Газовая стабилизация

Cтраница 1

Температура и источники ее получения. [1]

Газовая стабилизация может быть вихревой и продольной. [2]

Газовая стабилизация разряда осуществляется путем тангенциальной подачи стабилизирующего газа в разрядный промежуток, при этом горячая дуга оттесняется от стенок разрядной камеры, предохраняя последнюю от чрезмерного нагрева и разрушения. Однако при вихревой стабилизации дугового разряда происходит и некоторое сжатие потока плазмы, что ведет к уменьшению объема реакционной зоны, поэтому в некоторых случаях стабилизирующий газовый поток не закручивают, а направляют параллельно столбу дуги. Обычно стабилизирующий газ одновременно является и плазмообразующим веществом. [3]

В таких схемах газовая стабилизация ( сжатие) дугового разряда па начальном участке течения ( вблизи стержневого электрода) и стабилизация стенками канала на установившемся участке приводит к ограничению поперечных размеров ствола и, как следствие, к увеличению плотности тока в дуге и высокому уровню температур нагреваемого газа. На начальном участке, где поперечные размеры сечения ствола резко меняются, основную роль в теплопередаче играют конвективные процессы, которые должны быть учтены при построении расчетных моделей ствола. Известные экспериментальные данные и оценки характера течения газовой плазмы [1, 2, 3] позволяют считать, что практически во всей проводящей области ствола дуги на начальном участке даже при значительных расходах газа реализуется ламинарное течение, в окружающей дугу области при относительно малых расходах газа - ламинарное, а при больших - турбулентное течение. [4]

Основные типы индукционных плазмотронов. [5]

Для целого ряда плазмотехнологических процессов вихревой способ газовой стабилизации нежелателен, требуется аксиальная стабилизация. [6]

Один из вариантов электродугового подогревателя с вихревой или газовой стабилизацией разряда впервые предложил и сконструировал в 1909 г. Шонхер [5] для получения ацетилена из природного газа; установки с такими подогревателями были построены на предприятиях фирмы Хкшс в Германии в 1928 г. и работали при напряжении 8300 в и токе 850 а. [7]

Связанные со стабилизаторами емкости и сопротивления собраны по обычной схеме выпрямителя с газовой стабилизацией, а поэтому особых пояснений не требуют. [8]

При ру, достаточно быстро возрастающем по радиусу, что имеет место при вихревой газовой стабилизации, dNuaJdd2 увеличивается настолько, что становится возможным решение системы (3.2.3), (3.2.6) при k, существенно отличных от 1, даже если ток индуктора возрастает с ростом диаметра разряда. Газовая вихревая стабилизация является в настоящее время основным способом получения разряда, отделенного от стенок разрядной камеры. [9]

Благодаря наличию газовой изоляции, стабилизирующей процесс плазмообразования, устройства такого типа называются плазменными головками с газовой стабилизацией. [10]

Кадры скоростной съемки разрядов. [11]

Описанный способ не позволял, однако, непосредственно получать плазму, состоящую из чистых газов или их смесей, если последние при начальных условиях эксперимента не могли находиться в твердом состоянии и служить в качестве стенок капилляра. Для получения такой плазмы была применена вихревая газовая стабилизация с последующим его растеканием через отверстия в пластинках в направлении электродов. [12]

Разрядные устройства, служащие для получения низкотемпературной плазмы, в настоящее время получили название СВЧ плазмотронов, подобно дуговым и высокочастотным. Такие плазмотроны представляют собой волноводно-резонаторное устройство ( металлическая камера, геометрические размеры которой определены электродинамическими условиями), в котором под действием СВЧ поля формируется плазменное образование, изолированное от стенок металлической камеры либо диэлектрической трубкой ( при низком и среднем давлении газа), либо с помощью газовой стабилизации ( при более высоком давлении), либо с помощью создания определенного распределения электрического поля по объему. [13]

Металлические разрезные камеры имеют прототипом металлургический реактор - так называемый холодный тигель [22, 23], используемый для обработки конденсированных сред. Здесь, однако, эти камеры применены по новому назначению - для нагрева газовых сред [24-26], хотя основные принципы работы примерно те же самые, с некоторой поправкой на специфику среды. На рис. 2.57 приведены основные типы разрядных камер ВЧИ-плазмотронов с различными способами газовой стабилизации плазмы. На рис. 2.58 показан внешний вид ВЧИ-плазмотрона, рассчитанного на мощность 1000 кВт [15] и предназначенного для технологических приложений. Зажигание в плазмотроне такого типа может осуществляться понижением давления или созданием начальной ионизации с помощью факельного или дугового разряда от постороннего источника электропитания. [14]

Зависимость скорости подачи порошка от теплосодержания плазмы аргона для различных коэффициентов использования наносимого матриала. [15]

Страницы: 1 2