круговое движение так, чтобы в центре вонзикала область низкого давления, иными словами, образовался вихрь, то плазма должна быть устойчивой в этой области. Вихревая стабилизация особенно удобна в индукционных плазмах. В горелках же постоянного тока чаще всего применяется стабилизация газовым чехлом. В такой горелке электрическую дугу зажигают между вольфрамовым катодом и полым, охлаждаемым водой анодом. Дуговой разряд не выходит за пределы камеры, а газовый чехол, протяженность которого значительно превышает диаметр камеры, препятствует ее контакту со стенками. Плазмы в горелках такой конструкции могут действовать в атмосфере Н2, N2, Аг, Не и О2, но, как показал опыт, в окислительной обстановке довольно трудно поддерживать дугу длительное время. Следует признать, что до сих пор имеется мало сведений относительно получения кристаллов высокого качества с помощью плазменных горелок постоянного тока в тех случаях, когда их нельзя было бы вырастить с большей легкостью другими методами. Тем не менее в принципе горелки постоянного тока, по-видимому, весьма перспективны.  [16]

Магнитное поле этого тока удерживает кольцевой шнур плазмы от соприкосновения со стенками камеры. Для стабилизации плазмы используется еще дополнительное магнитное поле, создаваемое катушками, размещенными вдоль тора.  [17]

18 ВЧ плазматрон. 1-факел отходящих газов. 2-зона возбуждения спектров. 3-зона поглощения ВЧ энергии. 4-нагреват. индуктор. 5-вход охлаждающего газа ( азот, аргон. 6-вход плазмообра-зующего газа ( аргон. 7-вход распыленной пробы ( несущий газ-аргон.| Оптическая схема спектрографа. 1-входная щель. 2-поворотное зеркало. 3-сферич зеркало. 4-дифракц. решетка. 5-лампочка освещения шкалы. 6-шкала. 7-фотопластинка.| Схема квантометра ( из 40 каналов регистрации показано только три. 1 -полихроматор. 2-дифракц. решетки, 3-выяодные щели. 4 - ФЭУ. 5-входные щели. 6-штативы с источниками света, 7-генераторы искрового и дугового разрядов, 8 - электронно-регистрирующее устройство. 9-управляющий вычислит, комплекс. [18]

При анализе жидких-проб ( р-ров) наилучшие результаты получаются при использовании высокочастотных ( ВЧ) и сверхвысокочастотных ( СВЧ) плазматронов, работающих в инертной атмосфере, а также при пяаменно-фотометрич. Для стабилизации т-ры плазмы разряда на оптимальном уровне вводят добавки легкоионизируемых в-в, напр, щелочных металлов. В нем разделены зоны поглощения ВЧ энергии и возбуждения спектров, что позволяет резко повысить эффективность возбуждения и отношение полезного аналит. В зону возбуждения пробы вводят с помощью пневматических или ( реже) ультразвуковых распылителей. При анализе с применением ВЧ и СВЧ плазматронов и фотометрии пламени относит, стандартное отклонение составляет 0 01 - 0 03, что в ряде случаев позволяет применять АЭСА вместо точных, но более трудоемких и длительных хим. методов анализа.  [19]

Ведь плазменный нагрев и ценен в основном тем, что в противоположность пламенному нагреву позволяет поддерживать либо окислительные, либо восстановительные, либо нейтральные условия. Более удовлетворительные результаты дает способ стабилизации плазмы в магнитных полях. Поскольку плазма представляет собой поток проводящего электрический ток газа между электродами, на нее может оказывать действие магнитное поле и, изменяя соответствующим образом конфигурацию поля, можно придавать разряду нужную форму. Подробно такое взаимодействие рассматривается в магнитной гидродинамике.  [20]

Существует несколько методов поддержания термической устойчивости в разрядной камере ВЧ-плазмотрона. Наиболее широко распространен газовихревой метод стабилизации плазмы. Газ подается в кварцевую трубку тангенциально, вследствие чего газовый поток движется по спирали. При этом в центре трубки возникает пониженное давление, плазма центрируется и, таким образом, обеспечивается охлаждение стен разрядной камеры газовым потоком.  [21]

Наряду с этим представляют интерес и другие возможности получения устойчивых конфигураций плазмы. В настоящем докладе рассматривается вопрос о стабилизации плазмы с помощью неоднородных магнитных полей специального вида. Предложенные здесь системы могут, по-видимому, использоваться как самостоятельно, так и в сочетании с пинч-эффектом.  [22]

Главной индивидуальной чертой токамака является наличие сильного магнитного поля, направленного в тороидальном направлении. Это поле, которое создается специальными катушками, служит для стабилизации плазмы.  [23]

D налагает и циклотронное излучение. Также в неблагоприятную сторону действует необходимость увеличения магнитного поля в целях стабилизации плазмы. В основной области частот циклотронное излучение носит поверхностный характер ( сравн. D они доходят до неск.  [24]

При описании явлений в плазме здесь использованы различные подходы; метод исследования описан достаточно подробно, но без излишней детализации, которую читатель может найти в уже имеющихся монографиях. Основное внимание сосредоточено на взаимодействии электронных и ионных пучков с полностью ионизованной и слабоионизованной плазмой, взаимодействии высокочастотных полей с плазмой, проблеме удержания и стабилизации плазмы в магнитных ловушках, проблеме турбулентного нагрева плазмы, взаимодействии мощного лазерного излучения с плазмой.  [25]

Каждый из рассмотренных выше методов нанесения покрытий в вакууме имеет определенные достоинства и недостатки. Так, метод катодного распыления, отличаясь большой универсальностью, ограничен сравнительно низкой скоростью осаждения покрытий; термическое напыление в вакууме характеризуется высокой производительностью, но имеет существенный недостаток: низкий коэффициент использования испаряемого материала; метод ионного осаждения, позволяющий получать покрытия с высокой степенью однородности по толщине и с хорошей адгезией к основе, ограничен трудностью стабилизации плазмы разряда, а также сложностью оборудования, связанной с необходимостью использования инертных газов.  [26]

Существует два типа установок с тороидальными камерами, принципиально различающиеся по способу создания дополнительного магнитного поля: стеллараторы и токамаки. В первых такое поле образуется токами во внешних проводниках, во вторых - током в самой плазме, направленным вдоль тора. В реальных установках для повышения надежности удержания и стабилизации плазмы, а также управления процессами, происходящими в ней, создаются и другие более слабые магнитные поля.  [27]

28 Зависимость падения напряжения между электродами от расстояния между ними, полученная на 100-киловаттном плазменном генераторе при устойчивой работе, использовании для плазмообразова-ния азота [ 17, стр. 320 ] и. давлении - 2 ата. [28]

Как упоминалось выше, головка, изготовленная в Темпльском университете, предназначалась для исследования зависимости теплового потока плазмы от мощности дугового разряда и других параметров. Горелка, показанная на рис. 20, представляет собой два блока - анодный и катодный, изготовленные из меди и соединенные друг с другом винтами через фторопластовую прокладку толщиной 6 мм. Винты изолированы от блоков с помощью бакелитового фланца. Стабилизация плазмы продольная, газовая. Вход аргона в камеру осуществляется через восемь отверстий размером 1.5 мм. Катодом является вольфрамовый ( с добавкой 1.8 - 2 % двуокиси тория) стержень, впрессованный в медный катодный блок.  [29]

Аналогично можно показать, что возникшая в плазменном шнуре деформация изгиба будет развиваться и приведет к дальнейшему изгибанию шнура. В настоящее время детально изучены возможные виды неустойчивости плазмы. Для стабилизации плазмы применяют различные варианты использования дополнительных внешних магнитных полей, не связанных с током, проходящим через плазму.  [30]



Страницы:      1    2    3